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基于SF_(6)/Ar的电感耦合等离子体干法刻蚀β-Ga_(2)O_(3)薄膜
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作者 曾祥余 马奎 杨发顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第7期624-628,共5页
使用SF_(6)/Ar混合气体作为刻蚀气体,采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀方法,研究了不同激励功率和偏置功率对Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率的影响以及不同刻蚀时间对表面粗糙度的影响,并观察了光刻胶的损伤情况以调整刻蚀工艺参数。实验结果表... 使用SF_(6)/Ar混合气体作为刻蚀气体,采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀方法,研究了不同激励功率和偏置功率对Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率的影响以及不同刻蚀时间对表面粗糙度的影响,并观察了光刻胶的损伤情况以调整刻蚀工艺参数。实验结果表明,适度地增大激励功率和偏置功率可以提高刻蚀速率;合适的刻蚀时间可以在得到低粗糙度表面的同时不会过度损伤光刻胶掩膜。通过优化工艺参数,在激励功率为600 W、偏置功率为150 W、刻蚀时间为17 min下,可得到30 nm/min的Ga_(2)O_(3)薄膜刻蚀速率,刻蚀表面的垂直度高、粗糙度低,同时光刻胶掩膜形貌完好。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体(icp)刻蚀 Ga_(2)O_(3)薄膜 刻蚀速率 光刻胶掩膜 低粗糙度表面
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基于ICP的Ar等离子体干法刻蚀Ti/Ni/Ag薄膜 被引量:1
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作者 黄梦茹 卢林红 +2 位作者 郭丰杰 马奎 杨发顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第10期893-898,共6页
在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化... 在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化刻蚀工艺参数。实验结果表明,调节射频偏压功率和Ar体积流量可以显著影响刻蚀速率,进而对薄膜的微结构进行有效调控。通过优化工艺参数,在射频偏压功率300 W、Ar体积流量40 cm^(3)/min、腔体压强1.2 Pa、刻蚀时间50 min下,芯片Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀深度达到283.25μm,有效提升了刻蚀效率和刻蚀精度。 展开更多
关键词 Ti/Ni/Ag薄膜 电感耦合等离子体(icp) 刻蚀深度 AR 射频偏压功率
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电感耦合等离子体刻蚀InSb芯片工艺的研究 被引量:5
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作者 朱炳金 张国栋 张向锋 《红外技术》 CSCD 北大核心 2009年第8期467-470,共4页
随着InSb红外焦平面阵列探测器的发展,焦平面阵列规模不断增大,像元面积越来越小。湿法刻蚀因为其各向同性刻蚀的特点,导致像元的钻蚀严重,已经难以满足大规格InSb焦平面器件的要求。采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀大规格InSb阵列芯片,... 随着InSb红外焦平面阵列探测器的发展,焦平面阵列规模不断增大,像元面积越来越小。湿法刻蚀因为其各向同性刻蚀的特点,导致像元的钻蚀严重,已经难以满足大规格InSb焦平面器件的要求。采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀大规格InSb阵列芯片,研究不同腔体压力对刻蚀速率、表面形貌的影响及InSb表面残留聚合物的去除方法。 展开更多
关键词 InSb焦平面阵列 各向同性 表面形貌 电感耦合等离子体(icp)
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氟里昂(CF_2Cl_2)对电感耦合等离子体(ICP)放电特性的影响——ICP技术在危险废弃物处理方面的应用研究 被引量:1
