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TFT制程曝光色差研究
被引量：
1
1
作者
黄霜霜
喻玥
+7 位作者
马国永
赵辉
高文
沈建华
陈萍
阳志林
李连峰
马新星
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第3期412-419,共8页
在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP...
在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价。然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质。最后,结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现。同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响。
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关键词
TFT
曝光色差
图像处理
照度均一性
馈入电压
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职称材料
题名
TFT制程曝光色差研究
被引量：
1
1
作者
黄霜霜
喻玥
马国永
赵辉
高文
沈建华
陈萍
阳志林
李连峰
马新星
机构
南京中电熊猫平板显示科技有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第3期412-419,共8页
文摘
在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价。然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质。最后,结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现。同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响。
关键词
TFT
曝光色差
图像处理
照度均一性
馈入电压
Keywords
TFT
exposure Mura
image processing
illumination uniformity
feedthrough voltage
分类号
TN27 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TFT制程曝光色差研究
黄霜霜
喻玥
马国永
赵辉
高文
沈建华
陈萍
阳志林
李连峰
马新星
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2021
1
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