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电子轰击型离子源中抑制H_3^+的几点思考
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作者 李雪松 韦冠一 +2 位作者 翟利华 张子斌 徐宗浩 《质谱学报》 EI CAS CSCD 2011年第2期100-103,共4页
分析了在电子轰击型(EI)离子源中,磁场、进样量、阴极电流和阴极电压等4种主要仪器设备条件对产生H3+的影响,在实验中得到较好的验证,并得到H3+在4种条件下的基本影响趋势。本研究对使用低分辨率质谱计分析天然氢同位素时,EI离子源参数... 分析了在电子轰击型(EI)离子源中,磁场、进样量、阴极电流和阴极电压等4种主要仪器设备条件对产生H3+的影响,在实验中得到较好的验证,并得到H3+在4种条件下的基本影响趋势。本研究对使用低分辨率质谱计分析天然氢同位素时,EI离子源参数的调节和进样量的选取具有指导意义。 展开更多
关键词 低分辨率质谱计 电子轰击型离子源 H3+ 氢同位素
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