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作者 陈登云 王小如 +1 位作者 陈薇 LeeFrankS.C. 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期319-324,共6页
为了发展用于处理难消解危险废物的电感耦合等离子体(ICP)技术,本文研究了当氟里昂12进入ICP时,在不同操作条件下ICP的激发温度与电子密度的变化趋势,并论述了其成因及其对废物处理的优势。
关键词 icp 电感耦合 等离子 氟里昂12 废物处理
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InSb的电感耦合等离子体刻蚀技术研究
5
作者 徐淑丽 张国栋 《红外技术》 CSCD 北大核心 2012年第3期151-154,共4页
随着InSb红外焦平面探测器的发展,焦平面阵列规模越来越大,像元面积越来越小。湿法刻蚀因其各向同性的特点,导致像元钻蚀严重,越来越难满足大规格InSb焦平面器件的要求。研究了以Ar/CH4/H2作为刻蚀气体,利用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀... 随着InSb红外焦平面探测器的发展,焦平面阵列规模越来越大,像元面积越来越小。湿法刻蚀因其各向同性的特点,导致像元钻蚀严重,越来越难满足大规格InSb焦平面器件的要求。研究了以Ar/CH4/H2作为刻蚀气体,利用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀大规格InSb晶片的初步研究结果,研究不同RF功率、腔体压力和Ar的含量对刻蚀速率、表面形貌的影响及InSb表面残留聚合物的去除方法。 展开更多
关键词 干法刻蚀 电感耦合等离子体(icp) INSB 刻蚀速率
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基于电感耦合等离子体刻蚀的LNOI脊形微结构制备 被引量:1
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作者 吴玉航 杨忠华 +4 位作者 孟雪飞 宋泽乾 刘文 罗文博 张万里 《压电与声光》 CAS 北大核心 2023年第2期239-242,共4页
铌酸锂(LiNbO 3,LN)是一种广泛使用的介电材料,由于其电光系数大,透明范围大,本征带宽宽,因而在集成和非线性光学器件中极为重要。但绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI)的化学稳定性好,刻蚀速率慢,其微结构参数难以控制。针对以上问题,该文开展... 铌酸锂(LiNbO 3,LN)是一种广泛使用的介电材料,由于其电光系数大,透明范围大,本征带宽宽,因而在集成和非线性光学器件中极为重要。但绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI)的化学稳定性好,刻蚀速率慢,其微结构参数难以控制。针对以上问题,该文开展了基于电感耦合等离子体刻蚀(ICP-RIE)的LNOI脊形微结构的制备工艺研究,分析了腔室压强、气体总流量及刻蚀功率等参数对刻蚀速率、刻蚀倾角和表面粗糙度(RMS)的影响。研究表明,在优化的工艺条件下,LNOI薄膜的刻蚀速率达到24.9 nm/min,制备出刻蚀深度249 nm、刻蚀倾角76°、表面粗糙度(RMS)0.716 nm的LNOI脊形微结构。该文通过对刻蚀工艺与微观结构参数的研究,建立了基于ICP的LNOI微结构刻蚀方法,为控制LNOI脊形光波导和提升性能提供了工艺支撑。 展开更多
关键词 绝缘体上铌酸锂薄膜(LNOI) 集成光子学 脊形结构 电感耦合等离子刻蚀 微结构参数
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电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定稀土镁合金中锆 被引量:8
7
作者 鲍叶琳 刘鹏宇 《中国无机分析化学》 CAS 2013年第B10期83-85,共3页
以硝酸和硫酸溶解样品,通过选择元素间无干扰的光谱线343.823nm作为Zr的分析线,采用镁基体匹配,用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定了稀土镁合金中锆,检出限为0.002μg/mL,方法用于稀土镁合金中锆的测定,加标回收率为103.5%... 以硝酸和硫酸溶解样品,通过选择元素间无干扰的光谱线343.823nm作为Zr的分析线,采用镁基体匹配,用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定了稀土镁合金中锆,检出限为0.002μg/mL,方法用于稀土镁合金中锆的测定,加标回收率为103.5%,11次平行测定的相对标准偏差为0.8%。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体原子发射光谱法 icp—AES 稀土镁合金
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基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究
