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题名环带抛光技术材料去除理论模型研究
被引量：2
- 1
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作者
李俊峰
陈亚
宣斌
王朋
陈晓苹
宋淑梅
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机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室
中国科学院研究生院
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出处
《中国光学与应用光学》
2009年第5期414-420,共7页
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文摘
为了完善环带抛光技术并指导加工,根据Preston方程建立了材料去除量的理论模型。考虑环带抛光技术中的影响因素,如抛光盘与工件之间的转速比、偏心距及压强分布等参数,建立了材料去除量与各影响因素之间相互关系的数学模型。理论分析和实验结果显示,转速比、偏心距和压强分布对磨削量均有影响,材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大,转速比越接近于1,磨削越均匀;工件露边时,工件露出部分材料的去除效率急剧下降。实验结果表明,通过对该理论模型中相关技术参数的研究来完善环带抛光技术,有效地提高了抛光的效率及稳定性。
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关键词
环带抛光
材料去除
转速比
偏心距
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Keywords
zone polishing
material removal
rotating speed ratio
eccentric distance
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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题名环带旋转式磁流变抛光头设计
被引量：5
- 2
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作者
阳志强
郭忠达
陈智利
刘卫国
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机构
西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
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出处
《机械设计与制造》
北大核心
2009年第10期56-57,共2页
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基金
陕西省教育厅科研项目(05JS03)
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文摘
在磁流变抛光技术中,磁流变抛光头是实现光学零件表面均匀去除的保证。根据实际磁流变加工要求设计了一种环带旋转式磁流变抛光头,并采用有限元分析软件ANSYS进行仿真了该抛光头,同时分析了其磁场强度分布情况。最后应用该磁流变抛光头进行了工艺实验,实验结果表明采用该抛光头能够实现高精度面形质量的光学零件加工。
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关键词
磁流变抛光
环带抛光头
面形
均匀去除
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Keywords
Magnetorheological finishing
Annulus finishing tool
Surface textures
Uniform removal
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分类号
TH16
[机械工程—机械制造及自动化]
TP311
[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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题名纳米级面形精度光学平面镜加工
被引量：7
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作者
张峰
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机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室
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出处
《中国光学》
EI
CAS
2014年第4期616-621,共6页
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基金
国家自然科学基金资助项目(No.61210015)
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文摘
为实现纳米级面形精度光学平面镜的高效精密抛光,提出了一种由传统环带抛光技术和先进离子束抛光技术相结合的组合式加工方法。介绍了环带抛光技术和离子束抛光技术的原理,通过实验研究了离子束抛光的材料去除函数,并采用这种组合抛光方法对口径为150 mm的平面镜进行抛光,抛光后平面镜的面形误差和表面粗糙度分别达到1.217nm RMS和0.506 nm RMS。实验结果表明,这种组合抛光技术适合纳米级面形精度光学平面镜的加工。
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关键词
光学加工
环带抛光
离子束抛光
材料去除函数
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Keywords
optical fabrication
continuous polishing（CP）
ion beam figuring（IBF）
material removal function
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分类号
O439
[机械工程—光学工程]
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