电子束蒸发沉积ZAO薄膜正交试验 被引量：9

1

作者 郭爱云 薛亦渝 +2 位作者 夏志林 朱选敏 葛春桥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期56-59,共4页

采用电子束真空蒸发沉积薄膜的方法(EBED)制备了ZnO:A1(ZAO)透明导电薄膜。用正交试验法设计试验,并分析了制备ZAO薄膜的主要影响因素(沉积厚度、沉积速率、基片温度)对薄膜性能(透射率、电阻率)的作用。试验结果表明:采用EBED法沉积制... 采用电子束真空蒸发沉积薄膜的方法(EBED)制备了ZnO:A1(ZAO)透明导电薄膜。用正交试验法设计试验,并分析了制备ZAO薄膜的主要影响因素(沉积厚度、沉积速率、基片温度)对薄膜性能(透射率、电阻率)的作用。试验结果表明:采用EBED法沉积制备ZAO薄膜时,沉积速率控制为1nm/s、沉积厚度为800nm、基片温度为250℃,镀膜系统工作稳定,沉积薄膜的性能较好。 展开更多

关键词 ZAO薄膜 电子束蒸发沉积 正交试验

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织物上电子束蒸发沉积镀膜的耐磨及抗紫外线性能 被引量：5

2

作者 李凤艳 葛安香 陈勃 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期87-91,共5页

利用电子束蒸发沉积法在不同的织物表面形成镍铬金属膜,制备具有抗紫外线辐射功能的柔性材料。通过SEM、EDS观察以及图像处理技术,比较了纤维原料及织物成形方式对电子束蒸发沉积膜的耐磨稳定性影响,并进一步分析了镀膜工艺对耐磨稳定... 利用电子束蒸发沉积法在不同的织物表面形成镍铬金属膜,制备具有抗紫外线辐射功能的柔性材料。通过SEM、EDS观察以及图像处理技术,比较了纤维原料及织物成形方式对电子束蒸发沉积膜的耐磨稳定性影响,并进一步分析了镀膜工艺对耐磨稳定性及抗紫外线性能的影响。结果表明:使用电子束蒸发沉积法在纤维基底材料上可形成均匀的、金属外观的薄膜,并且涤纶针织结构有利于提高金属膜在纤维表面的耐磨稳定性;当溅射时间为20 min、溅射电子束流为280 m A时,金属薄膜与基底的结合牢度好,可经受2 000次以上的摩擦,当摩擦约2 500次时,其UPF值超过40,具有较优异的持久功能性。 展开更多

关键词 电子束蒸发沉积 纤维材料 耐磨性 抗紫外线

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射频磁控溅射和电子束蒸发制备ZnO薄膜特性的比较 被引量：2

3

作者 高立 张建民 《陕西师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期23-27,共5页

利用射频磁控溅射(Radio frequency-magnetro sputtering,RF-MS)和电子束蒸发(Electron beam evaporation,E-BE)方法制备ZnO薄膜,并对两种方法制备的薄膜在400、450和500℃退火后的微观结构、光学与电学性能进行比较.结果表明,RF-MS比E... 利用射频磁控溅射(Radio frequency-magnetro sputtering,RF-MS)和电子束蒸发(Electron beam evaporation,E-BE)方法制备ZnO薄膜,并对两种方法制备的薄膜在400、450和500℃退火后的微观结构、光学与电学性能进行比较.结果表明,RF-MS比E-BE制备的ZnO薄膜的晶粒细小且均匀,表面粗糙度小.两种方法制备的ZnO薄膜的平均透光率均大于80%,且随温度升高均表现出禁带宽度变小以及在380 nm附近出现近带边发射和绿光发射现象.此外,E-BE比RF-MS制备的ZnO薄膜的电阻率小. 展开更多

关键词 射频磁控溅射 电子束蒸发沉积 ZNO薄膜

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电子束蒸发制备织构状纳米ZnO∶Al及其光电性能研究

4

作者 王丽军 孙义清 +1 位作者 李剑 王小平 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第21期21085-21088,共4页