8
作者 王琪 张金龙 +1 位作者 王立军 刘云 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期1276-1280,共5页
研究了基于电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统的InP基半导体材料的干法刻蚀。采用Cl2/Ar/H2混合刻蚀气体,分别研究了氯气体积分数和ICP功率与刻蚀速率之间的关系,及镍、二氧化硅和二者结合型掩膜版的适用范围。获得有效的刻蚀速率为450~1 ... 研究了基于电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统的InP基半导体材料的干法刻蚀。采用Cl2/Ar/H2混合刻蚀气体,分别研究了氯气体积分数和ICP功率与刻蚀速率之间的关系,及镍、二氧化硅和二者结合型掩膜版的适用范围。获得有效的刻蚀速率为450~1 200 nm/min,InP对金属镍的选择性刻蚀比值为175~190。掩膜版的选择与制备方法适用于基于ICP系统的任何半导体材料的干法刻蚀工艺。 展开更多
关键词 固体掩膜版 电感耦合等离子 INP 干法刻蚀
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电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定米托坦中的汞 被引量:3
9
作者 陈扉然 颜平秋 +3 位作者 周牡艳 黄国泉 吴坚 金晶 《中国无机分析化学》 CAS 2013年第3期57-60,共4页
介绍了电感耦合等离子体质谱法(ICPMS)测定米托坦中的汞,重点从消解方式、酸体系和微波消解程序等方面对样品前处理方法进行了优化。在优化的实验条件下,方法的检出限为0.005mg/kg,6次平行测定结果的相对标准偏差为7.7%,加标... 介绍了电感耦合等离子体质谱法(ICPMS)测定米托坦中的汞,重点从消解方式、酸体系和微波消解程序等方面对样品前处理方法进行了优化。在优化的实验条件下,方法的检出限为0.005mg/kg,6次平行测定结果的相对标准偏差为7.7%,加标回收率为82.3%~85.7%。方法灵敏度高、稳定性好,而且准确度高。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体质谱(icp MS) 米托坦 微波消解
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电感耦合等离子体质谱测定不同酒类中铬、砷、镉、汞、铅含量 被引量:24
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作者 程和勇 徐子刚 +1 位作者 黄旭 张翼 《浙江大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期679-682,共4页
应用微波消解处理酒样,不经富集直接用ICP—MS测定Cr、As、Cd、Hg、Pb含量,方法快速,干扰少.测定的33种不同酒样中Cr、As、Cd、Hg、Pb的含量均值分别为45.84、19.53、2.22、1.92μg·kg^-1和115.06μg·kg^-1,其中白... 应用微波消解处理酒样,不经富集直接用ICP—MS测定Cr、As、Cd、Hg、Pb含量,方法快速,干扰少.测定的33种不同酒样中Cr、As、Cd、Hg、Pb的含量均值分别为45.84、19.53、2.22、1.92μg·kg^-1和115.06μg·kg^-1,其中白酒中含量最高,葡萄酒和啤酒居次,黄酒含量最低.Cr、As、Cd、Hg、Pb的检出限分别为0.063、0.082、0.007、0.001μg·L^-1和0.080μg·L^-1,各元素的加标回收率基本在90%~110%,RSD(n=10)在0.25%~6.76%. 展开更多
关键词 白酒 啤酒 黄酒 葡萄酒 电感耦合等离子体质谱(icp—MS) 微波消解
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激光烧蚀-电感耦合等离子体质谱技术在材料表面微区分析领域的应用进展 被引量:14
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作者 张勇 贾云海 +8 位作者 陈吉文 沈学静 刘英 赵雷 李冬玲 韩鹏程 赵振 樊万伦 王海舟 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期2238-2243,共6页
