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电子束实现210 nm栅长115 GHz GaAs基mHEMT器件
被引量:
1
1
作者
曾建平
安宁
+4 位作者
李志强
李倩
唐海林
刘海涛
梁毅
《太赫兹科学与电子信息学报》
北大核心
2018年第1期17-20,37,共5页
为了获得T型栅应变高电子迁移率晶体管(m HEMT)器件,利用电子束(Electron beam,E-beam)光刻技术制备了210 nm栅长,减小m HEMT器件栅极的寄生电容和寄生电阻。采用PMMA A4/PMMA-MMA/PMMA A2三层胶电子束直写的方法定义了210 nm栅长T型栅...
为了获得T型栅应变高电子迁移率晶体管(m HEMT)器件,利用电子束(Electron beam,E-beam)光刻技术制备了210 nm栅长,减小m HEMT器件栅极的寄生电容和寄生电阻。采用PMMA A4/PMMA-MMA/PMMA A2三层胶电子束直写的方法定义了210 nm栅长T型栅极。In Al As/In Ga As异质结Ga As-m HEMT器件的直流特性和高频特性分别通过Agilent B1500半导体参数分析仪和Agilent 360 B矢量网络分析仪测试。直流测试结果显示,210 nm栅长In Al As/In Ga As沟道Ga As-m HEMT单指器件的最大有效输出跨导(gm:max)为195 m S/mm,器件最大沟道电流160 m A/mm。射频测试结果显示,电流增益截至频率(fT)和最高振荡频率(fmax)分别为46 GHz和115 GHz。同时欧姆电极特性和栅极漏电特性也被表征,其中栅极最大饱和漏电流密度小于1×10-8 A/μm。
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关键词
T型栅
应变高电子迁移率晶体管
电流增益截至频率
最高振荡
频率
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职称材料
题名
电子束实现210 nm栅长115 GHz GaAs基mHEMT器件
被引量:
1
1
作者
曾建平
安宁
李志强
李倩
唐海林
刘海涛
梁毅
机构
中国工程物理研究院电子工程研究所
中国工程物理研究院微系统与太赫兹研究中心
出处
《太赫兹科学与电子信息学报》
北大核心
2018年第1期17-20,37,共5页
基金
国家自然科学基金-面上资助项目(61474102)
文摘
为了获得T型栅应变高电子迁移率晶体管(m HEMT)器件,利用电子束(Electron beam,E-beam)光刻技术制备了210 nm栅长,减小m HEMT器件栅极的寄生电容和寄生电阻。采用PMMA A4/PMMA-MMA/PMMA A2三层胶电子束直写的方法定义了210 nm栅长T型栅极。In Al As/In Ga As异质结Ga As-m HEMT器件的直流特性和高频特性分别通过Agilent B1500半导体参数分析仪和Agilent 360 B矢量网络分析仪测试。直流测试结果显示,210 nm栅长In Al As/In Ga As沟道Ga As-m HEMT单指器件的最大有效输出跨导(gm:max)为195 m S/mm,器件最大沟道电流160 m A/mm。射频测试结果显示,电流增益截至频率(fT)和最高振荡频率(fmax)分别为46 GHz和115 GHz。同时欧姆电极特性和栅极漏电特性也被表征,其中栅极最大饱和漏电流密度小于1×10-8 A/μm。
关键词
T型栅
应变高电子迁移率晶体管
电流增益截至频率
最高振荡
频率
Keywords
T-gate
mHEMT
current gain cut-off frequency
maximum oscillation frequency
分类号
TN322.6 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束实现210 nm栅长115 GHz GaAs基mHEMT器件
曾建平
安宁
李志强
李倩
唐海林
刘海涛
梁毅
《太赫兹科学与电子信息学报》
北大核心
2018
1
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