基于电化学沉积-激光诱导击穿光谱技术的土壤中Hg^(2+)检测研究

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作者 段宏伟 赵斯杰 +3 位作者 郭梅 牛其建 黄晶 刘飞 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第4期980-985,共6页

农田土壤中Hg^(2+)精准评估对于建设高标准农田和保护粮食安全具有重要意义。针对污染土壤中汞离子浓度低、共存干扰未知的问题,提出一种基于电化学联用激光诱导击穿光谱技术(EC-LIBS)的土壤中Hg^(2+)检测方法。试验首先采用循环伏安法... 农田土壤中Hg^(2+)精准评估对于建设高标准农田和保护粮食安全具有重要意义。针对污染土壤中汞离子浓度低、共存干扰未知的问题,提出一种基于电化学联用激光诱导击穿光谱技术(EC-LIBS)的土壤中Hg^(2+)检测方法。试验首先采用循环伏安法进行Hg^(2+)电沉积,与沉积前金电极基底相比较,得出沉积后金电极基底在HgⅠ435.835 nm存在明显发射信号,并且沉积后纳米金颗粒表面亮度提升、黄度下降,结果表明电化学沉积可以通过在金电极表面形成金汞齐完成汞离子液固转换。其次探究了溶剂pH和沉积电压对沉积效果的影响,得出最优的沉积参数为pH 7.0,电压为-400 mV。最终获取样品LIBS谱线并进行惠特克基线校正和PLS模型构建,得出当Lambda=1.0,p=0.01时,基线校正效果明显,所构建PLS模型预测集RMSEP和MRAEP分别为5.24 mg·kg^(-1)和4.86%,表明EC-LIBS技术结合该标准模型可以用于土壤中Hg^(2+)精准检测。 展开更多

关键词 Hg^(2+) 电化学沉积 激光诱导击穿光谱 金汞齐 PLS模型

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激光诱导化学液相沉积Fe膜的研究 被引量：2

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作者 侯占杰 唐星 +3 位作者 罗穆伟 王振 李运波 朱玉斌 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期136-140,共5页

为了沉积出表面平整、尺寸精确、沉积区域具有可选择性的Fe膜,采用YAG固体激光器,以Fe(CO)5为液相前驱体,利用一定厚度的石英片减少副产物,在激光功率密度为1.0×106W/cm2、激光频率为2.5k Hz、激光扫描速率为300mm/s、激光重复扫... 为了沉积出表面平整、尺寸精确、沉积区域具有可选择性的Fe膜,采用YAG固体激光器,以Fe(CO)5为液相前驱体,利用一定厚度的石英片减少副产物,在激光功率密度为1.0×106W/cm2、激光频率为2.5k Hz、激光扫描速率为300mm/s、激光重复扫描次数为200次的条件下,沉积出表面平整性较好、并且具有一定厚度的Fe沉积层。通过测试分析发现,沉积层表面质量受激光功率密度影响较大;激光功率密度是影响到沉积层能否沉积以及沉积厚度的重要参量。结果表明,通过激光诱导,以Fe(CO)5为前驱体,可以实现铜表面的Fe膜的沉积。 展开更多

关键词 激光技术 化学液相沉积 副产物 激光功率密度 沉积层厚度 Fe(CO)5

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激光诱导普通玻璃表面局域液相化学沉积铜的研究 被引量：1

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作者 刘立兵 赵毅 李明辉 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期51-53,共3页

利用CO2 激光 (λ =10 .6 μm)作为诱导光源 ,普通玻璃作为衬底 ,研究了影响激光沉积质量和速率的因素 ,探讨了激光诱导液相化学沉积技术的反应机制 ,反应产物及其沉积模型等。采用光学显微镜对其沉积过程和沉积铜的微观形貌进行了观察... 利用CO2 激光 (λ =10 .6 μm)作为诱导光源 ,普通玻璃作为衬底 ,研究了影响激光沉积质量和速率的因素 ,探讨了激光诱导液相化学沉积技术的反应机制 ,反应产物及其沉积模型等。采用光学显微镜对其沉积过程和沉积铜的微观形貌进行了观察。结果表明 :激光诱导液相化学沉积技术能沉积出表面平整 ,颗粒大小均匀、规则 ,分布致密的铜镀层 ,且沉积速率比起普通化学镀也要高出几个数量级。 展开更多