激光烧蚀-电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)技术不仅可以对导体及非导体进行元素的成分含量分析,而且还可进行元素分布及涂层深度表面微区分析,故在元素分析领域引起广泛的关注。主要介绍了LA-ICP-MS的仪器装置及其表面微区分析理论,同... 激光烧蚀-电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)技术不仅可以对导体及非导体进行元素的成分含量分析,而且还可进行元素分布及涂层深度表面微区分析,故在元素分析领域引起广泛的关注。主要介绍了LA-ICP-MS的仪器装置及其表面微区分析理论,同时对LA-ICP-MS在钢铁、有色金属及半导体等材料科学领域中的元素分布及涂层深度表面微区分析应用进展情况进行回顾,与SEM/EDS(扫描电子显微镜/能谱仪)、EPMA(电子探针微区分析)、AES(俄歇电子能谱)等传统经典的表面分析方法的比较,LA-ICP-MS具有无需或很少样品制备、空间分辨率可调、多元素同时分析及灵敏度高等优点,目前LA-ICP-MS已成为这些经典表面微区分析工具强有力的补充。随着LA-ICP-MS分析技术进一步的发展与成熟,相信不久的将来越来越多的元素分析工作者会使用这一强有力的分析工具,它像LIBS(激光诱导击穿光谱)一样,将会成为元素分析领域非常耀眼的一颗新星。 展开更多
关键词 激光烧蚀 电感耦合等离子体质谱仪(icp/MS) 材料科学 表面微区分析
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U-Pb定年锆石标准^(176)Hf/^(177)Hf比值的多接收器电感耦合等离子体质谱测定 被引量:8
12
作者 祁昌实 李献华 +2 位作者 梁细荣 刘颖 涂湘林 《质谱学报》 EI CAS CSCD 2005年第3期149-154,共6页
利用MicromassIsoprobe型多接收器电感耦合等离子体质谱(MCICPMS)测定UPb定年国际锆石标准91500、Temora和本实验室锆石工作标准样We1的176Hf/177Hf比值。对添加Zr的室内Hf标准溶液HfGIG的模拟实验表明:Zr/Hf≤120时,Zr对Isoprobe型MCIC... 利用MicromassIsoprobe型多接收器电感耦合等离子体质谱(MCICPMS)测定UPb定年国际锆石标准91500、Temora和本实验室锆石工作标准样We1的176Hf/177Hf比值。对添加Zr的室内Hf标准溶液HfGIG的模拟实验表明:Zr/Hf≤120时,Zr对Isoprobe型MCICPMS的Hf同位素比值测定值没有明显的影响,所以锆石Hf分离纯化流程采用改进的高温高压氢氟酸溶解和其后的一个离子交换分离流程实现,整个流程Hf的回收率高于90%。176Hf/177Hf比值测定采用JMC475Hf标准溶液(176Hf/177Hf=0.282160)进行外部校正并监控仪器漂移。标准样91500、Temora和We1平均的176Hf/177Hf比值测定结果分别为(0.282310±0.000034)、(0.282706±0.000020)和(0.281534±0.000009)。上述每个结果包括至少7组独立的锆石样品的溶解、分离和测定,表明标准样91500、Temora和We1是Hf同位素组成均一的。本实验结果对于激光熔蚀多接收器电感耦合等离子体质谱(LAMCICPMS)锆石原位176Hf/177Hf比值测定校正方法的检验具有重要意义。 展开更多
关键词 多接收器电感耦合等离子体质谱(MC—icp—MS) 锆石标准 Hf同位素 激光熔蚀多接收器电感耦合 等离子体质谱(LA—MC—icp—MS)
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激光烧蚀光谱-电感耦合等离子体质谱联用技术在地质分析中的应用 被引量:7
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作者 谭靖 郭冬发 +2 位作者 张彦辉 谢胜凯 张良圣 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期212-218,共7页
激光烧蚀光谱(LAS)技术具有空间分辨率高,样品用量少,制样简单,分析速度快,可远程、实时、在线分析多相物质(气态、液态、固态)的特点,是近年来发展迅速的一种分析技术,具有广阔的应用前景,但它对痕量元素的分析能力不足。电感耦合等离... 激光烧蚀光谱(LAS)技术具有空间分辨率高,样品用量少,制样简单,分析速度快,可远程、实时、在线分析多相物质(气态、液态、固态)的特点,是近年来发展迅速的一种分析技术,具有广阔的应用前景,但它对痕量元素的分析能力不足。电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)技术具有灵敏度高和多元素及同位素同时检测的能力,在微痕量元素精密分析方面具有很大的优势,但对基体元素分析存在困难。将LAS和ICP-MS技术相结合,形成LAS和LA-ICP-MS联用技术(LAS-ICP-MS),可充分利用两种技术的优势,形成互补技术,为地质分析提供一种便捷、可靠的分析手段:利用LAS技术,可预先监测样品的大致含量与信号的稳定性等参数,筛选适用于LA-ICP-MS分析的样品,避免因元素含量过高引起的LA-ICP-MS采样锥锥口易堵塞,基体效应过大,以及因样品均匀性差或激光参数未优化等因素影响分析的准确性和精密度等问题;利用LA-ICP-MS技术,可对激光进样条件和原子化、离子化条件分开进行优化,从而改善仪器的分析性能。将LAS-ICP-MS用于岩石矿物分析,表现出其良好的应用前景。 展开更多
