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γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究
被引量：
6
1
作者
韩纪梅
李玉宝
+4 位作者
莫利蓉
王学江
许凤兰
吴曦
吴兰
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期629-632,共4页
用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH...
用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH 是与KH 570 相互作用的主要基团,C O 键的伸缩振动新峰及Si 峰的出现,说明硅烷已成功接枝在HA晶体表面。n HA晶体与有机硅烷之间的界面结合相互作用主要包括氢键和化学键,但也存在羰基与钙离子之间产生静电荷吸引的可能。用此改性的n HA与高分子或牙科树脂复合可大大改善n HA与复合材料的力学性能,并发挥n HA 的生物功能效应。
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关键词
纳米羟
基
磷灰石
γ-
甲基丙烯酸丙酯基
三甲氧
基
硅烷
界面作用
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职称材料
配合物[Mn(phen)_2]^(2+)修饰的MCM-41的合成与表征
被引量：
7
2
作者
郑珊
高濂
郭景坤
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期459-464,共6页
分别以γ－氨丙基和甲基丙烯酸丙酯基修饰介孔分子筛ＭＣＭ－４１内孔壁，将引入的有机官能团与金属配位离子［Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２Ｃｌ］＋通过配位健成键首次合成了锰（Ⅱ）配位化合物修饰的ＭＣＭ－４１（ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅ...
分别以γ－氨丙基和甲基丙烯酸丙酯基修饰介孔分子筛ＭＣＭ－４１内孔壁，将引入的有机官能团与金属配位离子［Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２Ｃｌ］＋通过配位健成键首次合成了锰（Ⅱ）配位化合物修饰的ＭＣＭ－４１（ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２，ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（Ｐｈｅｎ）２）．通过ＸＲＤ、ＦＴＩＲ、７７Ｋ氮气吸附－脱附、ＵＶ－ＶＩＳ漫反射光谱和Ｍｎ２＋电子顺磁共振谱（ＥＳＲ）表征了复合物ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２和ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２由于有机基团对ＭＣＭ－４１孔壁的修饰，使复合物的结晶度降低，增加的有机基因和配合物使红外光谱有所改变；ＢＥＴ比表面积，孔容和最可几孔径均下降；γ－氨丙基或甲基丙烯酸丙酯基与Ｍｎ２＋的配位而使其ＵＶ－ＶＩＳ漫反射吸收光谱在短波长的吸收加强；室温下 Ｍｎ２＋电子顺磁共振表明 Ｍｎ（Ⅱ）配位环境几乎没有变化．
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关键词
介孔分子筛
MCM-41
γ-氨
丙
基
甲基丙烯酸丙酯基
合成
催化剂
锰配合物修饰
表征
吸附剂
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职称材料
二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征
被引量：
8
3
作者
刘晓云
赵辉鹏
+2 位作者
李兰
阎捷
查刘生
《分析测试学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期5-9,共5页
采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅（SiO2）纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-（三甲氧基硅基）丙酯（MPS）对SiO2纳米粒子表面进行修饰，使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP／MAS...
采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅（SiO2）纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-（三甲氧基硅基）丙酯（MPS）对SiO2纳米粒子表面进行修饰，使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP／MASNMR和^29Si CP／MASNMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征，以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上。分析修饰过的SiO2纳米粒子的^29Si CP／MASNMR和FTIR谱图，还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理：MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物，然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面，最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。
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关键词
SIO2纳米粒子
表面修饰
甲基丙烯酸
-3-(三甲氧
基
硅
基
)
丙
酯
表征
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职称材料
题名
γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究
被引量：
6
1
作者
韩纪梅
李玉宝
莫利蓉
王学江
许凤兰
吴曦
吴兰
机构
四川大学纳米生物材料研究中心
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期629-632,共4页
