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题名电子束诱导沉积工艺的优化与简化
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作者
高尚
黄梦诗
肖飞
孙千
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机构
哈尔滨工业大学(深圳)材料科学与工程学院
广东省半导体光电材料与智能光子系统重点实验室
美信检测技术股份有限公司
华南理工大学材料科学与工程学院
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出处
《真空科学与技术学报》
北大核心
2025年第4期340-348,共9页
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基金
广东省重点实验室项目(2023B1212010003)
哈工大研究生教育教学改革研究项目(23MS031)
+1 种基金
哈工大(深圳)教材建设项目(HITSZJC24009)
哈工大(深圳)创新实验项目(INEP1013)。
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文摘
电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了一种基于扫描电镜缩小框功能的简化工艺。研究表明,低加速电压条件下,沉积速率显著提高;束流与沉积厚度呈线性正相关;短驻留时间有助于获得更高的沉积速率。通过优化参数,研究实现EBID沉积效率达到0.03μm^(3)/nC,显著优于既往文献报道的效率范围。简化工艺无需依赖复杂的专用程序,操作便捷。特别是在对精度要求不高但重视效率的场景中,优化后的EBID工艺可在某些应用中完全替代IBID工艺。因此,通过优化聚焦离子束-扫描电镜中电子束诱导沉积的参数,提高沉积速率并简化操作流程,具有重要应用价值,为沉积保护层提供了全新的解决思路与替代方案。
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关键词
电子束诱导沉积
沉积速率
工艺参数优化
聚焦离子束-扫描电镜
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Keywords
Electron beam induced deposition(EBID)
Deposition efficiency
Process parameter optimization
Focused ion beam-scanning electron microscopy(FIB-SEM)
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分类号
TG115.215.5
[金属学及工艺—物理冶金]
TG115.215.3
[金属学及工艺—物理冶金]
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题名用扫描电镜制备高性能AFM针尖
被引量：3
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作者
徐军
陈文雄
尤力平
张会珍
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机构
北京大学电子显微镜实验室
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出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第4期304-305,共2页
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关键词
扫描电镜
纳米材料
AFM针尖
导电性
电子束诱导沉积
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分类号
TN16
[电子电信—物理电子学]
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