关键词 CO2激光器 激光诱导 玻璃 化学沉积 液相铜 二氧化碳激光器

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激光诱导环氧树脂表面液相化学局域增强沉积镍的实验研究

4

作者 黄妙良 林建明 林煜 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期48-49,共2页

利用 10 79.5nmNd:YAP激光作诱导光源 ,环氧树脂作为基体 ,研究了激光功率、辐照时间对激光诱导化学局域镀覆金属镍的形成过程、微观形貌、厚度分布影响规律 。

关键词 环氧树脂 激光诱导局域镀覆 镍 化学局域 沉积 实验 表面液相 电镀

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基于PMAC的激光诱导化学液相沉积实验系统研究

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作者 宋丹路 陈维闯 +1 位作者 杨玲玲 师晓 《机械设计与制造》 北大核心 2010年第9期176-178,共3页

在介绍激光诱导化学液相沉积(LCLD)技术的基础上,给出了基于该技术的新型快速原型系统图,并分析了系统的工作过程。针对该原型系统,采用半导体光纤激光器和PMAC运动控制卡,设计了用于CAD模型分层后二维薄层沉积的LCLD实验系统,详细介绍... 在介绍激光诱导化学液相沉积(LCLD)技术的基础上,给出了基于该技术的新型快速原型系统图,并分析了系统的工作过程。针对该原型系统,采用半导体光纤激光器和PMAC运动控制卡,设计了用于CAD模型分层后二维薄层沉积的LCLD实验系统,详细介绍了实验系统的硬件平台,给出了典型零部件的设计计算。在室温条件下,以45#钢为基体,激光波长808nm,在实验系统上进行了LCLD沉积Cu的实验。结果表明,采用快速成型系统获得的CLI文件,实验系统能够满足LCLD进行二维薄层沉积的需要,具有较好的速度。 展开更多

关键词 激光诱导化学液相沉积 快速原型系统 PMAC运动控制卡 三维运动平台

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基于激光诱导化学液相沉积的快速成型方法

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作者 周红燕 《机床与液压》 北大核心 2006年第3期86-88,共3页

对当前常用的RP工艺,如立体光刻、分层实体制造、熔融挤压成型、选区激光烧结等的原理、工艺和优缺点进行了简单评述,认为上述工艺均存在一些固有缺陷,距离企业的需求(如金属模具直接成型等)还有比较大的差距。在介绍激光诱导化学液相沉... 对当前常用的RP工艺,如立体光刻、分层实体制造、熔融挤压成型、选区激光烧结等的原理、工艺和优缺点进行了简单评述,认为上述工艺均存在一些固有缺陷,距离企业的需求(如金属模具直接成型等)还有比较大的差距。在介绍激光诱导化学液相沉积(LCLD)技术的基础上,本文提出了一种基于该技术的新型快速成型方法,给出了其成型系统原理图,并详细介绍了系统的工作过程。分析表明,该种RP系统能够较好地弥补现有系统的不足之处,具有极其广阔的应用前景。 展开更多

关键词 RP工艺 激光诱导化学液相沉积 新型RP系统

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制备参数和退火对激光诱导化学汽相沉积合成纳米硅的粒径和红外光谱的影响 被引量：10

7

作者 梁礼正 张海燕 +3 位作者 何艳阳 陈可心 王卫乡 刘颂豪 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2001年第5期382-386,共5页

用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的... 用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的成核率 ,减少每一个纳米硅核所吸收的硅原子数 ,并缩短每一个纳米硅核的生长期。纳米硅制取后退火脱H ,纳米硅的红外吸收光谱发生变化 :4条特征吸收带的位置、强度和形状各有改变。这是因为纳米硅的表面积很大 ,表面氧化使组态改变。为了减轻这样的氧化 ,纳米硅应在Ar气氛中而不是在空气中退火 ,并且开始退火的温度低于 30 0℃。 展开更多

关键词 激光诱导 化学汽相沉积 纳米硅粉 红外光谱 粒径 退火

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激光诱导化学沉积（铜）的实验研究 被引量：8

8

作者 黄妙良 林建明 +3 位作者 林煜 肖子敬 俞平利 许承晃 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1996年第5期249-251,共3页

利用５１４．５ｎｍＡ＋ｒ激光作诱导光源、研究了激光功率、辐照时间、镀液组份等对化学沉积的影响规律，利用扫描电镜分析了镀斑形成过程的微观形貌，结果表明：与普通化学镀相比．激光诱导化学沉积所形成的镀层其表面平滑、颗粒分布... 利用５１４．５ｎｍＡ＋ｒ激光作诱导光源、研究了激光功率、辐照时间、镀液组份等对化学沉积的影响规律，利用扫描电镜分析了镀斑形成过程的微观形貌，结果表明：与普通化学镀相比．激光诱导化学沉积所形成的镀层其表面平滑、颗粒分布均匀、致密。文中还初步探讨了有关激光诱导作用的机理。 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 铜 表面镀覆技术