采用真空电子束蒸发沉积设备在不同温度下（350-400 ℃）直接在玻璃基底上一次性生长400nm厚的织构状纳米掺铝ZnO 薄膜.研究了不同的基底温度对掺铝ZnO 薄膜的结构、电学性质以及光学性质的影响. 研究发现,其光学透过率在390-1100nm的... 采用真空电子束蒸发沉积设备在不同温度下（350-400 ℃）直接在玻璃基底上一次性生长400nm厚的织构状纳米掺铝ZnO 薄膜.研究了不同的基底温度对掺铝ZnO 薄膜的结构、电学性质以及光学性质的影响. 研究发现,其光学透过率在390-1100nm的整个波段都超过87%,在580-1100nm光谱范围内光学透过率超过93%. 当沉积温度为380℃时,掺铝ZnO 薄膜的电阻率最低,其值可达1.2×10^-4 Ω·cm. 展开更多

关键词 掺铝ZnO 电子束蒸发沉积 透明导电薄膜

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ZnO薄膜及其性能研究进展 被引量：21

5

作者 黄焱球 刘梅冬 +1 位作者 曾亦可 刘少波 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期391-397,共7页

ＺｎＯ薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途．Ｚ... ＺｎＯ薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途．ＺｎＯ 薄膜的制备方法多样，各具优缺点；而薄膜性质的差异则取决于不同的掺杂组分，并与制备工艺紧密相关．本文综述了ＺｎＯ薄膜的制备及性质特征，并对其发展趋势及前景进行了探讨． 展开更多

关键词 制备 氧化锌薄膜 射频溅射 双离子束溅射沉积 电子束蒸发沉积 CVD SOL-GEL 光电性质

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硫醇在Au表面的SA膜的AFM观察

6

作者 邓文礼 杨大本 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第6期601-604,共4页

采用电子束蒸发沉积方法制备的Ａｕ基片，分别放在０．００１Ｍ的正丁硫醇、正十二硫醇的纯溶液和混合溶液中，通过化学吸附制备得到自组装单分子层膜。利用原子力显微镜（ＡＦＭ），对正丁硫醇、正十二硫醇以及两种硫醇混合物在Ａｕ基... 采用电子束蒸发沉积方法制备的Ａｕ基片，分别放在０．００１Ｍ的正丁硫醇、正十二硫醇的纯溶液和混合溶液中，通过化学吸附制备得到自组装单分子层膜。利用原子力显微镜（ＡＦＭ），对正丁硫醇、正十二硫醇以及两种硫醇混合物在Ａｕ基片上的自组装单分子层膜进行了观察研究。从原子分辨的ＡＦＭ图像观察三种分子膜的周期性六边形等间距排列图像，最邻近间距分别为０．５０ｎｍ±０．０２ｎｍ、０．５２ｎｍ±０．０３ｎｍ和０．５１ｎｍ±０．０３ｎｍ，与Ａｕ（１１１）晶格表面上的间距为０．５０ｎｍ的Ｒ３０°吸附层的间距一致。用ＡＦＭ观察测量出了膜的厚度分别为０．６７ｎｍ、１．６０ｎｍ和１．３２ｎｍ。 展开更多

关键词 硫醇 自组装 单分子层膜 铜 电子束蒸发沉积

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PDP中Mg_(1-x)Ca_xO复合介质保护膜结晶取向研究 被引量：1

7

作者 夏星 郭滨刚 +1 位作者 范玉锋 刘纯亮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期339-342,共4页

为了研究CaO的加入对MgOPDP介质保护膜晶面择优取向的影响 ,使用不同CaO含量的MgO +CaO膜料 ,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积 ,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了X射线衍射分析。结果表明 ,Ca含量越小 ,越容易形成〈111〉... 为了研究CaO的加入对MgOPDP介质保护膜晶面择优取向的影响 ,使用不同CaO含量的MgO +CaO膜料 ,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子束蒸发沉积 ,并对形成的Mg1-xCaxO膜进行了X射线衍射分析。结果表明 ,Ca含量越小 ,越容易形成〈111〉择优取向。在选取的所有基底温度和沉积速率下 ,纯MgO和Mg0 .96Ca0 .0 4O膜都形成了〈111〉晶面择优取向 ;Mg0 .93 Ca0 .0 7O膜 ,获得最强的 (111)衍射峰 ;而Mg0 .9Ca0 .1O膜中 ,在不同的工艺下 ,分别得到 (111) ,(2 0 0 )面以及无序多晶膜。通过X射线衍射分析还发现 ,在Mg1-xCaxO膜中 ,所有〈111〉择优取向的衍射峰 2θ的位置比纯MgO向负方向移动 0 2°～ 0 7° ,而且x越大 ,这种偏移越大。 展开更多

