期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
KDP晶体生长过程中溶液稳定性的研究 被引量:6
1
作者 李云南 房昌水 +5 位作者 顾庆天 孙洵 王圣来 李义平 王坤鹏 王波 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期63-66,共4页
在KDP晶体生长过程中,溶液的稳定性对KDP晶体的光学质量影响较大。溶液的稳定性是多种因素共同作用的结果。本文主要研究了过饱和KDP溶液中晶胚的分布情况、降温过程中晶体生长驱动力与降温速度之间的关系,并分析了KDP晶体实际生长过程... 在KDP晶体生长过程中,溶液的稳定性对KDP晶体的光学质量影响较大。溶液的稳定性是多种因素共同作用的结果。本文主要研究了过饱和KDP溶液中晶胚的分布情况、降温过程中晶体生长驱动力与降温速度之间的关系,并分析了KDP晶体实际生长过程中影响溶液稳定性的主要因素。我们认为,通过改善KDP晶体生长过程中溶液的稳定性,并与其它措施和技术相结合,是提高KDP晶体光学质量的有效途径。 展开更多
关键词 KDP晶体 生长过程 溶液 稳定性 晶胚 生长驱动力 生长条件 光学质量
在线阅读 下载PDF
高导热氮化硅陶瓷基板影响因素研究现状 被引量:3
2
作者 朱允瑞 贺云鹏 +6 位作者 杨鑑 周国相 林坤鹏 张砚召 杨治华 贾德昌 周玉 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2024年第7期2649-2660,共12页
电子电力技术的高度集成化对承载电子元器件的脆性陶瓷基板提出了更高的散热和强度要求。氮化硅陶瓷兼备优异的本征热导率和力学性能,在大功率半导体器件封装领域有广阔的发展前景。然而,目前商业及实验中可实现的氮化硅热导率远低于其... 电子电力技术的高度集成化对承载电子元器件的脆性陶瓷基板提出了更高的散热和强度要求。氮化硅陶瓷兼备优异的本征热导率和力学性能,在大功率半导体器件封装领域有广阔的发展前景。然而,目前商业及实验中可实现的氮化硅热导率远低于其本征热导率,如何在保证氮化硅优异力学性能的基础上提高热导率仍然是一个难题。本文概述了高热导氮化硅的发展近况,着重论述氮化硅实际热导率的影响因素和提高方法。同时对比了几种氮化硅烧结工艺的优劣情况,并简要介绍目前主流商业化的氮化硅陶瓷基板成型工艺,最后对氮化硅陶瓷基板发展方向作出展望。 展开更多
关键词 氮化硅 高导热 陶瓷基板 晶格氧 致密度 晶粒生长驱动力 晶粒生长形貌 烧结工艺
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部