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微波等离子体化学气相淀积纳米级 ZrO_2薄膜 被引量:4
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作者 曹传宝 喻维杰 +1 位作者 彭定坤 孟广耀 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第3期323-328,共6页
以β-二酮螯合物 Zr(DPM)_4为挥发性源,利用微波等离子体化学气相淀积方法成功地在低温(<300℃)下合成了 ZrO_2薄膜,SEM 观测表明薄膜形貌呈细粒结构,其晶粒尺寸为纳米量级.XRD指出,淀积物中除单斜相 ZrO_2外,还存在亚稳态的四方相.X... 以β-二酮螯合物 Zr(DPM)_4为挥发性源,利用微波等离子体化学气相淀积方法成功地在低温(<300℃)下合成了 ZrO_2薄膜,SEM 观测表明薄膜形貌呈细粒结构,其晶粒尺寸为纳米量级.XRD指出,淀积物中除单斜相 ZrO_2外,还存在亚稳态的四方相.XPS 测量了 Zr3d 的电子结合能,发现较之标准 ZrO_2样品低约0.5eV,XPS 定量分析显示薄膜中含有一定量的 C 及过量的 O(?)对其原因以及在不同的淀积条件、薄膜的形成机制等进行了讨论. 展开更多
关键词 薄膜 化学 氧化锆
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光化学气相淀积SiGe/Si材料的机制分析 被引量:5
2
作者 李培咸 孙建诚 胡辉勇 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期293-296,共4页
本文对光化学气相淀积 Si Ge/Si过程中气相反应机制和表面反应历程进行了分析和讨论 .利用表面反应动力学的有关理论 ,结合光化学气相淀积的特点 ,推导出光化学气相淀积Si Ge/Si过程中的生长速率和生长压力的关系 .并给出该理论结果和... 本文对光化学气相淀积 Si Ge/Si过程中气相反应机制和表面反应历程进行了分析和讨论 .利用表面反应动力学的有关理论 ,结合光化学气相淀积的特点 ,推导出光化学气相淀积Si Ge/Si过程中的生长速率和生长压力的关系 .并给出该理论结果和实际实验结果的比较 . 展开更多
关键词 SIGE/SI 反应 表面反应 化学 生长速率 生长压力 应变层异质结材料
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅰ.TiO_2超细粒子的制备 被引量:7
3
作者 胡黎明 李春忠 +1 位作者 姚光辉 陈敏恒 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期428-433,共6页
利用Ti(OC)4H_9)4高温气相裂解反应合成了TiO_2超细粒子粉末,确立了无定形、锐钛、金红石三种形式的TiO_2粒子合成工艺条件。对淀积物进行了XRD、BET、TEM和激光光散射分析,系统地研究了反应温度、反应物初始浓度和停留时间对产物形态... 利用Ti(OC)4H_9)4高温气相裂解反应合成了TiO_2超细粒子粉末,确立了无定形、锐钛、金红石三种形式的TiO_2粒子合成工艺条件。对淀积物进行了XRD、BET、TEM和激光光散射分析,系统地研究了反应温度、反应物初始浓度和停留时间对产物形态、晶体组成的影响。 展开更多
关键词 二氧化钛 化学 超细粉
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高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子 被引量:8
4
作者 朱宏杰 王新 +1 位作者 李春忠 胡黎明 《华东理工大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1994年第5期591-594,共4页
利用TiCl_4+O_2体系,在高频等离子体化学气相淀积反应器中合成了纯度高、粒度细的TiO_2粒子。考察了工艺条件对TiO_2粒子物性的影响;探讨了TiO_2粒子晶型控制的方法。金红石型质量分数可通过工艺条件控制,... 利用TiCl_4+O_2体系,在高频等离子体化学气相淀积反应器中合成了纯度高、粒度细的TiO_2粒子。考察了工艺条件对TiO_2粒子物性的影响;探讨了TiO_2粒子晶型控制的方法。金红石型质量分数可通过工艺条件控制,减少TiO_2单体浓度可提高金红石型质量分数;也可通过在原料TiCl_4中添加AlCl_3等晶型转化剂,使产品转化为单一金红石型TiO_2。 展开更多
