检索结果-维普期刊中文期刊服务平台

四酸消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定催化剂填料瓷球中K、Na、Fe、Ti的含量: 1; 作者剡根姣《理化检验（化学分册）》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期223-225,共3页; 瓷球具有耐高温高压、吸水率低、化学性能稳定等特点,能经受生产过程中温度的反复变化,常作为石油、化工、化肥、天然气及环保等行业反应器内催化剂的覆盖支撑材料和塔填料[1-2],用于增加气体或液体分布点以及支撑和保护强度不高的活性... 展开更多; 关键词二次使用网孔支撑材料化学性能稳定捕集器液体分布活性催化剂电感耦合等离子体原子发射光谱法测定; 在线阅读下载PDF 职称材料

深亚微米/纳米CMOS器件离子蚀刻新技术: 2; 作者成立王振宇 +3 位作者武小红范木宏祝俊赵倩《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期35-40,共6页; 综述了制备深亚微米/纳米CMOS器件的离子蚀刻新技术:考夫曼(Kaufman)离子铣蚀刻、氟基气体多晶硅蚀刻、氯基或溴基气体硅深蚀刻、电子回旋共振(ECR)蚀刻系统和电感耦合等离子体蚀刻器(ICPE)等,并对比分析了上述蚀刻技术各自的优缺点及... 展开更多; 关键词超大规模集成电路纳米CMOS器件离子束蚀刻考夫曼离子源电子回旋共振电感耦合等离子体蚀刻器; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析被引量：6: 3; 作者李勇李玉和 +1 位作者李庆祥訾艳阳《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第2期109-113,共5页; 介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺。对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法。加工过程中采用分步加工... 展开更多; 关键词体硅工艺静电致动微夹持器电感耦合等离子体蚀刻制作工艺微细加工; 在线阅读下载PDF 职称材料

颗粒捕集器中锶对钯测定结果的影响被引量：4: 4; 作者姚慧刘立波杨惠玲《中国测试》 CAS 北大核心 2018年第2期51-55,共5页; 部分颗粒捕集器中含有锶元素,会对钯元素的测定造成干扰,导致钯的测定结果偏高,采用HJ 509标准方法对105Pd监测会造成较大测量偏差。该文通过对大量颗粒捕集器样品的分析,找到锶与钯的影响关系:随着锶与钯浓度比例的增大,对钯的测定结... 展开更多; 关键词院颗粒捕集器锶钯干扰电感耦合等离子体质谱法; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名四酸消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定催化剂填料瓷球中K、Na、Fe、Ti的含量: 1; 作者剡根姣; 机构银川能源学院; 出处《理化检验（化学分册）》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期223-225,共3页; 文摘瓷球具有耐高温高压、吸水率低、化学性能稳定等特点,能经受生产过程中温度的反复变化,常作为石油、化工、化肥、天然气及环保等行业反应器内催化剂的覆盖支撑材料和塔填料[1-2],用于增加气体或液体分布点以及支撑和保护强度不高的活性催化剂。瓷球在经受几百度温差的冲击后,外观变化不大,其内部可能开裂,如果不经检验二次使用,会使其内部的小颗粒碎片下漏,堵塞出口捕集器网孔,造成整个装置出现重大故障和严重经济损失。; 关键词二次使用网孔支撑材料化学性能稳定捕集器液体分布活性催化剂电感耦合等离子体原子发射光谱法测定; 分类号 O657.31 [理学—分析化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名深亚微米/纳米CMOS器件离子蚀刻新技术: 2; 作者成立王振宇武小红范木宏祝俊赵倩; 机构江苏大学电气信息工程学院; 出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期35-40,共6页; 基金江苏省高校自然科学研究基金项目(02KJB510005); 文摘综述了制备深亚微米/纳米CMOS器件的离子蚀刻新技术:考夫曼(Kaufman)离子铣蚀刻、氟基气体多晶硅蚀刻、氯基或溴基气体硅深蚀刻、电子回旋共振(ECR)蚀刻系统和电感耦合等离子体蚀刻器(ICPE)等,并对比分析了上述蚀刻技术各自的优缺点及其应用要点。; 关键词超大规模集成电路纳米CMOS器件离子束蚀刻考夫曼离子源电子回旋共振电感耦合等离子体蚀刻器; Keywords VLSI nanometer CMOS device ion beam etching Kaufman ion source ECR inductively coupled plasma etcher(ICPE); 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学] TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析被引量：6: 3; 作者李勇李玉和李庆祥訾艳阳; 机构清华大学精密仪器与机械学系; 出处《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第2期109-113,共5页; 基金清华大学机械工程学院985研究基金; 文摘介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺。对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法。加工过程中采用分步加工的办法控制蚀刻时间,成功的释放了宽6μm,厚60μm,等效长度达5470μm的悬臂梁型微夹持臂。研制出一种良好性能的具有S形柔性结构夹持臂的梳状静电致动微夹持器。; 关键词体硅工艺静电致动微夹持器电感耦合等离子体蚀刻制作工艺微细加工; Keywords silicon bulk micromachining ICP(Inductance coupling plasma) microgripper; 分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名颗粒捕集器中锶对钯测定结果的影响被引量：4: 4; 作者姚慧刘立波杨惠玲; 机构中国汽车技术研究中心庄信万丰(上海)化工有限公司; 出处《中国测试》 CAS 北大核心 2018年第2期51-55,共5页; 文摘部分颗粒捕集器中含有锶元素,会对钯元素的测定造成干扰,导致钯的测定结果偏高,采用HJ 509标准方法对105Pd监测会造成较大测量偏差。该文通过对大量颗粒捕集器样品的分析,找到锶与钯的影响关系:随着锶与钯浓度比例的增大,对钯的测定结果干扰影响越大。通过进行基体匹配、质量数选择和干扰消除等方法,最终找到采用电感耦合等离子体质谱法准确分析颗粒捕集器中钯的测定方法,可有效避免锶元素对钯元素测量干扰导致的测量偏差。; 关键词院颗粒捕集器锶钯干扰电感耦合等离子体质谱法; Keywords particulate filter strontium palladium interference inductively coupled plasma mass spectrometry; 分类号 TK401 [动力工程及工程热物理—动力机械及工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	四酸消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定催化剂填料瓷球中K、Na、Fe、Ti的含量	剡根姣	《理化检验（化学分册）》 CAS CSCD 北大核心	2022	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	深亚微米/纳米CMOS器件离子蚀刻新技术	成立王振宇武小红范木宏祝俊赵倩	《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心	2005	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析	李勇李玉和李庆祥訾艳阳	《光学精密工程》 EI CAS CSCD	2003	6	在线阅读下载PDF 职称材料
4	颗粒捕集器中锶对钯测定结果的影响	姚慧刘立波杨惠玲	《中国测试》 CAS 北大核心	2018	4	在线阅读下载PDF 职称材料