关键词 基底温度 X射线衍射分析 结晶取向 复合介质 电子束蒸发沉积 晶面 择优取向 PDP 保护膜 沉积速率

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MgZnO和ZnO晶体薄膜紫外发光特性比较 被引量：4

8

作者 陈奶波 邱东江 +3 位作者 吴惠桢 张寒洁 鲍世宁 何丕模 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期349-352,共4页

用电子束蒸发反应沉积在Si(111)衬底上低温生长了立方MgZnO薄膜和高度C -轴取向的ZnO薄膜 .X 射线光电子能谱 (XPS)结果表明 ,立方MgZnO薄膜中的Mg含量比靶源中的高 .紫外光致荧光谱 (UVPL)测试显示 ,与ZnO相比MgZnO的荧光峰从 393nm蓝... 用电子束蒸发反应沉积在Si(111)衬底上低温生长了立方MgZnO薄膜和高度C -轴取向的ZnO薄膜 .X 射线光电子能谱 (XPS)结果表明 ,立方MgZnO薄膜中的Mg含量比靶源中的高 .紫外光致荧光谱 (UVPL)测试显示 ,与ZnO相比MgZnO的荧光峰从 393nm蓝移至 373nm ,这可能与MgZnO的带隙变宽有关 .对ZnO薄膜的研究还发现 ,生长过程中充O2 与否对ZnO发光特性的影响显著 ,不充O2 时样品的紫外荧光峰较之充O2 展开更多

关键词 紫外光致荧光谱 X射线光电子能谱 晶体薄膜 氧化锌 电子束蒸发反应沉积法 光谱蓝移 光谱红移 带隙

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宽通带宽截止带通滤光片研究 被引量：7

9

作者 朱华新 王彤彤 +2 位作者 高劲松 刘桂林 李帅 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1296-1301,共6页

本文以K9为基底设计了一种宽通带宽截止带通滤光片，即：540～750nnl为通带区域，400—520nm、770—1100nm为截止带区域，为实现这一特性，在K9基底的两侧分别设置长波通和短波通组合膜系，分别用于截止400—520nm和770～1100nm，而两... 本文以K9为基底设计了一种宽通带宽截止带通滤光片，即：540～750nnl为通带区域，400—520nm、770—1100nm为截止带区域，为实现这一特性，在K9基底的两侧分别设置长波通和短波通组合膜系，分别用于截止400—520nm和770～1100nm，而两者通带交集为540～750nm，膜层总数为48层，膜层总厚度达5．03μm，工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法，薄膜材料仪含有TiO2和SiO2，并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对镀有该组合膜的样品透过率进行测量，测试结果表明540～750nm通带平均透过率达到了85．82％，通带相对半宽度达221nm，400～520nm和770～1100nm的截止度分别达到1．36％和1．27％，实验结果与理论设计基本吻合，达到了宽通带宽截止的目标，环境测试表明：薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该组合膜系可以应用于可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率

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CaF_2基底上近红外区宽带增透膜的研究 被引量：8

10

作者 孙亚军 朱益清 +1 位作者 李帅 朱华新 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期76-80,共5页

以CaF_2为基底设计了一种近红外区的宽带增透膜,增透波长为0.9~1.7μm。分析了宽带增透膜初始结构的基本设计原则。分别以TiO_2和SiO_2作为高低折射率材料,采用电子束蒸发物理气相沉积（EBPVD）的方法进行工艺制备。利用岛津分光光度计... 以CaF_2为基底设计了一种近红外区的宽带增透膜,增透波长为0.9~1.7μm。分析了宽带增透膜初始结构的基本设计原则。分别以TiO_2和SiO_2作为高低折射率材料,采用电子束蒸发物理气相沉积（EBPVD）的方法进行工艺制备。利用岛津分光光度计对样品的透过率进行测量,样品双面镀制该膜系,测试结果表明样品的平均透过率达98.95%,与设计结果基本符合,具有宽带的增透特性。环境测试表明：该薄膜具有良好的附着力和牢固度,可以应用于对产品可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率 环境测试

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QF1基底上可见光区宽带增透膜研究 被引量：4

11

作者 朱华新 刘桂林 +5 位作者 高劲松 王彤彤 李帅 严慧敏 郭颖 李果华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1104-1108,共5页

本文以QF1为基底设计了一种宽带可见光区增透膜,即:增透波长0.4～0.8μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量... 本文以QF1为基底设计了一种宽带可见光区增透膜,即:增透波长0.4～0.8μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明平均透过率达98.43%,通过SEM的膜层截面证实膜层比设计略偏厚,导致测试透过率与设计相比略有红移,但实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽带的增透特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该增透膜可以应用于可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率