关键词 二氧化钛 化学 超细粒子
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化学气相淀积反应器内TiCl_4氧化反应动力学 被引量:5
5
作者 王松 胡黎明 +1 位作者 郑柏存 古宏晨 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期440-444,共5页
采用原位红外测试技术,在线观测了化学气相淀积反应器内TiCl<sub>4</sub>的均相氧化反应。捕获了两种重要活性中间体TiCl<sub>3</sub>和TiOCl<sub>2</sub>,从而导出该反应的机理模型。并采用尾气... 采用原位红外测试技术,在线观测了化学气相淀积反应器内TiCl<sub>4</sub>的均相氧化反应。捕获了两种重要活性中间体TiCl<sub>3</sub>和TiOCl<sub>2</sub>,从而导出该反应的机理模型。并采用尾气红外定量分析方法得到了TiCl<sub>4</sub>氧化反应的动力学方程及反应活化能。反应活化能:66.8 kJ/mol,指前因子:2.45×10<sup>2</sup>/s。 展开更多
关键词 四氟化钛 二氧化钛 化学
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TiCl_4-O_2-H_2O体系化学气相淀积TiO_2超细粒子 被引量:7
6
作者 姚光辉 李春忠 胡黎明 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期449-454,T001,共7页
研究了反应参数对TiO_2超细粒子化学成分、平均粒径、粒径分布、粒子形貌和结构等的影响规律。结果表明:粒径随着TiCl_4分压的降低、氧气分压和反应温度的升高而减小;随着水分压的变化,粒径存在一最小值。合成的TiO_2粒子呈锐钛型,经95... 研究了反应参数对TiO_2超细粒子化学成分、平均粒径、粒径分布、粒子形貌和结构等的影响规律。结果表明:粒径随着TiCl_4分压的降低、氧气分压和反应温度的升高而减小;随着水分压的变化,粒径存在一最小值。合成的TiO_2粒子呈锐钛型,经950℃热处理后转变为金红石。 展开更多
关键词 化学 二氧化钛 金红石
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化学气相淀积制备Si_3N_4超细粉末 被引量:5
7
作者 朱宏杰 李春忠 +1 位作者 陈红 胡黎明 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第1期43-48,共6页
本文研究了SiCl4-NH3-N2-H2系统平衡热力学,确定了Si3N4合成的最佳热力学条件.采用电阻炉化学气相淀积法制备了Si3N4超细粉末,并考察了工艺条件对颗粒形貌的影响.
关键词 化学 热力学 超细粉末 氮化硅陶瓷
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等离子体化学气相淀积TiO_2薄膜材料 被引量:5
8
作者 沈瑜生 张俊颖 相承宗 《传感技术学报》 CAS CSCD 1989年第1期1-6,共6页
本文报导了以钛酸丁酯((C_4H_9O)_4Ti)为反应源物质,采用等离子体化学气相淀积(P-CVD)技术,在不同衬底上淀积出性能良好的TiO_2薄膜材料,并对其结构和气敏特性进行了初步研究。
关键词 薄膜 TiO2 等离子体化学 敏元件
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氯参与的化学气相淀积金刚石的热力学分析 被引量:1
9
作者 刘志杰 张卫 +4 位作者 张剑云 万永中 王季陶 曹传宝 朱鹤孙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期111-114,共4页
用非平衡热力学耦合模型研究了金刚石在CHCl体系中的生长,计算所得CHCl体系的金刚石生长的相图与大量实验结果符合良好.
