期刊文献+
共找到135篇文章
< 1 2 7 >
每页显示 20 50 100
流化床直接法合成甲基氯硅烷的实验研究 被引量:14
1
作者 韩琭 王光润 +2 位作者 梁卫华 罗务习 王金福 《高校化学工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期287-292,共6页
在f 24mm的实验室流化床装置上,对金属硅与氯甲烷在CuCl催化剂作用下直接合成二甲基二氯硅烷(DDS)的气-固-固相催化反应进行了实验研究。结果表明,为获得较高的DDS选择性,反应应在300℃以下进行,实验测得反应速率达到70gCH3Cl(kgSi)-1h... 在f 24mm的实验室流化床装置上,对金属硅与氯甲烷在CuCl催化剂作用下直接合成二甲基二氯硅烷(DDS)的气-固-固相催化反应进行了实验研究。结果表明,为获得较高的DDS选择性,反应应在300℃以下进行,实验测得反应速率达到70gCH3Cl(kgSi)-1h-1,主副反应的活化能分别为92kJmol-1和254kJmol-1。将流化床实验的结果与固定床实验结果进行了对比,流化床反应器在反应活性和DDS选择性上均远优于固定床,是最适用于有机硅单体合成的反应器型式。根据文献资料和气-固-固催化反应机理对实验中观察到的现象进行了解释。 展开更多
关键词 直接法 合成 甲基氯硅烷 实验研究 有机硅单体 流化床 硅铜合金
在线阅读 下载PDF
三甲基氯硅烷对纳米多孔二氧化硅薄膜的修饰 被引量:18
2
作者 王娟 张长瑞 冯坚 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1399-1403,共5页
以正硅酸乙酯为先驱体,采用溶胶-凝胶法,结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜.用三甲基氯硅烷(TMCS)对该SiO2薄膜进行了表面修饰,采用FTIR、TG-DTA、AFM和椭偏仪等方法研究了TMCS修饰前后薄膜的结构、形貌、厚... 以正硅酸乙酯为先驱体,采用溶胶-凝胶法,结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜.用三甲基氯硅烷(TMCS)对该SiO2薄膜进行了表面修饰,采用FTIR、TG-DTA、AFM和椭偏仪等方法研究了TMCS修饰前后薄膜的结构、形貌、厚度与介电常数等性能.超临界干燥后的SiO2薄膜含有Si-O-Si与Si-OR结构,呈疏水性.在空气中250℃以上热处理后SiO2薄膜因含有Si-OH而呈吸水性.TMCS修饰后的SiO2薄膜在温度不高于450℃时可保持其疏水性和多孔结构.SiO2薄膜经TMCS修饰后基本粒子和孔隙尺寸增大,孔隙率提高,介电常数可降低至2.5以下. 展开更多
关键词 纳米多孔SiO2薄膜 溶胶-凝胶 甲基氯硅烷 低介电常数(low κ)
在线阅读 下载PDF
添加Al粉对直接法合成甲基氯硅烷的影响及其机理研究 被引量:6
3
作者 罗务习 王光润 +1 位作者 王金福 金涌 《高校化学工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期803-807,共5页
针对直接合成法合成甲基氯硅烷单体,系统考察了添加微量Al粉对该反应的影响及其作用机理。分别在4%和10%铜浓度下,通过在线色谱分析的方法研究了添加Al粉对反应速率和M2选择性的影响。实验结果表明,添加Al粉可以很大程度上增加反应速率... 针对直接合成法合成甲基氯硅烷单体,系统考察了添加微量Al粉对该反应的影响及其作用机理。分别在4%和10%铜浓度下,通过在线色谱分析的方法研究了添加Al粉对反应速率和M2选择性的影响。实验结果表明,添加Al粉可以很大程度上增加反应速率,缩短反应诱导期,但是Al粉的添加量超过一定量后会急剧降低反应选择性。建议工业中添加Al粉的量不应超过0.25%。通过SEM观察反应触体,发现添加铝粉可以改变触体反应活性中心的形貌,推测Al粉的作用主要是去除Si颗粒表面的氧化层,形成更多的缺陷,有利于催化剂与Si颗粒更好地结合。通过XRD对触体进行分析,发现添加Al粉后形成了更多的活性组分η相,从而加速了反应的进行。 展开更多