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基于ZF6基底的可见光宽谱带高性能增透膜 被引量：3

12

作者 曲锋 朱华新 +2 位作者 刘桂林 李帅 孙强 《中国光学》 EI CAS 2013年第4期551-556,共6页

以ZF6为基底,采用电子束蒸发物理气相沉积方法设计并制备了一种增透波长为0.4～0.8μm的宽谱带可见光区增透膜。薄膜材料仅含有TiO2和SiO2两种材料,分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,... 以ZF6为基底,采用电子束蒸发物理气相沉积方法设计并制备了一种增透波长为0.4～0.8μm的宽谱带可见光区增透膜。薄膜材料仅含有TiO2和SiO2两种材料,分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明:薄膜平均透过率达98.15%,实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽带的增透特性,减少了表面剩余反射。机械强度与环境测试表明:制备的薄膜具有良好的稳定性和牢固度,可以应用于可靠性要求较高的光学系统中。 展开更多

关键词 光学薄膜 增透膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率

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可见近红外双波段增透膜的设计及制备 被引量：2

13

作者 李帅 孙亚军 +3 位作者 刘桂林 朱华新 郭颖 李果华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第7期1769-1773,1787,共6页

以K9为基底设计了一种覆盖部分可见及近红外双波段的增透膜,即:增透波长包括0.55～0.78μm和1.0～1.3μm两个波段。工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用岛津分光光度... 以K9为基底设计了一种覆盖部分可见及近红外双波段的增透膜,即:增透波长包括0.55～0.78μm和1.0～1.3μm两个波段。工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用岛津分光光度计对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明0.55～0.78μm波段平均透过率为98.01%,1.0～1.3μm波段平均透过率达到97.04%。通过SEM的膜层截面证实实际膜层厚度相对于设计值来说偏厚,致使透射率光谱曲线略往长波方向漂移,但所需波段内平均透过率仍可满足所需光学特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该增透膜可以应用于可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率

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QK3玻璃基底上可见光区宽带增透膜研究 被引量：4

14

作者 阙立志 李帅 朱华新 《江南大学学报（自然科学版）》 CAS 2014年第1期113-116,共4页

以QK3为基底设计了一种宽带可见光区增透膜（增透波长0．4-0．8μm），工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法，薄膜材料仅含有TiO2和SiO2，并分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量... 以QK3为基底设计了一种宽带可见光区增透膜（增透波长0．4-0．8μm），工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法，薄膜材料仅含有TiO2和SiO2，并分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量，结果表明平均透过率达97．73％。环境测试表明，薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该增透膜可以应用于可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率

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超宽截止边带滤光片研究 被引量：1

15

作者 朱华新 王彤彤 +2 位作者 高劲松 刘桂林 李帅 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期2701-2706,共6页

以K9为基底设计了一种超宽截止边带滤光片,即:截止带波长0.5～0.85μm、高透波长0.9～1.3μm,膜层总数为57层,总厚度达6.026μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用... 以K9为基底设计了一种超宽截止边带滤光片,即:截止带波长0.5～0.85μm、高透波长0.9～1.3μm,膜层总数为57层,总厚度达6.026μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明截止区(0.5～0.85μm)的截止深度达5×10-3以下,截止带宽达350 nm,0.9～1.3μm通带内的平均透过率也达到83.14%,除通带短波边缘外,实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽截止带深截止度、高通带透过率的特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该边带滤光片可以应用于可靠性要求较高的环境中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 滤光片

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3～13μm宽带红外分束镜研究 被引量：4

16

作者 阙立志 《红外技术》 CSCD 北大核心 2011年第12期695-698,共4页

以ZnSe为基底设计了一种宽带红外分束镜,透射和反射比为50/50,工作波长可达到3～13μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有ZnSe和Ge。利用了Spectrum GX红外傅立叶变换光谱仪对该分束镜的透过率进行测量,测试... 以ZnSe为基底设计了一种宽带红外分束镜,透射和反射比为50/50,工作波长可达到3～13μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有ZnSe和Ge。利用了Spectrum GX红外傅立叶变换光谱仪对该分束镜的透过率进行测量,测试结果表明该分束镜的平均透过率约为50%,具有宽带的分束特性,与设计结果基本相符。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该分束器可以应用于可靠性要求比较高的环境中。 展开更多

