激光诱导化学液相沉积Fe膜的研究 被引量：2

1

作者 侯占杰 唐星 +3 位作者 罗穆伟 王振 李运波 朱玉斌 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期136-140,共5页

为了沉积出表面平整、尺寸精确、沉积区域具有可选择性的Fe膜,采用YAG固体激光器,以Fe(CO)5为液相前驱体,利用一定厚度的石英片减少副产物,在激光功率密度为1.0×106W/cm2、激光频率为2.5k Hz、激光扫描速率为300mm/s、激光重复扫... 为了沉积出表面平整、尺寸精确、沉积区域具有可选择性的Fe膜,采用YAG固体激光器,以Fe(CO)5为液相前驱体,利用一定厚度的石英片减少副产物,在激光功率密度为1.0×106W/cm2、激光频率为2.5k Hz、激光扫描速率为300mm/s、激光重复扫描次数为200次的条件下,沉积出表面平整性较好、并且具有一定厚度的Fe沉积层。通过测试分析发现,沉积层表面质量受激光功率密度影响较大;激光功率密度是影响到沉积层能否沉积以及沉积厚度的重要参量。结果表明,通过激光诱导,以Fe(CO)5为前驱体,可以实现铜表面的Fe膜的沉积。 展开更多

关键词 激光技术 化学液相沉积 副产物 激光功率密度 沉积层厚度 Fe(CO)5

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激光诱导普通玻璃表面局域液相化学沉积铜的研究 被引量：1

2

作者 刘立兵 赵毅 李明辉 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期51-53,共3页

利用CO2 激光 (λ =10 .6 μm)作为诱导光源 ,普通玻璃作为衬底 ,研究了影响激光沉积质量和速率的因素 ,探讨了激光诱导液相化学沉积技术的反应机制 ,反应产物及其沉积模型等。采用光学显微镜对其沉积过程和沉积铜的微观形貌进行了观察... 利用CO2 激光 (λ =10 .6 μm)作为诱导光源 ,普通玻璃作为衬底 ,研究了影响激光沉积质量和速率的因素 ,探讨了激光诱导液相化学沉积技术的反应机制 ,反应产物及其沉积模型等。采用光学显微镜对其沉积过程和沉积铜的微观形貌进行了观察。结果表明 :激光诱导液相化学沉积技术能沉积出表面平整 ,颗粒大小均匀、规则 ,分布致密的铜镀层 ,且沉积速率比起普通化学镀也要高出几个数量级。 展开更多

关键词 CO2激光器 激光诱导 玻璃 化学沉积 液相铜 二氧化碳激光器

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激光诱导环氧树脂表面液相化学局域增强沉积镍的实验研究

3

作者 黄妙良 林建明 林煜 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期48-49,共2页

利用 10 79.5nmNd:YAP激光作诱导光源 ,环氧树脂作为基体 ,研究了激光功率、辐照时间对激光诱导化学局域镀覆金属镍的形成过程、微观形貌、厚度分布影响规律 。

关键词 环氧树脂 激光诱导局域镀覆 镍 化学局域 沉积 实验 表面液相 电镀

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制备参数和退火对激光诱导化学汽相沉积合成纳米硅的粒径和红外光谱的影响 被引量：10

4

作者 梁礼正 张海燕 +3 位作者 何艳阳 陈可心 王卫乡 刘颂豪 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2001年第5期382-386,共5页

用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的... 用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的成核率 ,减少每一个纳米硅核所吸收的硅原子数 ,并缩短每一个纳米硅核的生长期。纳米硅制取后退火脱H ,纳米硅的红外吸收光谱发生变化 :4条特征吸收带的位置、强度和形状各有改变。这是因为纳米硅的表面积很大 ,表面氧化使组态改变。为了减轻这样的氧化 ,纳米硅应在Ar气氛中而不是在空气中退火 ,并且开始退火的温度低于 30 0℃。 展开更多

关键词 激光诱导 化学汽相沉积 纳米硅粉 红外光谱 粒径 退火

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激光诱导化学沉积（铜）的实验研究 被引量：8

5

作者 黄妙良 林建明 +3 位作者 林煜 肖子敬 俞平利 许承晃 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1996年第5期249-251,共3页

利用５１４．５ｎｍＡ＋ｒ激光作诱导光源、研究了激光功率、辐照时间、镀液组份等对化学沉积的影响规律，利用扫描电镜分析了镀斑形成过程的微观形貌，结果表明：与普通化学镀相比．激光诱导化学沉积所形成的镀层其表面平滑、颗粒分布... 利用５１４．５ｎｍＡ＋ｒ激光作诱导光源、研究了激光功率、辐照时间、镀液组份等对化学沉积的影响规律，利用扫描电镜分析了镀斑形成过程的微观形貌，结果表明：与普通化学镀相比．激光诱导化学沉积所形成的镀层其表面平滑、颗粒分布均匀、致密。文中还初步探讨了有关激光诱导作用的机理。 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 铜 表面镀覆技术