关键词 直接反应 甲基氯硅烷 Al粉 反应速率 选择性 η-相
在线阅读 下载PDF
活性炭负载AlCl_3固体酸催化甲基氯硅烷再分配反应性能与结构研究 被引量:5
4
作者 谭军 范宏 +1 位作者 卜志扬 李伯耿 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期2865-2870,共6页
以活性炭为载体,采用浸溃蒸发煅烧法制备了负载型AlC13固体酸催化剂,并以甲基三氯硅烷(M1)和三甲基氯硅烷(M3)的再分配反应为模型反应,在φ20mm×800mm的固定床反应器中,310℃、n(M1/M3)=1.0、液时空速1.5h^-1下考察... 以活性炭为载体,采用浸溃蒸发煅烧法制备了负载型AlC13固体酸催化剂,并以甲基三氯硅烷(M1)和三甲基氯硅烷(M3)的再分配反应为模型反应,在φ20mm×800mm的固定床反应器中,310℃、n(M1/M3)=1.0、液时空速1.5h^-1下考察了催化剂的制备条件对其反应活性的影响,并对催化剂的稳定性进行了初步考察.运用N2等温吸附-脱附法、XRD、TG-DSC和吡啶吸附Raman光谱等手段对催化剂的结构和酸性进行了表征.结果表明,较佳的催化剂制备条件为:活性炭经过2.0mol·L^-1盐酸溶液处理6h,AlC13负载量为1.87mmol·g^-1,450-500℃焙烧活化;催化剂在100h内表现出良好的催化稳定性.催化剂的XRD和TG-DSC表征结果表明,AlCl3负载到活性炭载体上经活化后不再以AlCl3晶相存在,催化剂在485~600℃时活性组分出现分解;吡啶吸附Raman光谱分析表明催化剂的活性组分为Lewis酸。 展开更多
关键词 固体酸催化剂 活性炭 ALCL3 甲基氯硅烷 甲基氯硅烷 再分配反应
在线阅读 下载PDF
乙烯基氯硅烷和甲基氯硅烷混合水解机理研究 被引量:4
5
作者 胡文斌 崔英德 +2 位作者 廖列文 尹国强 李凤仪 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期30-32,共3页
以乙烯基甲基二氯硅烷单体和二甲基二氯硅烷单体为原料,酸性、低温下条件混和水解制备了甲基、乙烯基硅烷混合环体,以气相色谱-质谱联用仪对上述环体进行了定性分析;从分子结构层面分析了上述两种单体混合水解合成环体的原理,推导并提... 以乙烯基甲基二氯硅烷单体和二甲基二氯硅烷单体为原料,酸性、低温下条件混和水解制备了甲基、乙烯基硅烷混合环体,以气相色谱-质谱联用仪对上述环体进行了定性分析;从分子结构层面分析了上述两种单体混合水解合成环体的原理,推导并提出了水解生成甲基环体和乙烯基环体的可能反应机理,至今未见有文献报道。实验结果验证了反应机理,为小试实验条件乃至中试及生产条件的确定提供了理论参考。 展开更多
关键词 水解机理 混合水解 乙烯基氯硅烷 甲基氯硅烷
在线阅读 下载PDF
三甲基氯硅烷修饰对HZSM-5沸石环己烯水合催化反应性能的影响 被引量:3
6
作者 马丙丽 淳远 +3 位作者 周炜 沈振涛 须沁华 董家騄 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期827-829,共3页
采用三甲基氯硅烷对HZSM-5沸石进行外表面修饰,并进行了骨架IR、真空IR和异丙醇催化分解探针反应表征以及环己烯水合反应性能的考察.改性后试样外表面引入憎水性硅烷基,覆盖了部分外表面酸性位.在环己烯水合反应中搅拌的条件下其活性与... 采用三甲基氯硅烷对HZSM-5沸石进行外表面修饰,并进行了骨架IR、真空IR和异丙醇催化分解探针反应表征以及环己烯水合反应性能的考察.改性后试样外表面引入憎水性硅烷基,覆盖了部分外表面酸性位.在环己烯水合反应中搅拌的条件下其活性与母体沸石相似,但在静置的反应条件下却表现出远优于改性前HZSM-5沸石的催化活性,显示出潜在的工业应用前景. 展开更多