关键词 激光烧蚀光谱(LAS LIBS) 电感耦合等离子体质谱(icp—MS) 联用技术 地质分析
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电感耦合等离子体质谱测定硫的方法研究及应用进展 被引量:9
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作者 黄志丁 王军 +1 位作者 逯海 杨晓进 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期57-64,共8页
硫是矿石、化石燃料、蛋白质等的重要组成元素,与人类生活密切相关。近年来,随着质谱技术的发展,电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)已成为硫测量和研究的重要手段,并在环境监测、食品安全、生命科学、环境地球化学等研究中显示出良好的应用... 硫是矿石、化石燃料、蛋白质等的重要组成元素,与人类生活密切相关。近年来,随着质谱技术的发展,电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)已成为硫测量和研究的重要手段,并在环境监测、食品安全、生命科学、环境地球化学等研究中显示出良好的应用前景。本工作综述了ICP-MS用于硫元素总量、多种形态、硫同位素测量技术方面的最新研究进展。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体质谱(icp—MS) 进展
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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定食品中硼的方法研究 被引量:12
15
作者 魏玉芝 周伟 +1 位作者 李文婧 刘立 《食品与发酵工业》 CAS CSCD 北大核心 2006年第9期130-133,共4页
研究了HNO3-H2O2消化体系在高压釜中消解样品,电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP—AES)测定食品中硼的方法,对该方法的样品处理、干扰因素、测试条件和方法学指标进行了重点研究和检定,并测定了食品中硼含量。其线性范围0~5μg... 研究了HNO3-H2O2消化体系在高压釜中消解样品,电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP—AES)测定食品中硼的方法,对该方法的样品处理、干扰因素、测试条件和方法学指标进行了重点研究和检定,并测定了食品中硼含量。其线性范围0~5μg/mL,回收率97.3%~100.0%,精密度(RSD)〈3%,样品最低检出浓度0.25mg/kg,灵敏度、精密度和准确度均符合要求,方法简便、快速。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体原子发射光谱仪(icp—AES) 食品 高压釜
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感应耦合等离子体刻蚀在聚合物光波导制作中的应用 被引量:9
16
作者 张琨 岳远斌 +2 位作者 李彤 孙小强 张大明 《中国光学》 EI CAS 2012年第1期64-70,共7页
提出了利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术提高聚合物光波导器件性能的方法,介绍了ICP刻蚀技术的原理和优点。选取聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料,采用氧气作为刻蚀气体,研究了ICP参数变化对刻蚀效果的... 提出了利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术提高聚合物光波导器件性能的方法,介绍了ICP刻蚀技术的原理和优点。选取聚甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料,采用氧气作为刻蚀气体,研究了ICP参数变化对刻蚀效果的影响。介绍了倒脊形光波导的制备过程,采用改变单一工艺参数的方法,分析了刻蚀效果随时间、功率、压强、气体流量等参数的变化,对参数优化后刻蚀得到的凹槽和平板结构进行了表征。实验结果表明:在天线射频功率为300 W,偏置射频功率为30 W,气体压强为0.5 Pa,氧气流速为50 cm3/min的条件下,可获得侧壁陡直、底面平整的P(MMA-GMA)凹槽结构。 展开更多
关键词 聚合物光波导 倒脊形光波导 感应耦合等离子体(icp)刻蚀
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电感耦合等离子体CVD室温制备的硅薄膜的结构研究 被引量:4
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作者 王晓强 陈强 +2 位作者 栗军帅 杨定宇 贺德衍 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期465-468,共4页