关键词 金刚石 化学 热力学
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化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 被引量:13
10
作者 郭新 袁润章 《材料科学与工程》 CSCD 1994年第1期58-61,65,共5页
本文讨论了化学气相淀积在超细粉,纳米复合材料及梯度功能材料制备中的应用,并结合实例分析了化学气相淀积的工艺特性及所制备材料的性能、显微组织特点。
关键词 化学 制备 无机材料
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弛豫锗硅减压化学气相淀积的CFD模型及仿真 被引量:1
11
作者 戴显英 郑若川 +5 位作者 郭静静 张鹤鸣 郝跃 邵晨峰 吉瑶 杨程 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期186-191,共6页
基于SiGe材料化学气相淀积(CVD)生长原理,针对减压化学气相淀积(RPCVD)系统,建立了弛豫锗硅RPCVD的计算流体动力学仿真模型及相应的流体模型,采用Fluent软件对流量、压强、基座转速等工艺参数对反应室中气体密度场和速度场的影响进行了... 基于SiGe材料化学气相淀积(CVD)生长原理,针对减压化学气相淀积(RPCVD)系统,建立了弛豫锗硅RPCVD的计算流体动力学仿真模型及相应的流体模型,采用Fluent软件对流量、压强、基座转速等工艺参数对反应室中气体密度场和速度场的影响进行了模拟仿真及分析.模拟结果表明,流量为50L/min、压强为2 666.44Pa、基座转速为35r/min时,基座上方流场的均匀性最佳.采用仿真优化的工艺条件进行了弛豫SiGe的RPCVD实验,其SiGe薄膜厚度分布实验结果与弛豫SiGe前驱体SiH2Cl2的Fluent浓度分布模拟结果一致,验证了该模型的正确性。 展开更多
关键词 弛豫锗硅 减压化学 计算流体动力学模型 密度分布
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅲ.TiO_2超细粒子晶体组成 被引量:2
12
作者 胡黎明 古宏晨 +1 位作者 李春忠 陈敏恒 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期444-449,共6页
在超细粒子粒度及粒度分布控制模型的基础上,对快相变速率和慢相变速率两种晶型转变情形,建立了化学气相淀积合成超细粒子过程中,表征超细粒子晶体组成及含量的物理模型和数学模型。利用该模型探讨了物系参数和操作参数对超细粒子晶体... 在超细粒子粒度及粒度分布控制模型的基础上,对快相变速率和慢相变速率两种晶型转变情形,建立了化学气相淀积合成超细粒子过程中,表征超细粒子晶体组成及含量的物理模型和数学模型。利用该模型探讨了物系参数和操作参数对超细粒子晶体组成的影响,理论预测和实验结果相一致。 展开更多
关键词 化学 二氧化钛 钛酸丁酯
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SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅰ.SnO_2薄膜的制备过程动力学 被引量:3
13
作者 姚光辉 韩杰 袁渭康 《华东化工学院学报》 CSCD 1990年第3期245-249,共5页
利用化学气相淀积方法,在载玻片上淀积二氧化锡薄膜,研究了过程的动力学特征,考察了不同操作参数对淀积速率的影响。建立了淀积速率与反应气体分压的关系式,并初步提出了淀积过程的反应原理。
关键词 二氧化锡 薄膜 化学
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卤素原子在化学气相淀积金刚石薄膜过程中的作用 被引量:1
14
作者 刘志杰 张卫 +1 位作者 万永中 王季陶 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1998年第6期43-46,共4页
根据非平衡热力学耦合模型计算得到了碳氢氟和碳氢氯体系低压金刚石生长的非平衡定态相图,计算结果与大量实验事实符合良好,可以为实验研究提供理论指导。还详细讨论了卤素原子在金刚石薄膜淀积过程中的作用。
关键词 卤素 化学 金刚石 薄膜 非平衡热力学
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AlCl_3-NH_3-N_2体系化学气相淀积AIN超细粒子 Ⅱ.AIN的粒度及分布模型 被引量:1
15
作者 李春忠 姚光辉 +2 位作者 胡黎明 袁渭康 陈敏恒 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期461-467,共7页
考虑轴向温度分布和浓度分布,建立了热化学气相淀积反应器中描述粒子粒度及分布的一维反应-凝并模型。研究了AlCl_3-NH_3-N_2体系物系参数和操作参数对AlN超细粒子粒度及分布的影响。温度通过改变反应速率、气体粘度和平均分子自由程等... 考虑轴向温度分布和浓度分布,建立了热化学气相淀积反应器中描述粒子粒度及分布的一维反应-凝并模型。研究了AlCl_3-NH_3-N_2体系物系参数和操作参数对AlN超细粒子粒度及分布的影响。温度通过改变反应速率、气体粘度和平均分子自由程等影响AlN粒子的合成,并存在最佳温度分布;随停留时间的增加,AlN粒子粒度增大,几何标准方差GSD减小;反应物浓度升高时,AlN粒子粒度增大,但GSD变化不大。模型化研究结果和实验结果相一致。 展开更多