关键词 HZSM-5沸石 甲基氯硅烷 表征 环己烯水合反应
在线阅读 下载PDF
三甲基氯硅烷及六甲基二硅氮烷水解产物分析方法研究 被引量:3
7
作者 吕怡兵 谭丽 +1 位作者 邢冠华 滕恩江 《中国环境监测》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期49-52,共4页
研究采用吹扫捕集-气相色谱-质谱法测定三甲基氯硅烷及六甲基二硅氮烷水解产物的分析方法。结果表明,两种物质遇水迅速水解,水解产物均为三甲基硅醇与六甲基二硅氧烷。以该方法测定六甲基二硅氧烷的检出限为0.02ng/ml,精密度为1.3%~10.... 研究采用吹扫捕集-气相色谱-质谱法测定三甲基氯硅烷及六甲基二硅氮烷水解产物的分析方法。结果表明,两种物质遇水迅速水解,水解产物均为三甲基硅醇与六甲基二硅氧烷。以该方法测定六甲基二硅氧烷的检出限为0.02ng/ml,精密度为1.3%~10.6%,线性范围为0.05~60ng/ml。水解动力学研究结果表明,三甲基氯硅烷及六甲基二硅氮烷水解产物含量随时间减少而降低,强酸、强碱条件下测试未发现生成其他的水解产物。该方法可为同类污染物的应急测试提供参考。 展开更多
关键词 甲基氯硅烷 甲基二硅氮烷 甲基硅醇 甲基二硅氧烷 水解
在线阅读 下载PDF
氯化反应合成聚甲基氯硅烷的研究 被引量:2
8
作者 邢欣 李效东 +2 位作者 郭爱青 曹峰 王军 《功能高分子学报》 CAS CSCD 2004年第2期181-184,共4页
以四氯化碳为氯化剂,利用聚甲基硅烷(PMS)Si-H键的反应活性,在室温条件下即可通过氯化反应制备PCMS。研究发现,随着反应时间的增长,硅氢反应程度增大,所得PCMS的氯含量相应增大,但分子量分布变化不大,PCMS仍保持其离域结构;同时,PMS分... 以四氯化碳为氯化剂,利用聚甲基硅烷(PMS)Si-H键的反应活性,在室温条件下即可通过氯化反应制备PCMS。研究发现,随着反应时间的增长,硅氢反应程度增大,所得PCMS的氯含量相应增大,但分子量分布变化不大,PCMS仍保持其离域结构;同时,PMS分子的支化程度越高,氯化反应的速度越快。PCMS的结构以~1H-NMR和^(29)Si CP MAS-NMR等手段予以表征和确认。初步讨论认为反应属于自由基反应,四氯化碳对Si-H具有较高的选择性。 展开更多
关键词 甲基氯硅烷 氯化反应 合成 四氯化碳 自由基反应
在线阅读 下载PDF
三甲基氯硅烷涂层毛细管胶束电动色谱法测定苯甲酸和邻苯二甲酸 被引量:2
9
作者 谢建平 任凯 +5 位作者 刘中奎 刘秋艳 邓洪瑞 王晓璐 张亚楠 翟海蝶 《安徽农业科学》 CAS 北大核心 2011年第36期22564-22565,22570,共3页
[目的]建立测定苯甲酸和邻苯二甲酸含量的毛细管胶束电动色谱涂层新方法。[方法]采用三甲基氯硅烷涂层的毛细管胶束电动色谱-紫外二极管阵列检测的新方法来分离测定饮料中的苯甲酸和实验室废水中的苯甲酸和邻苯二甲酸,考察了波长、pH值... [目的]建立测定苯甲酸和邻苯二甲酸含量的毛细管胶束电动色谱涂层新方法。[方法]采用三甲基氯硅烷涂层的毛细管胶束电动色谱-紫外二极管阵列检测的新方法来分离测定饮料中的苯甲酸和实验室废水中的苯甲酸和邻苯二甲酸,考察了波长、pH值、缓冲介质和电压等因素对苯甲酸和邻苯二甲酸分离测定的影响。[结果]以20 mmol/L SDS+35 mmol/L硼砂(pH值9.5)为运行缓冲液,在检测波长为210 nm,分离电压为14 kV条件下,苯甲酸和邻苯二甲酸在3 min内实现分离,在2~800μg/L范围内两者峰高与浓度有良好的线性关系,其相关系数分别为0.999 3和0.999 9,迁移时间的RSD分别为2.65%和3.69%,峰高的RSD分别是3.12%和4.52%,检出限分别为0.106 7和0.121 3μg/ml。[结论]该测定方法具有试样用量少、操作简捷、灵敏度和准确性好的特点,为防腐剂的分析提供了有效的检测方法。 展开更多
