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金刚石薄膜电子场发射研究进展 被引量:2
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作者 茅东升 赵俊 +7 位作者 李炜 王曦 柳襄怀 诸玉坤 周江云 范忠 李琼 徐静芳 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期27-31,共5页
综述了近年来金刚石和类金刚石薄膜电子场发射性能的研究进展。金刚石薄膜是出色的场发射材料,由于其很低的或者是负的电子亲和势(导带能级位于真空能级之上)和良好的化学稳定性,在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。
关键词 金刚石 薄膜 电子场发射性能 研究进展 制备
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类金刚石膜的光学及场发射性能研究现状 被引量:1
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作者 桑红毅 张维佳 王天民 《材料导报》 EI CAS CSCD 2002年第7期38-40,共3页
类金刚石膜以其优良的性能广泛应用于机械、电子、光学和生物医学等许多领域。主要介绍了DLCF的光学及场发射性能研究进展,并对研究现状进行了分析和展望。
关键词 光学性能 电子发射性能 类金刚石膜
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