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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量：7

6

作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页

使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据，使用焦距移动方法，生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多

关键词 激光诱导化学气相沉积 生长速度 直径 微碳柱

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半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜 被引量：2

7

作者 刘冰 龚正烈 +3 位作者 姚素薇 郭鹤桐 袁华堂 张允什 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期80-82,共3页

由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传... 由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性，在表面处理技术中的应用越来越广泛．在金属、半导体和高聚物基体上，从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意，这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景．与传统的化学镀相比，它具有明显的优越性... 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 半导体硅 镍薄膜

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激光诱导化学气相沉积制膜技术 被引量：11

8

作者 葛柏青 王豫 《安徽工业大学学报（自然科学版）》 CAS 2004年第1期7-10,22,共5页

综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向。阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点。分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响。

关键词 激光诱导化学气相沉积 薄膜性能 工艺参数 LCVD技术 表面改性 薄膜制备

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Nd:YAG脉冲激光诱导化学沉积银 被引量：1

9

作者 孙克 赵岩 +1 位作者 张彩碚 李正林 《东北大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期391-393,共3页

Nd :YAG脉冲激光扫描照射单晶Si基底表面AgNO3 薄膜 ,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线· 在激光功率为 2 8W ,频率为 35Hz时 ,最高扫描速度为 9mm/s·SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面 ,AES研究沉积线表... Nd :YAG脉冲激光扫描照射单晶Si基底表面AgNO3 薄膜 ,薄膜热分解产生的Ag沉积在Si基底表面形成沉积线· 在激光功率为 2 8W ,频率为 35Hz时 ,最高扫描速度为 9mm/s·SEM显示Ag颗粒均匀镶嵌在基底沉积线表面 ,AES研究沉积线表面元素随深度分布情况·以Ag颗粒为催化中心 ,在沉积线表面选区化学镀铜 ,超声振动显示镀铜膜与基底有良好的结合力· 展开更多

关键词 Nd:YAG脉冲激光 激光诱导化学沉积 选区化学镀 Si基底 硅基底 银 大规模集成电路

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激光诱导化学气相沉积法制备纳米晶硅的制备参数和退火工艺的研究

10

作者 梁礼正 张海燕 +3 位作者 何艳阳 陈可心 王卫乡 刘颂豪 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期48-51,共4页

用CO2 红外激光诱导化学气相沉积的方法制备纳米Si,激光强度越大 ,则SiH4受热温度越高 ,纳米Si的成核率越高 ,纳米Si核的密度越大 ,每一个核生长所吸收的Si原子数目越少 ,从而所得的纳米Si粒小而均匀。当激光强度减小到一个低限阈值 ,则... 用CO2 红外激光诱导化学气相沉积的方法制备纳米Si,激光强度越大 ,则SiH4受热温度越高 ,纳米Si的成核率越高 ,纳米Si核的密度越大 ,每一个核生长所吸收的Si原子数目越少 ,从而所得的纳米Si粒小而均匀。当激光强度减小到一个低限阈值 ,则SiH4温度太低 ,不能裂解。SiH4的流速越快 ,则纳米Si成核后生长期越短 ,纳米Si粒也小而均匀。当SiH4流速快到一个高限阈值 ,则SiH4受热时间太短 ,升不到裂解所需的高温。以上 2个产生纳米Si的阈值正相关。纳米Si制取后退火脱H ,344 0cm-1光谱带红移并增强 ,2 15 0cm-1光谱带形状变化 ,110 0cm-1光谱带由低频处蓝移而来并展宽。这都表明含O键在纳米Si很大的表面上出现。为了减轻含O键出现 ,纳米Si应在Ar气氛中而不是在空气中 ,从低于 30 展开更多

关键词 激光诱导 化学气相沉积法 制备 纳米晶硅 制备参数 退火工艺 红外吸收光谱 集成电路

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CO_2激光诱导液相沉积银的机理研究

11

作者 刘建国 陈存华 郑家焱木 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期82-84,共3页

激光诱导液相沉积的机理可大致分为光电化学机理、热电化学机理和热分解机理等。通过试验及分析表明 ,CO2 激光诱导液相沉积银属于简单的热分解机理。CO2 激光起到局域热源的作用 ,在激光辐照过程中 ,光照区介质溶液及基体表面均发生了... 激光诱导液相沉积的机理可大致分为光电化学机理、热电化学机理和热分解机理等。通过试验及分析表明 ,CO2 激光诱导液相沉积银属于简单的热分解机理。CO2 激光起到局域热源的作用 ,在激光辐照过程中 ,光照区介质溶液及基体表面均发生了极其复杂的物理化学变化 ,最后诱导产生的银沉积在基体表面并部分扩散到了基体内部 。 展开更多