关键词 胶束电动色谱 涂层 苯甲酸 邻苯二甲酸 甲基氯硅烷
在线阅读 下载PDF
γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基氯硅烷的合成 被引量:3
10
作者 陈勇 李祯 黄光速 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期257-259,共3页
利用自制的催化剂C,通过甲基丙烯酸烯丙酯和二甲基氯硅烷的硅氢加成反应制备了γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基氯硅烷。与经典的Speier催化剂相比,自制催化剂具有更高的催化活性,显著地降低了反应温度,且缩短了反应时间,同时考察了反应... 利用自制的催化剂C,通过甲基丙烯酸烯丙酯和二甲基氯硅烷的硅氢加成反应制备了γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基氯硅烷。与经典的Speier催化剂相比,自制催化剂具有更高的催化活性,显著地降低了反应温度,且缩短了反应时间,同时考察了反应条件对催化剂活性和反应结果的影响。 展开更多
关键词 γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基二甲基氯硅烷 甲基丙烯酸烯丙酯 硅氢加成 Speier催化剂
在线阅读 下载PDF
国内甲基氯硅烷合成工艺的比较 被引量:1
11
作者 周遵石 鲁建春 +3 位作者 杨雨富 王刚 金美仙 王福民 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期264-266,共3页
以中国石油吉林石化公司甲基氯硅烷生产工艺为主线、通过对国内三大有机硅厂家的考察及有关资料分析,将国内三大有机硅厂家的生产工艺进行全面对比,并参照国外有机硅发展情况,为今后的有机硅工业发展提出建议.
关键词 甲基氯硅烷 合成 工艺
在线阅读 下载PDF
有机硅高沸物催化裂解制甲基氯硅烷工艺研究 被引量:1
12
作者 熊艳锋 张宁 +1 位作者 曹迁永 姚林 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第8期57-59,共3页
以直接法合成甲基氯硅烷单体过程中所产生的有机硅高沸物为原料,研究了利用催化裂解歧化的方法,使之转化为有价值的甲基氯硅烷单体;比较了几种不同催化剂及载体的裂解歧化效果;考查了温度对裂解率和收率的影响.当反应温度约为633K,操作... 以直接法合成甲基氯硅烷单体过程中所产生的有机硅高沸物为原料,研究了利用催化裂解歧化的方法,使之转化为有价值的甲基氯硅烷单体;比较了几种不同催化剂及载体的裂解歧化效果;考查了温度对裂解率和收率的影响.当反应温度约为633K,操作压力为0.1~0.2MPa,采用经酸处理的活性炭和γ-Al2O3作为催化剂组合成两段式催化反应,可获得76.4%的高沸物裂解率,同时单体的总收率为77.3%,二甲基二氯硅烷收率为40.4%. 展开更多
关键词 有机硅高沸物 甲基氯硅烷 甲基氯硅烷 催化裂解
在线阅读 下载PDF
催化体系对直接法合成甲基氯硅烷的影响 被引量:3
13
作者 张桂华 《化工新型材料》 CAS CSCD 2004年第10期21-23,27,共4页
概述了直接法合成甲基氯硅烷的催化反应机理、催化剂种类、用量及分散 ,探讨了温度对催化体系的影响及反应前后触体的变化。
关键词 甲基氯硅烷 直接法 合成 催化反应 催化剂 触体 氯化亚铜
在线阅读 下载PDF
中国甲基氯硅烷工业50年
14
