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题名光偏转技术及器件
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出处
《中国光学》
EI
CAS
1996年第5期76-76,共1页
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文摘
TN29 96053353原子束的速度选择激光偏转=Velocity-selecteddefIection of atomic beam by laser[刊,中]/蔡惟泉,李佛生,陈洪新,束伟,孙顺娣,王育竹(中科院上海光机所量子光学联合开放实验室.上海(201800))
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关键词
热原子束
光偏转
开放实验室
速度选择
量子光学
偏转技术
中科院
上海
育竹
陈洪
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分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
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题名光学工艺 微细加工技术与设备
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出处
《中国光学》
CAS
2005年第5期99-100,共2页
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文摘
TN305．7 2005053954 光刻工艺中缺陷来源的分析=Analysis on defect sources in photolithographic process[刊,中]／邓涛(重庆光电技术 研究所．重庆(400060)),李平…∥半导体光电．-2005, 26(3)．-229-231 对半导体集成电路和器件制作过程中光刻工艺产生 的各种缺陷种类及来源进行了集中分析,提出了一些减少 或消除这些缺陷的办法和措施。图1(于晓光) TN305．7 2005053955 用完全非共振光驻波聚焦原子制作纳米结构分析=Anal-
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关键词
微细加工光学技术
光刻工艺
光学工艺
热原子束
半导体集成电路
光电技术
蒙特卡罗算法
共振激光驻波场
国家重点实验室
技术与设备
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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