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磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及其强化机理研究
被引量：
11
1
作者
史新伟
李杏瑞
+1 位作者
邱万起
刘正义
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期486-491,共6页
采用电弧离子镀(AIP)和磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法分别在不锈钢和硅片上制备了两种不同的TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌及组织结构;利用X射线衍射(XRD)及透射电镜(TEM)进行相鉴定;用纳米力学测试系统(NHT)测量了薄...
采用电弧离子镀(AIP)和磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法分别在不锈钢和硅片上制备了两种不同的TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌及组织结构;利用X射线衍射(XRD)及透射电镜(TEM)进行相鉴定;用纳米力学测试系统(NHT)测量了薄膜的硬度。结果表明:MFAIP TiN薄膜具有强烈的(111)面择优取向,薄膜表面光滑、表面熔滴颗粒(MP)少、薄膜的柱状晶组织细小、致密,薄膜具有较高的硬度。并在此基础上讨论了薄膜的强化机理,认为磁过滤器是制备高质量TiN薄膜及其复合薄膜行之有效的一种方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向。
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关键词
TIN薄膜
磁过滤器
熔滴颗粒
复合膜
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职称材料
等离子喷涂-物理气相沉积射流中粒子状态和分布
被引量：
12
2
作者
邓子谦
刘敏
+3 位作者
毛杰
邓春明
马景涛
陈志坤
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期81-88,共8页
采用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)在高温合金基体上沉积7YSZ热障涂层,通过分步沉积实验、径向和轴向的涂层结构分布实验探讨了涂层中各种粒子的种类、形成原因、对涂层结构的影响及射流中的粒子分布。研究表明:PS-PVD实际上是一种...
采用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)在高温合金基体上沉积7YSZ热障涂层,通过分步沉积实验、径向和轴向的涂层结构分布实验探讨了涂层中各种粒子的种类、形成原因、对涂层结构的影响及射流中的粒子分布。研究表明:PS-PVD实际上是一种以气相沉积为主,多相混合的沉积方式。涂层的沉积过程中,气相沉积是柱状晶形成的主要原因;熔融及部分熔融的大颗粒对可以直接改变柱状结构的生长状态;气相再凝固和气化不充分残留的小颗粒对涂层的影响是一个累积的过程。气相主要集中在射流中心,越靠近射流边缘,部分熔融粒子的比例越高,最终导致PS-PVD沉积涂层结构出现空间分布特征。
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关键词
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)
涂层生长
空间分布
熔
滴
/固态
颗粒
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职称材料
题名
磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及其强化机理研究
被引量：
11
1
作者
史新伟
李杏瑞
邱万起
刘正义
机构
郑州大学物理工程学院
郑州大学材料科学与工程学院
华南理工大学
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期486-491,共6页
文摘
采用电弧离子镀(AIP)和磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法分别在不锈钢和硅片上制备了两种不同的TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌及组织结构;利用X射线衍射(XRD)及透射电镜(TEM)进行相鉴定;用纳米力学测试系统(NHT)测量了薄膜的硬度。结果表明:MFAIP TiN薄膜具有强烈的(111)面择优取向,薄膜表面光滑、表面熔滴颗粒(MP)少、薄膜的柱状晶组织细小、致密,薄膜具有较高的硬度。并在此基础上讨论了薄膜的强化机理,认为磁过滤器是制备高质量TiN薄膜及其复合薄膜行之有效的一种方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向。
关键词
TIN薄膜
磁过滤器
熔滴颗粒
复合膜
Keywords
TiN film
Magnetic filter
Macroparticl
Composite film
分类号
TB43 [一般工业技术]
TG115.21 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
等离子喷涂-物理气相沉积射流中粒子状态和分布
被引量：
12
2
作者
邓子谦
刘敏
毛杰
邓春明
马景涛
陈志坤
机构
广东工业大学材料与能源学院
广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室
广东省新材料研究所广东省现代表面工程技术重点实验室
中南大学材料科学与工程学院
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期81-88,共8页
基金
广东省自然科学基金(2016A030312015)
广东省(广州市)科学技术合作项目(2013B050800027
201508030001)~~
文摘
采用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)在高温合金基体上沉积7YSZ热障涂层,通过分步沉积实验、径向和轴向的涂层结构分布实验探讨了涂层中各种粒子的种类、形成原因、对涂层结构的影响及射流中的粒子分布。研究表明:PS-PVD实际上是一种以气相沉积为主,多相混合的沉积方式。涂层的沉积过程中,气相沉积是柱状晶形成的主要原因;熔融及部分熔融的大颗粒对可以直接改变柱状结构的生长状态;气相再凝固和气化不充分残留的小颗粒对涂层的影响是一个累积的过程。气相主要集中在射流中心,越靠近射流边缘,部分熔融粒子的比例越高,最终导致PS-PVD沉积涂层结构出现空间分布特征。
关键词
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)
涂层生长
空间分布
熔
滴
/固态
颗粒
Keywords
plasma spray-physical vapor deposition （PS-PVD）
coating growth
spatial distribution
droplet/solid particles
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及其强化机理研究
史新伟
李杏瑞
邱万起
刘正义
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
11
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职称材料
2
等离子喷涂-物理气相沉积射流中粒子状态和分布
邓子谦
刘敏
毛杰
邓春明
马景涛
陈志坤
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
12
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