作者 傅积赉 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期I0004-I0006,共3页
关键词 中国 甲基氯硅烷工业 有机硅材料 低温性 电绝缘性 介电性
在线阅读 下载PDF
甲基氯硅烷低沸物的分离分析 被引量:5
15
作者 周婷婷 陈关喜 +1 位作者 吴清洲 冯建跃 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1448-1451,共4页
选用DB-624毛细管色谱柱,用气相色谱法对直接法合成的26种甲基氯硅烷低沸物(LBR)组分(其中包括难分离的物质对甲基二氯硅烷和2-甲基-2-丁烯)进行分离。考察了柱温和载气流速对分离效果的影响,发现柱温和载气流速均较低时,分离效果较好... 选用DB-624毛细管色谱柱,用气相色谱法对直接法合成的26种甲基氯硅烷低沸物(LBR)组分(其中包括难分离的物质对甲基二氯硅烷和2-甲基-2-丁烯)进行分离。考察了柱温和载气流速对分离效果的影响,发现柱温和载气流速均较低时,分离效果较好。采用气相色谱质谱联用和气相色谱保留时间对照2种方法对组分进行了定性分析,根据色谱保留时间和质谱图的信息,确定了LBR组分结构,并对其进行了定量分析。结果表明,四甲基硅烷、二甲基氯硅烷和甲基二氯硅烷是LBR的主要活性成分,而2-甲基-1丙-烯、2-甲基丁烷和2甲-基-2丁-烯是LBR的主要杂质。方法操作简便、快速、效率高,适用于甲基氯硅烷生产控制中的快速分析和其工业分离的方法研究。 展开更多
关键词 甲基氯硅烷 低沸物 毛细管色谱柱 气相色谱 气相色谱质谱联用
在线阅读 下载PDF
甲基氯硅烷初产品的组成分析 被引量:5
16
作者 戴雪峰 陈关喜 冯建跃 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期724-726,共3页
以气相色谱和色谱-质谱联用技术分析了甲基氯硅烷初产品的组成,对于其中的2-甲基-2-丁烯与甲基二氯硅烷的色谱重叠峰,采用醇解反应处理,并以样品中不会醇解的四甲基硅烷做参照来计算其含量。
关键词 甲基氯硅烷 初产品 醇解 气相色谱 色谱-质谱联用
在线阅读 下载PDF
甲基氯硅烷合成流化床反应器多尺度模拟 被引量:3
17
作者 王德坤 曹华俊 +1 位作者 孙伟振 赵玲 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2019年第9期881-886,共6页
针对直接法合成甲基氯硅烷流化床反应器,采用基于欧拉-欧拉多相流模型的计算流体力学方法对反应器内流场进行了模拟计算,建立了以两相流为基础的流化床反应器多釜串联模型,模拟计算了不同条件下的反应器出口状态,并采用工业数据对动力... 针对直接法合成甲基氯硅烷流化床反应器,采用基于欧拉-欧拉多相流模型的计算流体力学方法对反应器内流场进行了模拟计算,建立了以两相流为基础的流化床反应器多釜串联模型,模拟计算了不同条件下的反应器出口状态,并采用工业数据对动力学模型参数进行了修正。实验结果表明,流化床内部达到稳定状态时,床层高度为11.7 m,固体均匀分布,固体体积分数为0.63;模拟计算得到的反应转化率和选择性与工业数据吻合良好,不同工艺条件模拟计算表明在温度达到310℃时主产物二甲基二氯硅烷收率达到最高,相关研究结果可为甲基氯硅烷合成工业反应器的设计和优化提供参考。 展开更多
关键词 甲基氯硅烷 流化床 多尺度 计算流体力学 两相流
在线阅读 下载PDF
硅中杂质及结构对直接法合成甲基氯硅烷的影响 被引量:1
18
作者 叶青 付学红 +2 位作者 李承业 曹美华 王刚 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期267-268,共2页
硅粉质量是触体选择性和反应性的最重要的影响因素.硅中主要杂质是铝、钛、铁和钙.讨论了硅中金属相、晶相结构、氧含量对直接法合成甲基氯硅烷的影响,硅的冷却率对其组成有直接影响.
