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爱德万测试推出全新E3640电子显微镜系统
1
《中国集成电路》
2014年第1期8-8,共1页
半导体测试设备商爱德万测试为适应1Xnm制程掩膜缺陷检测需求，推出了全新多功能整合型量测扫描式电子显微镜E3640，预计于今年6月正式上市。
关键词
半导体测试
电子显微镜
系统
缺陷
检测
设备商
扫描式
整合型
多功能
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职称材料
应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统
2
《中国集成电路》
2008年第1期6-7,共2页
近日，应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM（扫描电子显微镜）SEMVision G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和...
近日，应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM（扫描电子显微镜）SEMVision G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和增强的多视角SEM成像系统（MPSI），
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关键词
应用材料公司
检测
系统
G4
缺陷
扫描
电子显微镜
技术节点
SEM
生产能力
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职称材料
应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
3
《中国集成电路》
2012年第1期7-7,共1页
应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20纳米影响良率...
应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20纳米影响良率的缺陷。
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关键词
应用材料公司
缺陷
检测
SEM
自主式
扫描
电子显微镜
开发
制程
检测
工具
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职称材料
新一代DRSEM系统SEMVisionG2 FIB简介
4
作者
李文胜
江洪波
+1 位作者
金成洛
利定东
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期21-24,共4页
简要介绍了当前半导体生产中对电子显微镜缺陷再检测(Defect Review SEM, DRSEM)系统的要求,以及应用材料公司针对这些要求推出的新一代DRSEM系统 —— SEMVisionG2 FIB的各种主要功能及其在半导体生产线上的应用。
关键词
DRSEM
电子显微镜缺陷再检测
SEMVisionG2
FIB
半导体
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职称材料
题名
爱德万测试推出全新E3640电子显微镜系统
1
出处
《中国集成电路》
2014年第1期8-8,共1页
文摘
半导体测试设备商爱德万测试为适应1Xnm制程掩膜缺陷检测需求，推出了全新多功能整合型量测扫描式电子显微镜E3640，预计于今年6月正式上市。
关键词
半导体测试
电子显微镜
系统
缺陷
检测
设备商
扫描式
整合型
多功能
分类号
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统
2
出处
《中国集成电路》
2008年第1期6-7,共2页
文摘
近日，应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM（扫描电子显微镜）SEMVision G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVision G4系统的关键在于全新的SEM聚焦离子枪技术和增强的多视角SEM成像系统（MPSI），
关键词
应用材料公司
检测
系统
G4
缺陷
扫描
电子显微镜
技术节点
SEM
生产能力
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
3
出处
《中国集成电路》
2012年第1期7-7,共1页
文摘
应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20纳米影响良率的缺陷。
关键词
应用材料公司
缺陷
检测
SEM
自主式
扫描
电子显微镜
开发
制程
检测
工具
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
新一代DRSEM系统SEMVisionG2 FIB简介
4
作者
李文胜
江洪波
金成洛
利定东
机构
应用材料中国公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期21-24,共4页
文摘
简要介绍了当前半导体生产中对电子显微镜缺陷再检测(Defect Review SEM, DRSEM)系统的要求,以及应用材料公司针对这些要求推出的新一代DRSEM系统 —— SEMVisionG2 FIB的各种主要功能及其在半导体生产线上的应用。
关键词
DRSEM
电子显微镜缺陷再检测
SEMVisionG2
FIB
半导体
Keywords
defect, DRSEM, SEMVisionG2 FIB
分类号
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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出处
发文年
被引量
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1
爱德万测试推出全新E3640电子显微镜系统
《中国集成电路》
2014
0
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职称材料
2
应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统
《中国集成电路》
2008
0
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职称材料
3
应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
《中国集成电路》
2012
0
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职称材料
4
新一代DRSEM系统SEMVisionG2 FIB简介
李文胜
江洪波
金成洛
利定东
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
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