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γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究 被引量:6
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作者 韩纪梅 李玉宝 +4 位作者 莫利蓉 王学江 许凤兰 吴曦 吴兰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期629-632,共4页
用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH... 用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH 是与KH 570 相互作用的主要基团,C O 键的伸缩振动新峰及Si 峰的出现,说明硅烷已成功接枝在HA晶体表面。n HA晶体与有机硅烷之间的界面结合相互作用主要包括氢键和化学键,但也存在羰基与钙离子之间产生静电荷吸引的可能。用此改性的n HA与高分子或牙科树脂复合可大大改善n HA与复合材料的力学性能,并发挥n HA 的生物功能效应。 展开更多
关键词 纳米羟磷灰石 γ-甲基丙烯酸甲氧基 界面作用
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偶联剂对聚丙烯酸酯/SiO_2杂合乳液的作用机理 被引量:1
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作者 罗春晖 瞿金清 陈焕钦 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期76-80,共5页
采用硅烷偶联剂对硅溶胶进行改性,添加到聚丙烯酸酯乳液(PAE)中制备聚丙烯酸酯/SiO2杂合乳液(Si-PAE),研究了硅烷偶联剂的种类和添加量对涂膜性能的影响。结果发现,3-缩水甘油基丙基三甲氧基硅烷(Z-6040)含有环氧基和甲氧基硅基团,在成... 采用硅烷偶联剂对硅溶胶进行改性,添加到聚丙烯酸酯乳液(PAE)中制备聚丙烯酸酯/SiO2杂合乳液(Si-PAE),研究了硅烷偶联剂的种类和添加量对涂膜性能的影响。结果发现,3-缩水甘油基丙基三甲氧基硅烷(Z-6040)含有环氧基和甲氧基硅基团,在成膜过程中能分别与PAE链段上羧基(-COO-)和硅溶胶的硅醇(Si-OH)反应,形成Si-O-Si交联网络,提高了Si-PAE涂膜的交联密度;Z-6040的合适添加量为硅溶胶质量的4.0%;纳米粒径分析表明,Z-6040改性后的Si-PAE平均粒径减小,硅溶胶在Si-PAE乳液中分散更均匀;原子力显微镜(AFM)分析发现Si-PAE涂层结构平整致密;热重分析(TGA)曲线表明Si-PAE涂膜热稳定性较PAE高。 展开更多
关键词 丙烯酸/SiO2杂合乳液 溶胶 偶联剂 3-缩水甘油甲氧基
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萘基桥联有机-无机杂化介孔材料的合成及其光学性质(英文) 被引量:2
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作者 崔小燕 韩书华 +3 位作者 孙元元 王莎莎 邱晓勇 高萌 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第3期639-645,共7页
以短链阳离子三聚表面活性剂[C10H21N+(CH3)2(CH2)2N+(CH3)(C10H21)(CH2)2N+(CH3)2C10H21]·3Br-为结构导向剂,通过2,7-二(3-三乙氧硅基氨丙酯基)萘(NIS)和四乙氧基硅烷(TEOS)共缩聚,制备了有序的萘基桥联的杂化周期性介孔有机硅(PM... 以短链阳离子三聚表面活性剂[C10H21N+(CH3)2(CH2)2N+(CH3)(C10H21)(CH2)2N+(CH3)2C10H21]·3Br-为结构导向剂,通过2,7-二(3-三乙氧硅基氨丙酯基)萘(NIS)和四乙氧基硅烷(TEOS)共缩聚,制备了有序的萘基桥联的杂化周期性介孔有机硅(PMOs).样品通过X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、氮气吸附-脱附、差示扫描量热/热重分析(DSC/TGA)表征.结果表明,当NIS占NIS和TEOS总量40%(摩尔分数)时,可以形成具有结晶态孔壁的有序介孔杂化材料.当NIS含量低于或高于40%时,分别形成无定形孔壁的有序介孔杂化材料和无孔杂化材料.随着孔壁中萘基基团的增加,由于有机基团之间π-π堆积作用增强,杂化介孔材料显示良好的热稳定性.由于在二氧化硅骨架中嵌入荧光萘基基团,杂化有机-无机有序介孔材料显示了激基缔合物的光学行为.随萘基基团含量的增加,杂化材料的紫外吸收峰发生蓝移,形成H聚集体;由于聚集引起的荧光淬灭,杂化材料的荧光量子产率明显降低. 展开更多
关键词 有机-无机杂化材料 2 7-二(3-乙氧)萘 聚阳离子表面活性剂 荧光 桥联有机烷前驱体
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二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征 被引量:8
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作者 刘晓云 赵辉鹏 +2 位作者 李兰 阎捷 查刘生 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期5-9,共5页
采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅(SiO2)纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对SiO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP/MAS... 采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅(SiO2)纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-(三甲氧基硅基)丙酯(MPS)对SiO2纳米粒子表面进行修饰,使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP/MASNMR和^29Si CP/MASNMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征,以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上。分析修饰过的SiO2纳米粒子的^29Si CP/MASNMR和FTIR谱图,还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理:MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物,然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面,最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。 展开更多
关键词 SIO2纳米粒子 表面修饰 甲基丙烯酸-3-(甲氧基) 表征
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紫外光辐射对有机硅氧烷水解缩合过程的影响研究 被引量:3
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作者 赵晓辉 沈淑坤 +1 位作者 左冬梅 胡道道 《陕西师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期51-55,共5页
报道了一种在酸性条件下,利用紫外光辐照甲基丙烯酸丙酯三甲氧基硅烷(MAPTMS)水解缩合体系制备具有透明性杂化材料的新方法.同时,利用红外光谱和核磁共振氢谱在线跟踪监测MAPTMS的水解缩合过程.该研究结果表明,在杂化材料制备过程中,在... 报道了一种在酸性条件下,利用紫外光辐照甲基丙烯酸丙酯三甲氧基硅烷(MAPTMS)水解缩合体系制备具有透明性杂化材料的新方法.同时,利用红外光谱和核磁共振氢谱在线跟踪监测MAPTMS的水解缩合过程.该研究结果表明,在杂化材料制备过程中,在不加入光敏剂条件下,通过光照使引入体系中的MAPTMS作为偶联剂其交联作用并非有机端烯键聚合发挥作用,而是通过无机端硅氧烷共缩合发挥偶联作用. 展开更多
关键词 紫外光辐射 水解-缩合 甲基丙烯酸甲氧基
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