基金
国家"十五"科技攻关重大专项资助项目(2001BA310A)
文摘
用傅立叶红外光谱(FT IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n HA)与γ甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH 570)偶联剂的界面作用。结果表明,用硅烷处理后的n HA 表面的羟基(—OH)出现较大变化,说明—OH 是与KH 570 相互作用的主要基团,C O 键的伸缩振动新峰及Si 峰的出现,说明硅烷已成功接枝在HA晶体表面。n HA晶体与有机硅烷之间的界面结合相互作用主要包括氢键和化学键,但也存在羰基与钙离子之间产生静电荷吸引的可能。用此改性的n HA与高分子或牙科树脂复合可大大改善n HA与复合材料的力学性能,并发挥n HA 的生物功能效应。
关键词
纳米羟
基
磷灰石
γ-
甲基丙烯酸丙酯基
三甲氧
基
硅烷
界面作用
Keywords
Fourier transform infrared spectroscopy
Hydrothermal synthesis
Hydroxyapatite
Nanostructured materials
Organic compounds
Raman spectroscopy
Silanes
Surface treatment
X ray photoelectron spectroscopy
分类号
R318.08 [医药卫生—生物医学工程]
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职称材料
题名
配合物[Mn(phen)_2]^(2+)修饰的MCM-41的合成与表征
被引量：
7
2
作者
郑珊
高濂
郭景坤
机构
中国科学院上海硅酸盐所高性能陶瓷与超微结构国家重点实验室
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期459-464,共6页
文摘
分别以γ－氨丙基和甲基丙烯酸丙酯基修饰介孔分子筛ＭＣＭ－４１内孔壁，将引入的有机官能团与金属配位离子［Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２Ｃｌ］＋通过配位健成键首次合成了锰（Ⅱ）配位化合物修饰的ＭＣＭ－４１（ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２，ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（Ｐｈｅｎ）２）．通过ＸＲＤ、ＦＴＩＲ、７７Ｋ氮气吸附－脱附、ＵＶ－ＶＩＳ漫反射光谱和Ｍｎ２＋电子顺磁共振谱（ＥＳＲ）表征了复合物ＭＣＭ－ａｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２和ＭＣＭ－ｍｐ－Ｍｎ（ｐｈｅｎ）２由于有机基团对ＭＣＭ－４１孔壁的修饰，使复合物的结晶度降低，增加的有机基因和配合物使红外光谱有所改变；ＢＥＴ比表面积，孔容和最可几孔径均下降；γ－氨丙基或甲基丙烯酸丙酯基与Ｍｎ２＋的配位而使其ＵＶ－ＶＩＳ漫反射吸收光谱在短波长的吸收加强；室温下 Ｍｎ２＋电子顺磁共振表明 Ｍｎ（Ⅱ）配位环境几乎没有变化．
关键词
介孔分子筛
MCM-41
γ-氨
丙
基
甲基丙烯酸丙酯基
合成
催化剂
锰配合物修饰
表征
吸附剂
Keywords
mesoporous MCM-41
3-aminopropyl functional MCM-41
3-methacryloyloxypropyl functional MCM-41
manganese(II)-phenanthroline complex functionalized MCM-41
分类号
TQ424.25 [化学工程]
TQ426.6 [化学工程]
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职称材料
题名
二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征
被引量：
8
3
作者
刘晓云
赵辉鹏
李兰
阎捷
查刘生
机构
东华大学纤维材料改性国家重点实验室
东华大学分析测试中心
出处
《分析测试学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期5-9,共5页
基金
教育部科学技术研究重点研究项目资助(105077)
文摘
采用溶胶-凝胶法合成粒径在50—150nm范围内的二氧化硅（SiO2）纳米粒子。用甲基丙烯酸-3-（三甲氧基硅基）丙酯（MPS）对SiO2纳米粒子表面进行修饰，使其表面接枝能参与自由基聚合反应的碳碳双键基团。用元素分析、FTIR、^13C CP／MASNMR和^29Si CP／MASNMR等手段对修饰过的SiO2纳米粒子进行表征，以确证MPS接枝在SiO2纳米粒子上。分析修饰过的SiO2纳米粒子的^29Si CP／MASNMR和FTIR谱图，还可初步推断MPS接枝在SiO2纳米粒子表面的机理：MPS首先发生水解缩合反应形成低聚物，然后通过氢键作用吸附到SiO2纳米粒子表面，最后MPS低聚物中未缩合的硅羟基与SiO2纳米粒子表面的硅羟基发生缩合反应。
关键词
SIO2纳米粒子
表面修饰
甲基丙烯酸
-3-(三甲氧
基
硅
基
)
丙
酯
表征
Keywords
SiO2 nanoparticles
Surface-modification
3- （Trimethoxysilyl） propyl methacrylate （MPS）
Characterization
分类号
O613.32 [理学—无机化学]
O653 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究
韩纪梅
李玉宝
莫利蓉
王学江
许凤兰
吴曦
吴兰
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
配合物[Mn(phen)_2]^(2+)修饰的MCM-41的合成与表征
郑珊
高濂
郭景坤
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
7
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
二氧化硅纳米粒子表面修饰及其表征
刘晓云
赵辉鹏
李兰
阎捷
查刘生
《分析测试学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006
8
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职称材料
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