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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量：8

9

作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页

使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据，使用焦距移动方法，生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多

关键词 激光诱导化学气相沉积 生长速度 直径 微碳柱

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激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究 被引量：7

10

作者 王锐 李道火 +2 位作者 黄永攀 罗丽明 浦坦 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 2004年第3期6-9,共4页

氮化硅是优良的陶瓷材料,应用广泛。本文研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备了超微的、非晶纳米氮化硅粉体。实验证明,纳米氮化硅粉体具有一些特殊的物理性能和光谱特性。

关键词 激光诱导 化学气相沉积法 制备 纳米氮化硅 光谱特性 陶瓷材料 SI3N4 双光束激发

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半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜 被引量：2

11

作者 刘冰 龚正烈 +3 位作者 姚素薇 郭鹤桐 袁华堂 张允什 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期80-82,共3页

由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传... 由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传统的化学镀相比，它具有明显的优越性... 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 半导体硅 镍薄膜

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Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银 被引量：1

12

作者 孙克 赵岩 +1 位作者 张彩碚 李正林 《东北大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期391-393,共3页

Nd :YAG脉冲激光扫描照射单晶Si基底表面AgNO3 薄膜 ,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线· 在激光功率为 2 8W ,频率为 35Hz时 ,最高扫描速度为 9mm/s·SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面 ,AES研究沉积线表... Nd :YAG脉冲激光扫描照射单晶Si基底表面AgNO3 薄膜 ,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线· 在激光功率为 2 8W ,频率为 35Hz时 ,最高扫描速度为 9mm/s·SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面 ,AES研究沉积线表面元素随深度分布情况·以Ag颗粒为催化中心 ,在沉积线表面选区化学镀铜 ,超声振动显示镀铜膜与基底有良好的结合力· 展开更多

关键词 Nd:YAG脉冲激光 激光诱导化学沉积 选区化学镀 Si基底 硅基底 银 大规模集成电路

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退火处理对激光诱导化学气相沉积制备纳米硅红外光谱的影响

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作者 张海燕 陈可心 +2 位作者 刘颂豪 梁礼正 王卫乡 《中山大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2000年第S2期169-173,共5页

研究激光诱导化学相沉积（ＬＩＣＶＤ）法制备纳米硅粒子的工艺过程，分析了影响纳米硅形成及尺寸的主要工艺参数，获得了最佳的工艺条件并讨论了退火处理对纳米硅红外光谱各吸收峰的强度。

关键词 纳米硅 激光诱导化学气相沉积(LICVD) 红外光谱

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激光诱导化学气相沉积法制备纳米晶硅的制备参数和退火工艺的研究

14

作者 梁礼正 张海燕 +3 位作者 何艳阳 陈可心 王卫乡 刘颂豪 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期48-51,共4页

用CO2 红外激光诱导化学气相沉积的方法制备纳米Si,激光强度越大 ,则SiH4受热温度越高 ,纳米Si的成核率越高 ,纳米Si核的密度越大 ,每一个核生长所吸收的Si原子数目越少 ,从而所得的纳米Si粒小而均匀。当激光强度减小到一个低限阈值 ,则... 用CO2 红外激光诱导化学气相沉积的方法制备纳米Si,激光强度越大 ,则SiH4受热温度越高 ,纳米Si的成核率越高 ,纳米Si核的密度越大 ,每一个核生长所吸收的Si原子数目越少 ,从而所得的纳米Si粒小而均匀。当激光强度减小到一个低限阈值 ,则SiH4温度太低 ,不能裂解。SiH4的流速越快 ,则纳米Si成核后生长期越短 ,纳米Si粒也小而均匀。当SiH4流速快到一个高限阈值 ,则SiH4受热时间太短 ,升不到裂解所需的高温。以上 2个产生纳米Si的阈值正相关。纳米Si制取后退火脱H ,344 0cm-1光谱带红移并增强 ,2 15 0cm-1光谱带形状变化 ,110 0cm-1光谱带由低频处蓝移而来并展宽。这都表明含O键在纳米Si很大的表面上出现。为了减轻含O键出现 ,纳米Si应在Ar气氛中而不是在空气中 ,从低于 30 展开更多