关键词 化学 氮化铝 超细粉 粒子
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Al-Cl-N-H体系化学气相淀积AIN粉末的热力学研究 被引量:1
16
作者 李春忠 胡黎明 +2 位作者 姚光辉 袁渭康 陈敏恒 《华东化工学院学报》 CSCD 1992年第4期530-535,共6页
给出了Al-Cl-N-H体系的一组关联反应,探讨了化学气相淀积过程的关联反应热力学特性。根据Gibbs自由焓最小的原则,研究了Al-Cl-N-H体系的平衡组成。Al-Cl-N-H体系合成AlN超细粒子粉末的最佳温度为600~1200℃,AlN平衡得率和体系的初始组... 给出了Al-Cl-N-H体系的一组关联反应,探讨了化学气相淀积过程的关联反应热力学特性。根据Gibbs自由焓最小的原则,研究了Al-Cl-N-H体系的平衡组成。Al-Cl-N-H体系合成AlN超细粒子粉末的最佳温度为600~1200℃,AlN平衡得率和体系的初始组成有关,AlCl_2和AlCl的平衡得率随温度的升高而增大。 展开更多
关键词 氮化铝 化学
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等离子增强型化学气相淀积氮化硅的淀积 被引量:3
17
作者 唐元洪 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1996年第1期42-44,共3页
等离子增强型化学气相淀积(PECVD)氮化硅是目前器件唯一能在合金化之后低温生长的氮化硅.本文研究了各种波积参数对薄膜性能的影响,提出了淀积优质氮化硅钝化膜的条件,对折射率随生长速率而变化给出了新的解释.
关键词 等离子 氮化硅 化学 薄膜
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化学气相淀积在集成电路制造后段工艺中的应用 被引量:1
18
作者 易万兵 涂瑞能 +3 位作者 张炳一 吴谨 毛杜立 邹世昌 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期35-38,共4页
介绍了CVD技术的原理和分类。对不同种类的CVD薄膜进行了比较和分析,并主要讨论了 CVD绝缘介质薄膜在后段工艺中的应用。
关键词 化学 集成电路制造 后段工艺
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光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN
19
作者 周玉刚 李卫平 +7 位作者 沈波 陈鹏 陈志忠 臧岚 张荣 顾书林 施毅 郑有翀 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第8期34-36,共3页
采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对... 采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对预反应有较大的影响。结合GaN的生长可以看出 ,光加热有利于抑制预反应 ,从而有利于提高样品质量和铝组分的均匀性。 展开更多
关键词 ALGAN GAN 金属有机化学 寄生反应 光加热
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采用热丝化学气相沉积法制备SiCN薄膜的研究
20
作者 赵武 屈亚东 +2 位作者 张志勇 贠江妮 樊玎玎 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期156-160,共5页
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜。所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2。用原子力显微镜(AFM)、X线衍射谱(XRD)和X线光电子能谱(XPS)对样品进行表征与分析。研究结果表明:SiCN薄膜表面由许多粒径不均匀、... 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,在单晶Si衬底上制备SiCN薄膜。所采用的源气体为高纯的SiH4,CH4和N2。用原子力显微镜(AFM)、X线衍射谱(XRD)和X线光电子能谱(XPS)对样品进行表征与分析。研究结果表明:SiCN薄膜表面由许多粒径不均匀、聚集紧密的SiCN颗粒组成;薄膜虽然已经晶化,但晶化并不充分,存在着微晶和非晶成分,通过Jade软件拟合计算出薄膜的结晶度为48.72%;SiCN薄膜不是SiC和Si3N4的简单混合,薄膜中Si,C和N这3种元素之间存在多种结合态,主要的化学结合状态为Si—N,Si—N—C,C—N,N=C和N—Si—C键,但是,没有观察到Si—C键,说明所制备的薄膜形成了复杂的网络结构。 展开更多
关键词 SiCN薄膜 热丝化学法(hfcvd) 原子力显微镜(AFM) X线衍射谱(XRD) X线光电子能谱(XPS)
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