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LHPG法单晶光纤生长中的熔区控制技术 被引量:7
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作者 顾菊观 沈永行 +1 位作者 陈曙英 赵渭忠 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2001年第4期20-23,共4页
采用激光加热基座生长法 (LHPG)生长单晶光纤 ,研究晶体源棒的熔球大小、籽晶点入深度与熔区长度、生长速度、生长质量的关系及控制技术 。
关键词 单晶光纤 激光加热基座生长法 源棒 熔区长度 晶体生长 生长速度 LHPG法
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聚乙烯燃气管道电熔接头熔区应力分析 被引量:3
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作者 胡安琪 聂新宇 +3 位作者 姚登樽 陈贤朋 郑津洋 施建峰 《压力容器》 北大核心 2019年第5期21-28,20,共9页
电熔焊接是聚乙烯管道最常用的连接方法之一,电熔接头的设计对管道系统安全至关重要。电熔接头焊接界面应力分布的准确分析是电熔接头设计的基础。采用理论公式推导和有限元分析相结合的方法,研究电熔接头在内压、轴向力和温度变化作用... 电熔焊接是聚乙烯管道最常用的连接方法之一,电熔接头的设计对管道系统安全至关重要。电熔接头焊接界面应力分布的准确分析是电熔接头设计的基础。采用理论公式推导和有限元分析相结合的方法,研究电熔接头在内压、轴向力和温度变化作用下的应力分布情况,发现接头焊接界面应力分布呈现中间小、两边大的规律。定义端部应力集中系数为界面峰值应力与平均应力的比值,分析得到应力集中系数随熔区长度的关系,结果可为基于内压与轴向力的电熔接头熔区设计提供理论参考。 展开更多
关键词 聚乙烯管 接头 熔区长度 应力分布
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金属钚区熔提纯过程中的溶质再分布优化 被引量:1
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作者 黄俊 任清波 +2 位作者 许刚 刘勋 蒙大桥 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第B05期69-74,共6页
基于多次区熔过程中的溶质分布模型,以试棒中部杂质去除最大化为目标,采用源于生物进化理论的遗传算法优化计算金属钚多次区熔过程中的熔区长度,最后采用优化的熔区长度计算多次区熔后试棒中的溶质再分布.计算结果表明,相对于固定... 基于多次区熔过程中的溶质分布模型,以试棒中部杂质去除最大化为目标,采用源于生物进化理论的遗传算法优化计算金属钚多次区熔过程中的熔区长度,最后采用优化的熔区长度计算多次区熔后试棒中的溶质再分布.计算结果表明,相对于固定的熔区长度,优化区熔长度条件下杂质分离效果明显提高:采用优化的区熔长度。15次区熔提纯后在试棒中部80%部分可获得相对较低的溶质含量. 展开更多
关键词 溶质分布模型 遗传算法 优化 熔区长度 溶质再分配
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红外LED用掺硅HB-GaAs单晶纵向载流子浓度分布研究 被引量:3
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作者 马英俊 林泉 +4 位作者 于洪国 马会超 许兴 李万朋 许所成 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第8期1555-1561,共7页
GaAs单晶作为一种重要的LED衬底材料在光电器件中应用十分广泛,但载流子浓度(C.C.)分布不均、杂质浓度过高等缺陷会严重影响相关器件的性能。为制备纵向载流子浓度分布均匀的掺硅HB-GaAs单晶,本文探讨了单晶生长过程中熔区长度对纵向载... GaAs单晶作为一种重要的LED衬底材料在光电器件中应用十分广泛,但载流子浓度(C.C.)分布不均、杂质浓度过高等缺陷会严重影响相关器件的性能。为制备纵向载流子浓度分布均匀的掺硅HB-GaAs单晶,本文探讨了单晶生长过程中熔区长度对纵向载流子浓度分布的影响。以高纯GaAs多晶为原料,设定不同的拉晶温度曲线,采用窄熔区技术进行晶体生长研究,最终生长出C.C.值分布更均匀、位错密度低(EPD≤10000 cm^-2)的<111>向N型掺硅GaAs单晶。利用辉光放电质谱法(GDMS)和范德堡法霍尔效应测试对晶体进行了表征,单晶纯度达到5N且无硼杂质沾污。 展开更多
关键词 砷化镓 水平布里奇曼法 位错密度 熔区长度 技术 载流子浓度分布
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