关键词 激光诱导 化学气相沉积法 制备 纳米晶硅 制备参数 退火工艺 红外吸收光谱 集成电路

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CO_2激光诱导液相沉积银的机理研究

15

作者 刘建国 陈存华 郑家焱木 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期82-84,共3页

激光诱导液相沉积的机理可大致分为光电化学机理、热电化学机理和热分解机理等。通过试验及分析表明 ,CO2 激光诱导液相沉积银属于简单的热分解机理。CO2 激光起到局域热源的作用 ,在激光辐照过程中 ,光照区介质溶液及基体表面均发生了... 激光诱导液相沉积的机理可大致分为光电化学机理、热电化学机理和热分解机理等。通过试验及分析表明 ,CO2 激光诱导液相沉积银属于简单的热分解机理。CO2 激光起到局域热源的作用 ,在激光辐照过程中 ,光照区介质溶液及基体表面均发生了极其复杂的物理化学变化 ,最后诱导产生的银沉积在基体表面并部分扩散到了基体内部 。 展开更多

关键词 CO2激光 激光诱导 液相沉积

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不同化学镀液中p－Si上激光诱导局部沉积铜 被引量：2

16

作者 姜贵凤 郁祖湛 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期18-21,共4页

在化学镀铜浴液中，ｐ－Ｓｉ片在彼长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层．采用ＡＥｓ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质；探讨了液相激光... 在化学镀铜浴液中，ｐ－Ｓｉ片在彼长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层．采用ＡＥｓ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质；探讨了液相激光诱导化学沉积铜的机理． 展开更多

关键词 化学镀铜 激光诱导沉积 化学沉积 铜 镀铜

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CO_2激光诱导局域化学镀铜的研究 被引量：7

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作者 刘建国 陈存华 +2 位作者 郑家燊 黄维玲 李亚华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期16-18,共3页

利用CO2 激光诱导液相沉积技术 ,首次从水溶液中在环氧树脂基体的正面局域沉积出了金属铜线。并运用扫描电子显微镜、电子探针等仪器 ,观察到了激光照射后基体上催化沉积活性中心的存在 ,分析了所沉积的铜线的微观形貌。

关键词 局域化学镀铜 CO2激光 激光诱导液相沉积 微观形貌

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p型硅片上激光诱导局部化学沉镍 被引量：2

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作者 王建 郁祖湛 郁宁 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第4期626-629,共4页

在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现ｐ型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍，讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响。使用ＳＥＭ、ＡＥＳ和ＲＢＳ等方法对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱导化学沉积得到了均匀致密、结合力... 在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现ｐ型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍，讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响。使用ＳＥＭ、ＡＥＳ和ＲＢＳ等方法对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱导化学沉积得到了均匀致密、结合力好的纯镍镀层。镀层与基体间具有Ｓｃｈｏｔｔｋｙ接触特性。 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 镍 反应机理

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化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响 被引量：2

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作者 王志强 严鸿维 +6 位作者 袁晓东 杨科 李源 晏良宏 张丽娟 刘太祥 李合阳 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期1-6,共6页

化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微... 化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。 展开更多

关键词 激光光学 熔石英 化学刻蚀 沉积物 激光诱导损伤

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枝晶状纳米铜修饰激光诱导石墨烯电化学传感器的制备及其在葡萄糖检测中的应用 被引量：6

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作者 梅正方 姚梦婷 +1 位作者 陈荣生 胡成国 《分析科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第4期522-528,共7页

本文以柔性聚酰亚胺(PI)薄膜为原料,采用激光雕刻方法构筑激光诱导石墨烯(LIG)三电极阵列。以此为基底,通过电沉积方法制备Ag/AgCl参比电极和枝晶状纳米Cu修饰工作电极,用于构建柔性非酶型葡萄糖电化学传感器。在0.1 mol/L NaOH和0.1 mo... 本文以柔性聚酰亚胺(PI)薄膜为原料,采用激光雕刻方法构筑激光诱导石墨烯(LIG)三电极阵列。以此为基底,通过电沉积方法制备Ag/AgCl参比电极和枝晶状纳米Cu修饰工作电极,用于构建柔性非酶型葡萄糖电化学传感器。在0.1 mol/L NaOH和0.1 mol/L KCl的混合溶液中,施加0.5 V检测电位,其检测葡萄糖的灵敏度为1554.5μA/(mmol/L·cm2),线性范围为0.5~365.5μmol/L,检测限(S/N=3)为0.098μmol/L。该柔性传感器具有良好的重现性,其相对标准偏差(RSD,n=10)为2.96%;同时对多巴胺、抗坏血酸、尿酸、5-羟色胺和组胺等物质具有良好的抗干扰能力。 展开更多

关键词 激光诱导石墨烯 电化学沉积 柔性无酶葡萄糖传感器

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