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电子回旋共振波等离子体及其应用
被引量：
3
1
作者
殷冀平
蔺增
巴德纯
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期324-333,共10页
电子回旋共振波等离子体是依靠特殊的电磁波与电学各向异性材料相互作用来实现的,它被证明是一种适用于改进传统真空镀膜工艺的高效技术。与传统辉光等离子体放电系统相比,电子回旋共振波系统的特点是产生高离子电流密度、能量分布集中...
电子回旋共振波等离子体是依靠特殊的电磁波与电学各向异性材料相互作用来实现的,它被证明是一种适用于改进传统真空镀膜工艺的高效技术。与传统辉光等离子体放电系统相比,电子回旋共振波系统的特点是产生高离子电流密度、能量分布集中的等离子体,能够实现半导体薄膜的低压高速沉积,具有离化率高、放电反应室内无电极、适合大面积薄膜沉积等优点。在实际实验及应用中常使用双电源驱动等离子体放电系统,利用电子回旋共振波原理进行等离子体放电,而使用另一个独立的射频(或者直流)电源系统来驱动等离子体束流的引出,在等离子体放电过程中可实现独立、精确控制离子电流密度和离子能量等参数,在半导体薄膜沉积、精密刻蚀、等离子体源等领域有着重要的应用。本文主要介绍了电子回旋共振波等离子体原理、特点,并结合实验与诊断方法朗缪尔探针等技术来展示其研究应用进展。
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关键词
电子回旋共振波
薄膜沉积
等离子体源
朗缪尔探针
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职称材料
使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜
被引量：
1
2
作者
殷冀平
吕少波
+1 位作者
蔺增
巴德纯
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期273-279,共7页
中频磁控溅射虽相较于电子束蒸发成膜质量更好,但不可避免仍然存在一部分颗粒物,将严重影响光学薄膜的质量和光学特性。研究了使用电子回旋波共振(ECWR)等离子体源作为辅助设备与中频磁控溅射相配合沉积的氧化铌薄膜,进行了等离子体诊...
中频磁控溅射虽相较于电子束蒸发成膜质量更好,但不可避免仍然存在一部分颗粒物,将严重影响光学薄膜的质量和光学特性。研究了使用电子回旋波共振(ECWR)等离子体源作为辅助设备与中频磁控溅射相配合沉积的氧化铌薄膜,进行了等离子体诊断和薄膜表征。结果表明:在相同条件下,ECWR等离子体放电的氧化效果明显优于传统的感应耦合等离子体放电。ECWR等离子体源能够在较低压强的纯氧环境下稳定产生高密度等离子体,无须通过氩气作“引子”来激发维持氧气的稳定放电,展示了电子回旋波共振放电结构的优越性。沉积得到的非晶氧化铌薄膜光滑均匀且透射率达91%,能有效消除中频磁控溅射产生的颗粒物问题。通过透射率波峰位置对比发现纯氧ECWR放电样片出现红移,原因是其放电得到的薄膜均匀而致密,使光学禁带宽度向低能方向漂移出现带隙窄化。研究结果还揭示了离子源高密度、低能量特性与薄膜表面和光学特性之间的关系,为精密光学薄膜应用提供了新的解决方案。
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关键词
电子
回旋
波
共振
等离子体
中频磁控溅射
等离子体诊断
感应耦合等离子体
氧化铌薄膜
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职称材料
题名
电子回旋共振波等离子体及其应用
被引量：
3
1
作者
殷冀平
蔺增
巴德纯
机构
机械工程与自动化学院东北大学
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期324-333,共10页
基金
中央高校基本科研业务费专项资金资助(N130403002
N141008001/3)
文摘
电子回旋共振波等离子体是依靠特殊的电磁波与电学各向异性材料相互作用来实现的,它被证明是一种适用于改进传统真空镀膜工艺的高效技术。与传统辉光等离子体放电系统相比,电子回旋共振波系统的特点是产生高离子电流密度、能量分布集中的等离子体,能够实现半导体薄膜的低压高速沉积,具有离化率高、放电反应室内无电极、适合大面积薄膜沉积等优点。在实际实验及应用中常使用双电源驱动等离子体放电系统,利用电子回旋共振波原理进行等离子体放电,而使用另一个独立的射频(或者直流)电源系统来驱动等离子体束流的引出,在等离子体放电过程中可实现独立、精确控制离子电流密度和离子能量等参数,在半导体薄膜沉积、精密刻蚀、等离子体源等领域有着重要的应用。本文主要介绍了电子回旋共振波等离子体原理、特点,并结合实验与诊断方法朗缪尔探针等技术来展示其研究应用进展。
关键词
电子回旋共振波
薄膜沉积
等离子体源
朗缪尔探针
Keywords
Electron cyclotron wave resonance
Film deposition
Plasma source
Langmuir probe
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜
被引量：
1
2
作者
殷冀平
吕少波
蔺增
巴德纯
机构
东北大学机械工程与自动化学院
沈阳仪表科学研究院有限公司汇博光学
辽宁省植入器械与界面科学重点实验室
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期273-279,共7页
基金
国家自然科学基金(51775096)
中国科学院-威高研究发展计划攻关项目([2007]006)
中央高校基本科研业务费项目(N2003009)。
文摘
中频磁控溅射虽相较于电子束蒸发成膜质量更好,但不可避免仍然存在一部分颗粒物,将严重影响光学薄膜的质量和光学特性。研究了使用电子回旋波共振(ECWR)等离子体源作为辅助设备与中频磁控溅射相配合沉积的氧化铌薄膜,进行了等离子体诊断和薄膜表征。结果表明:在相同条件下,ECWR等离子体放电的氧化效果明显优于传统的感应耦合等离子体放电。ECWR等离子体源能够在较低压强的纯氧环境下稳定产生高密度等离子体,无须通过氩气作“引子”来激发维持氧气的稳定放电,展示了电子回旋波共振放电结构的优越性。沉积得到的非晶氧化铌薄膜光滑均匀且透射率达91%,能有效消除中频磁控溅射产生的颗粒物问题。通过透射率波峰位置对比发现纯氧ECWR放电样片出现红移,原因是其放电得到的薄膜均匀而致密,使光学禁带宽度向低能方向漂移出现带隙窄化。研究结果还揭示了离子源高密度、低能量特性与薄膜表面和光学特性之间的关系,为精密光学薄膜应用提供了新的解决方案。
关键词
电子
回旋
波
共振
等离子体
中频磁控溅射
等离子体诊断
感应耦合等离子体
氧化铌薄膜
Keywords
electron cyclotron wave resonance plasma
medium frequency magnetron sputtering
plasma diagnosis
inductively coupled plasma
niobium oxide film
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子回旋共振波等离子体及其应用
殷冀平
蔺增
巴德纯
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
使用电子回旋波共振等离子体源辅助中频磁控溅射沉积氧化铌薄膜
殷冀平
吕少波
蔺增
巴德纯
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
1
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职称材料
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