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题名离子束作用下的光学表面粗糙度演变研究
被引量：10
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作者
廖文林
戴一帆
周林
陈善勇
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机构
国防科技大学机电工程与自动化工程学院
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期1041-1045,共5页
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基金
国家自然科学基金(50775215
50975281)
中国博士后基金特别资助课题(200902664)
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文摘
为了获得超光滑光学表面,介绍了离子束作用下改善表面粗糙度的抛光方法,并通过相关的实验进行了验证。光学材料是典型的硬脆材料,在加工过程中的表面粗糙度要经历复杂的演变过程。离子束加工作为光学镜面加工中的最后一道工序,如果在修正面形的同时,能够有效地改善表面粗糙度,那么离子束加工的性能就可以得到更好的延伸。分析了离子束作用下的粗糙度演变机理,在此基础上提出了倾斜入射抛光和牺牲层抛光技术2种改善表面粗糙度的方法,并使用原子力显微镜进行了测量。实验结果表明:以45°倾斜入射抛光熔石英样件,其粗糙度由初始的0.67 nm RMS减小到0.38 nm RMS;涂上牺牲层的材料表面粗糙度由0.81 nm RMS减小到0.28 nm RMS,倾斜入射抛光和牺牲层抛光技术能够有效地改善表面粗糙度。
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关键词
离子束抛光
光学表面粗糙度
倾斜入射抛光
牺牲层抛光技术
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Keywords
ion beam figuring（IBF）
optical surface roughness
obliquely incidence figuring
sacrificial layer figuring technology
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分类号
TN205
[电子电信—物理电子学]
TG580.692
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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