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晶体管发射极电流集边效应物理意义之探讨 被引量:7
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作者 石林初 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期14-18,共5页
由基区电阻的自偏压引起的晶体管发射极电流集边效应,是限制晶体管承载电流能力的因素之一[1~4]。本文以发射极电流集边效应发生的程度,分为四个区域,详细探讨了归一化电位和电流密度分布的特点,指出:在Ⅰ~Ⅱ区,发射极电流... 由基区电阻的自偏压引起的晶体管发射极电流集边效应,是限制晶体管承载电流能力的因素之一[1~4]。本文以发射极电流集边效应发生的程度,分为四个区域,详细探讨了归一化电位和电流密度分布的特点,指出:在Ⅰ~Ⅱ区,发射极电流集边效应不明显,晶体管承载电流能力主要由发射区面积决定;在Ⅰ~Ⅲ区,发射极电流集边效应明显,晶体管承载电流能力由发射区面积和发射区有效周长共同决定;在Ⅰ~Ⅳ区发射极电流集边效应已非常突出,晶体管承载电流能力由发射区有效周长决定。 展开更多
关键词 晶体管 发射极 电流集边效应
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一种CMOS新型ESD保护电路设计 被引量:1
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作者 沈放 陈巍 +1 位作者 黄灿英 陈艳 《现代电子技术》 北大核心 2015年第24期128-131,共4页
金属氧化物半导体(MOS)器件的缩放技术使集成电路芯片面临着严重的静电放电(ESD)威胁,而目前采用的ESD保护电路由于电流集边效应等原因,普遍存在着抗静电能力有限、占用较大芯片面积等问题。根据全芯片ESD防护机理,基于SMIC 0.18μm工... 金属氧化物半导体(MOS)器件的缩放技术使集成电路芯片面临着严重的静电放电(ESD)威胁,而目前采用的ESD保护电路由于电流集边效应等原因,普遍存在着抗静电能力有限、占用较大芯片面积等问题。根据全芯片ESD防护机理,基于SMIC 0.18μm工艺设计并实现了一种新型ESD保护电路,其具有结构简单、占用芯片面积小、抗ESD能力强等特点。对电路的测试结果表明,相对于相同尺寸栅极接地结构ESD保护电路,新型ESD保护电路在降低35%芯片面积的同时,抗ESD击穿电压提升了32%,能够有效保护芯片内部电路免受ESD造成的损伤和降低ESD保护电路的成本。 展开更多
关键词 静电放电(ESD)保护 栅极接地NMOS 抗静电 电流集边效应 低成本
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