1
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅰ.TiO_2超细粒子的制备 |
胡黎明
李春忠
姚光辉
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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2
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高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子 |
朱宏杰
王新
李春忠
胡黎明
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《华东理工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
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1994 |
8
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3
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化学气相淀积反应器内TiCl_4氧化反应动力学 |
王松
胡黎明
郑柏存
古宏晨
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
5
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4
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TiCl_4-O_2-H_2O体系化学气相淀积TiO_2超细粒子 |
姚光辉
李春忠
胡黎明
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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5
|
氯参与的化学气相淀积金刚石的热力学分析 |
刘志杰
张卫
张剑云
万永中
王季陶
曹传宝
朱鹤孙
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《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
1999 |
1
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6
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化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 |
郭新
袁润章
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《材料科学与工程》
CSCD
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1994 |
13
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7
|
弛豫锗硅减压化学气相淀积的CFD模型及仿真 |
戴显英
郑若川
郭静静
张鹤鸣
郝跃
邵晨峰
吉瑶
杨程
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《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2012 |
1
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8
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅲ.TiO_2超细粒子晶体组成 |
胡黎明
古宏晨
李春忠
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
2
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9
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SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅰ.SnO_2薄膜的制备过程动力学 |
姚光辉
韩杰
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
3
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10
|
卤素原子在化学气相淀积金刚石薄膜过程中的作用 |
刘志杰
张卫
万永中
王季陶
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
1998 |
1
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11
|
AlCl_3-NH_3-N_2体系化学气相淀积AIN超细粒子 Ⅱ.AIN的粒度及分布模型 |
李春忠
姚光辉
胡黎明
袁渭康
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
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12
|
Al-Cl-N-H体系化学气相淀积AIN粉末的热力学研究 |
李春忠
胡黎明
姚光辉
袁渭康
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
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|
13
|
化学气相淀积在集成电路制造后段工艺中的应用 |
易万兵
涂瑞能
张炳一
吴谨
毛杜立
邹世昌
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
|
2005 |
1
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14
|
低压化学气相淀积低应力氮化硅工艺研究 |
王敬轩
商庆杰
杨志
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《电子与封装》
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2021 |
4
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15
|
光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
周玉刚
李卫平
沈波
陈鹏
陈志忠
臧岚
张荣
顾书林
施毅
郑有翀
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
2000 |
0 |
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16
|
采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究 |
赵武
屈亚东
张志勇
贠江妮
樊玎玎
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《中南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2010 |
0 |
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17
|
等离子体增强化学气相淀积a-SiCOF薄膜的稳定性研究 |
丁士进
张庆全
王鹏飞
张卫
王季陶
|
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
2001 |
0 |
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18
|
立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响 |
丁平
盛明慧
丛德滋
韩杰
陈良恒
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
0 |
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19
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光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅲ)光CVD氮化硅薄膜应用于提高器件可靠性 |
汪师俊
蔡琪玉
沈天慧
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《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
|
1993 |
0 |
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20
|
SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅱ.SnO_2薄膜的结构和气敏性能 |
姚光辉
周瑞明
韩杰
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1990 |
0 |
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