关键词 分束镜 电子束蒸发物理气相沉积 硒化锌 锗

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双截止透可见带通滤光片研制 被引量：3

17

作者 齐健 苏宙平 +2 位作者 胡立发 朱华新 何一峰 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2019年第12期1472-1477,共6页

为了实现蓝宝石基底上双截止透可见区的特性(截止带波长为0.3~0.4μm、0.8~1.1μm,通带波长为0.4~0.8μm),初始结构采用双截止膜系,可截止近紫外和近红外,在蓝宝石基底的一侧实现可见光高透的宽通带滤光片,选用TiO2和SiO2分别作为薄膜... 为了实现蓝宝石基底上双截止透可见区的特性(截止带波长为0.3~0.4μm、0.8~1.1μm,通带波长为0.4~0.8μm),初始结构采用双截止膜系,可截止近紫外和近红外,在蓝宝石基底的一侧实现可见光高透的宽通带滤光片,选用TiO2和SiO2分别作为薄膜高、低折射率材料,来实现双波段截止的目的,薄膜的设计层数为42层,总厚度是3.6μm,采用电子束蒸发物理气相沉积法来实现镀制,并通过分光光度计测试镀制样品的透射率,测试结果显示截止区(0.3~0.385μm和0.824~1.1μm),平均截止深度分别达到了0.029%和0.127%,通带0.405~0.788μm波段的平均透过率达到97.68%,通带半宽度HFWD为398 nm(402~800 nm),有效地抑制了"半波孔"现象出现,并具有双波段截止和高通带透过率的特点。在环境测试中:薄膜的稳定性良好,膜层间匹配度适宜。因此,该双波段截止透可见滤光片可用于某些极端的环境条件中。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 滤光片 半波孔

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EB-PVD制备硅基SiC薄膜及其性能研究 被引量：2

18

作者 潘训刚 何晓雄 +1 位作者 胡冰冰 马志敏 《合肥工业大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1665-1668,共4页

文章采用电子束蒸发物理气相沉积(EB-PVD)技术在单晶Si片上制备SiC薄膜,通过台阶仪(surfaceprofiler)、原子力显微镜(AFM)、半导体综合测试仪、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜表面形貌、电学性能及其结构进行分析。结果表明... 文章采用电子束蒸发物理气相沉积(EB-PVD)技术在单晶Si片上制备SiC薄膜,通过台阶仪(surfaceprofiler)、原子力显微镜(AFM)、半导体综合测试仪、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜表面形貌、电学性能及其结构进行分析。结果表明:SiC薄膜越厚,表面平均粗糙度越低;退火温度越高,薄膜结晶质量越好;对SiC薄膜进行辐照的光频率越高,光电流越大。 展开更多

关键词 SIC薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 原子力显微镜 扫描电子显微镜 X射线衍射

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双波段截止分色滤光片研究 被引量：4

19

作者 曹晶辉 苏宙平 +2 位作者 胡莹 胡立发 朱华新 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第12期1675-1680,共6页

为实现45°入射情况下K9基底上双波段截止分色的特性(截止带波长0.5~0.68μm、0.73~0.79μm,通带波长0.83~0.87μm),采用F-P型的带通滤光片膜系结构为初始结构,与常规设计理念相比有效减少了膜层的数量,薄膜的高折材料采用Ti O2,低... 为实现45°入射情况下K9基底上双波段截止分色的特性(截止带波长0.5~0.68μm、0.73~0.79μm,通带波长0.83~0.87μm),采用F-P型的带通滤光片膜系结构为初始结构,与常规设计理念相比有效减少了膜层的数量,薄膜的高折材料采用Ti O2,低折材料采用Si O2,以实现双波段截止的目的。膜层的设计层数为23层,总厚度为2.278μm,借助电子束蒸发物理气相沉积法实现了镀制,利用分光光度计对镀制样品的透过率进行评估。测试结果显示,截止区(0.5~0.68μm和0.73~0.79μm)平均截止深度分别达到了12.57%和20.39%,通带0.83~0.87μm波段内的平均透过率达到了91.35%,样品测试曲线与设计相比,"蓝移"将近10 nm。薄膜样品基本实现了设计目标,具有双波段截止、高通带透过率的特性。在环境测试中:薄膜表现出显著的稳定性,膜层间匹配度适宜。该双波段截止分色滤光片能够应用在一些极端的情况下。 展开更多

关键词 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 滤光片

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