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侧壁修复提升237 nm AlGaN基Micro-LED光功率密度研究
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作者 郝家龙 李宏博 +9 位作者 吕顺鹏 朱立财 孙文超 张若甲 刘钟旭 蒋科 贲建伟 张山丽 孙晓娟 黎大兵 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第6期970-978,共9页
AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,... AlGaN基深紫外Micro-LED在无掩膜光刻、日盲紫外保密通信等领域具有重要应用前景。然而,侧壁效应和电流拥挤效应严重制约高电流密度下的光功率密度。本研究制备了发光波长237 nm,台面半径分别为12.5、25.0、50.0μm的深紫外Micro-LED,并系统探究了侧壁修复对不同尺寸和不同阵列化Micro-LED的影响规律。研究发现,使用KOH修复侧壁可有效降低AlGaN基深紫外Micro-LED侧壁缺陷密度,减小反向漏电流密度,同时降低由侧壁缺陷导致的肖特基-里德-霍尔(SRH)非辐射复合。对于单台面器件,器件尺寸越小,最大光功率密度越高,但侧壁效应严重制约着小尺寸器件的光功率密度,导致小尺寸器件在低电流密度下光功率密度最低,侧壁修复后,半径12.5μm的器件峰值光功率密度提升最多,提升了186%,且在不同电流密度下光功率密度均最高;对于相同发光面积的阵列化器件,侧壁修复后,阵列化程度越高,光功率密度越高,4×4阵列12.5μm的Micro-LED比半径50.0μm的器件峰值光功率密度提高了116%,其原因是在保持较低侧壁缺陷的情况下,阵列化可以提高电流密度分布均匀性,进而提高光效。该研究有助于提高Micro-LED的光功率密度,并将推动短波深紫外Micro-LED走向实际应用。 展开更多
关键词 侧壁效应 电流拥挤效应 AlGaN micro-LED 侧壁修复 阵列化工程
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磁头内置DFH控制元件可靠性的有限元分析 被引量:1
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作者 肖祥慧 彭敏放 +2 位作者 黎福海 詹杰 唐荣军 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期2140-2144,共5页
磁头内置DFH控制元件的可靠性设计评估十分重要,目前工艺上多采用经验数据指导的方法,误差十分大,理论上是根据传统流体力学的基本原理,利用Matlab软件实现模拟评估的,由于元件尺寸限制,模拟算法会随着舍入误差的叠加而失效.本文使用AN... 磁头内置DFH控制元件的可靠性设计评估十分重要,目前工艺上多采用经验数据指导的方法,误差十分大,理论上是根据传统流体力学的基本原理,利用Matlab软件实现模拟评估的,由于元件尺寸限制,模拟算法会随着舍入误差的叠加而失效.本文使用ANSYS软件,通过实验获得建立模型的基本参数,选择了合适的单元类型、材料属性,给出了磁头的有限元模型.利用模型对元件进行的寿命预测实验表明,有限元模型分析DFH控制元件的设计可靠性问题是有效的,并且得出以下结论:在50Ω的新型DFH计算结果中,其热效应强度比传统屏蔽层大10%以上,实际的寿命失败样品问题区域都在线路的转角处. 展开更多
关键词 DFH 可靠性分析 有限元 效应 电流拥挤效应
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