关键词 金属相 晶相结构 甲基氯硅烷
在线阅读 下载PDF
甲基氯硅烷生产废液制备氯化氢和有机硅树脂 被引量:1
19
作者 李斌 陆颍舟 +1 位作者 严保石 李春喜 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期536-539,共4页
研究了将高、低沸点甲基氯硅烷生产废液分别通过醇解和水解反应制备HCl和有机硅树脂的工艺方法,考察了醇解时间、醇解温度和m(废液)∶m(甲醇)等因素对产物收率的影响。实验得到最佳反应条件为:m(废液)∶m(甲醇)=1∶0.5,醇解温度65℃,醇... 研究了将高、低沸点甲基氯硅烷生产废液分别通过醇解和水解反应制备HCl和有机硅树脂的工艺方法,考察了醇解时间、醇解温度和m(废液)∶m(甲醇)等因素对产物收率的影响。实验得到最佳反应条件为:m(废液)∶m(甲醇)=1∶0.5,醇解温度65℃,醇解时间2 h。在该条件下由高、低沸点废液制得的有机硅树脂收率分别为43.2%和40.6%。将制得的有机硅树脂经500℃干燥处理后,可作为填料,制备有机硅树脂-聚氯乙烯复合材料。该材料的力学性能与SiO2-聚氯乙烯复合材料接近。 展开更多
关键词 甲基氯硅烷 水解 醇解 氯化氢 有机硅树脂 废液 综合利用
在线阅读 下载PDF
硅基电子气去除甲基氯硅烷的分子动力学模拟 被引量:1
20
作者 李艳平 严大洲 +2 位作者 杨涛 温国胜 韩治成 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期4375-4385,共11页
光纤通信技术具有通信容量大、传输损耗低、保密性能好等优点,是一种极有前途的多路通信手段。相关技术中利用硅基电子气SiCl_(4)经化学气相沉积法制备光纤预制棒,但是SiCl_(4)中的含金属杂质和含氢杂质因对光子产生很大的振动吸收而增... 光纤通信技术具有通信容量大、传输损耗低、保密性能好等优点,是一种极有前途的多路通信手段。相关技术中利用硅基电子气SiCl_(4)经化学气相沉积法制备光纤预制棒,但是SiCl_(4)中的含金属杂质和含氢杂质因对光子产生很大的振动吸收而增加光纤传输中光的吸收损耗。光纤用SiCl_(4)对纯度的要求极高,其中含氢杂质甲基氯硅烷的含量需降低到5mg/kg或者更低。通过光氯化法结合精馏工艺提纯SiCl_(4)是目前为止制备光纤用高纯SiCl_(4)最合适的方法。本文针对光氯化法去除甲基氯硅烷杂质的工艺过程进行分子层面的反应分子动力学模拟研究,重点比较分析了Cl与Cl自由基及反应温度对甲基氯硅烷的去除效果,并探究了不同的模拟体系中形成的主要的中间产物及其主要的转化路径,为光氯化除杂反应提供了基础的化学反应机理及工艺的改进方向。模拟结果表明,在反应体系中引入Cl自由基后对甲基氯硅烷的去除效率能够达到相同模拟条件下Cl_(2)的2倍;体系的反应温度与甲基氯硅烷的去除效率之间的相互关系并不是单调变化的,存在最佳反应温度(373K)使甲基氯硅烷的去除效率达到最大;甲基氯硅烷分子中的C—H键及C—Si键因具有较大的键能而难断裂,只有当体系内反应温度升高到一定值后(423K)才可观察到C—H键的断裂,只有在体系内引入活泼的Cl自由基后才可观察到C—Si键的断裂。 展开更多
关键词 化学反应 光氯化 甲基氯硅烷 分子模拟 微观化学反应机理
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 7 下一页 到第
使用帮助 返回顶部