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氢化非晶硅激光诱导结晶膜微结构的椭偏谱分析被引量：1: 1; 作者戴永兵徐重阳 +5 位作者李楚容王长安张少强安承武丁晖李兴教《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期571-520,共1页; 用XeCl准分子激光器对氢化非晶硅（a－Si：H）薄膜进行了诱导晶化处理。测量了结晶膜的椭偏谱。利用多层膜模型与Bruggeman有效介质近似（B－EMA）分析了结晶膜的微结构特性。研究表明：低能量密度辐照形成的结晶层需用含有a－Si：H的EM... 展开更多; 关键词激光诱导晶化氢化非晶硅椭偏谱硅薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

用金属诱导准分子激光晶化法制备多晶硅薄膜被引量：4: 2; 作者廖燕平邵喜斌 +4 位作者吴渊骆文生付国柱荆海马凯《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期128-132,共5页; 提出了一种新的晶化方法———金属诱导准分子激光晶化法(MI ELA)。该方法在制备多晶硅(p Si)薄膜中包括两个步骤:第一步是用镍金属诱导方法(MIC)通过热退火形成NiSi2;第二步是再通过准分子激光退火方法(ELA)晶化形成p Si。通过用XRD、R... 展开更多; 关键词多晶硅薄膜金属诱导-准分子激光晶化 NiSi2; 在线阅读下载PDF 职称材料

多晶硅薄膜制备技术的研究进展被引量：7: 3; 作者马蕾简红彬 +1 位作者康建波彭英才《河北大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2005年第1期97-103,共7页; 多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种方法薄膜的淀积机理,并预测了多晶硅薄膜制备技术的未来发展趋势.; 关键词多晶硅薄摸低压化学气相淀积热丝化学气相淀积固相晶化激光诱导晶化金属诱导晶化; 在线阅读下载PDF 职称材料