用内置式单圈电感耦合等离子体化学气相沉积 (ICP CVD)方法在室温下制备Si薄膜。用傅里叶红外吸收光谱、喇曼光谱、原子力显微镜和分光椭圆偏振谱等测量分析表明 ,即使在室温下用ICP CVD也获得了有纳米结晶相的Si薄膜 ,样品结构与源气体... 用内置式单圈电感耦合等离子体化学气相沉积 (ICP CVD)方法在室温下制备Si薄膜。用傅里叶红外吸收光谱、喇曼光谱、原子力显微镜和分光椭圆偏振谱等测量分析表明 ,即使在室温下用ICP CVD也获得了有纳米结晶相的Si薄膜 ,样品结构与源气体SiH4浓度密切相关。实验结果预示着在高电子密度的ICP CVD过程中 ,活性原子集团的形成以及薄膜的生长机理与传统的等离子体CVD过程不同。 展开更多
关键词 CVD 电感耦合等离子 子集 硅薄膜 原子 结构研究 喇曼光谱 室温 分光 icp
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电感耦合等离子体发射光谱法定量测试明胶中的微量金属元素Hg和Rh——应用MSF模型改进Hg结果的精密度和检测限 被引量:11
18
作者 杜保安 杨玉华 李正平 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期140-143,共4页
应用电感耦合等离子体发射光谱技术,建立了定量测试明胶中微量金属元素Hg和Rh的方法。采用湿法消解对明胶样品进行前处理。讨论了ICPAES同时测定明胶中微量金属元素Hg和Rh时,应用MSF模型校正对汞的光谱干扰和背景干扰,改善了检测结果的... 应用电感耦合等离子体发射光谱技术,建立了定量测试明胶中微量金属元素Hg和Rh的方法。采用湿法消解对明胶样品进行前处理。讨论了ICPAES同时测定明胶中微量金属元素Hg和Rh时,应用MSF模型校正对汞的光谱干扰和背景干扰,改善了检测结果的精密度和检测限。实验结果表明,建立的方法准确、快速、高效、线性范围宽,得到的分析结果令人满意。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体发射光谱法(icp—AES) 明胶 微量金属元素 MSF模型
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电感耦合等离子刻蚀法加工石英晶体谐振器工艺研究
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作者 陈静白 张新海 刘峰 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2023年第9期3395-3401,共7页
为了制备石英晶体谐振器,在石英衬底上采用光刻和电感耦合等离子刻蚀技术制备台阶形貌,研究了制备过程中激励电源功率、偏压电源功率以及导热物质等工艺参数对刻蚀效果的影响。并且利用扫描电子显微镜对刻蚀图形的表面形貌进行了观察,... 为了制备石英晶体谐振器,在石英衬底上采用光刻和电感耦合等离子刻蚀技术制备台阶形貌,研究了制备过程中激励电源功率、偏压电源功率以及导热物质等工艺参数对刻蚀效果的影响。并且利用扫描电子显微镜对刻蚀图形的表面形貌进行了观察,通过实验与分析得到了符合工业生产要求的工艺参数。最后在最优工艺参数条件下,制得了高约22μm的整齐的台阶形貌,并将干法刻蚀的结果与湿法刻蚀对比,展现了干法刻蚀的特点以及干法刻蚀应用于工业化生产石英晶体谐振器的潜力。 展开更多
关键词 石英晶体 光刻 电感耦合等离子刻蚀 工艺参数 台阶刻蚀
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多接收电感耦合等离子体质谱法对铀同位素丰度的测定 被引量:5
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作者 李力力 李金英 +2 位作者 赵永刚 刘峻岭 张继龙 《核化学与放射化学》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期152-156,共5页
为了对环境监测提供有效、可靠的手段,在多接收电感耦合等离子体质谱(MC-ICP-MS)上建立了铀同位素丰度的分析方法。对影响仪器灵敏度的因素进行了初步探索,对标准物质GBW 04227和3个同位素丰度不同的样品中铀的各种同位素组分比值进行... 为了对环境监测提供有效、可靠的手段,在多接收电感耦合等离子体质谱(MC-ICP-MS)上建立了铀同位素丰度的分析方法。对影响仪器灵敏度的因素进行了初步探索,对标准物质GBW 04227和3个同位素丰度不同的样品中铀的各种同位素组分比值进行了测量,评价了测定结果的不确定度。结果表明,对丰度为3%、质量分数为2×10-7的235U溶液,R(235U/238U)丰度比的相对实验标准偏差优于0.02%,R(236U/238U)丰度比的相对实验标准偏差优于0.2%。 展开更多
关键词 同位素丰度比 多接收电感耦合等离子体质谱(MC—icp—MS) 不确定度
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