关键词 CO2激光 激光诱导 液相沉积

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不同化学镀液中p－Si上激光诱导局部沉积铜 被引量：2

12

作者 姜贵凤 郁祖湛 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期18-21,共4页

在化学镀铜浴液中，ｐ－Ｓｉ片在彼长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层．采用ＡＥｓ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质；探讨了液相激光... 在化学镀铜浴液中，ｐ－Ｓｉ片在彼长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层．采用ＡＥｓ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质；探讨了液相激光诱导化学沉积铜的机理． 展开更多

关键词 化学镀铜 激光诱导沉积 化学沉积 铜 镀铜

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CO_2激光诱导局域化学镀铜的研究 被引量：7

13

作者 刘建国 陈存华 +2 位作者 郑家燊 黄维玲 李亚华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期16-18,共3页

利用CO2 激光诱导液相沉积技术 ,首次从水溶液中在环氧树脂基体的正面局域沉积出了金属铜线。并运用扫描电子显微镜、电子探针等仪器 ,观察到了激光照射后基体上催化沉积活性中心的存在 ,分析了所沉积的铜线的微观形貌。

关键词 局域化学镀铜 CO2激光 激光诱导液相沉积 微观形貌

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p型硅片上激光诱导局部化学沉镍 被引量：2

14

作者 王建 郁祖湛 郁宁 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第4期626-629,共4页

在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现ｐ型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍，讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响。使用ＳＥＭ、ＡＥＳ和ＲＢＳ等方法对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱导化学沉积得到了均匀致密、结合力... 在以肼为还原剂的碱性化学镀镍溶液中实现ｐ型单晶硅片上激光诱导微区化学沉镍，讨论了激光能量、照射时间对镍沉积层的影响。使用ＳＥＭ、ＡＥＳ和ＲＢＳ等方法对镀层的形貌、性质进行了分析。激光诱导化学沉积得到了均匀致密、结合力好的纯镍镀层。镀层与基体间具有Ｓｃｈｏｔｔｋｙ接触特性。 展开更多

关键词 激光诱导 化学沉积 镍 反应机理

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化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响 被引量：1

15

作者 王志强 严鸿维 +6 位作者 袁晓东 杨科 李源 晏良宏 张丽娟 刘太祥 李合阳 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期1-6,共6页

化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微... 化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。 展开更多

关键词 激光光学 熔石英 化学刻蚀 沉积物 激光诱导损伤

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枝晶状纳米铜修饰激光诱导石墨烯电化学传感器的制备及其在葡萄糖检测中的应用 被引量：6

16

作者 梅正方 姚梦婷 +1 位作者 陈荣生 胡成国 《分析科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第4期522-528,共7页

本文以柔性聚酰亚胺(PI)薄膜为原料,采用激光雕刻方法构筑激光诱导石墨烯(LIG)三电极阵列。以此为基底,通过电沉积方法制备Ag/AgCl参比电极和枝晶状纳米Cu修饰工作电极,用于构建柔性非酶型葡萄糖电化学传感器。在0.1 mol/L NaOH和0.1 mo... 本文以柔性聚酰亚胺(PI)薄膜为原料,采用激光雕刻方法构筑激光诱导石墨烯(LIG)三电极阵列。以此为基底,通过电沉积方法制备Ag/AgCl参比电极和枝晶状纳米Cu修饰工作电极,用于构建柔性非酶型葡萄糖电化学传感器。在0.1 mol/L NaOH和0.1 mol/L KCl的混合溶液中,施加0.5 V检测电位,其检测葡萄糖的灵敏度为1554.5μA/(mmol/L·cm2),线性范围为0.5~365.5μmol/L,检测限(S/N=3)为0.098μmol/L。该柔性传感器具有良好的重现性,其相对标准偏差(RSD,n=10)为2.96%;同时对多巴胺、抗坏血酸、尿酸、5-羟色胺和组胺等物质具有良好的抗干扰能力。 展开更多

关键词 激光诱导石墨烯 电化学沉积 柔性无酶葡萄糖传感器

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电介质表面金属功能图案激光加工技术研究进展

17

作者 肖荣诗 魏佳硕 +1 位作者 崔梦雅 黄婷 《航空制造技术》 北大核心 2025年第1期22-35,共14页

电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发... 电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发展迅速。按照自上而下和自下而上的技术路线,分别概述激光刻蚀、选择性激光烧结、脉冲激光沉积、激光诱导化学液相沉积、激光诱导化学气相沉积、激光辅助化学镀6种激光加工技术的原理和优势,及它们在电介质表面加工金属功能图案的最新研究进展,并总结相应的技术瓶颈和未来发展趋势。 展开更多

关键词 激光加工 金属功能图案 激光刻蚀 选择性激光烧结(SLS) 脉冲激光沉积(PLD) 激光诱导化学液相沉积(lcld) 激光诱导化学气相沉积(LCVD) 激光辅助化学镀(LEP)

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基于化学沉积方法的快速成形技术研究 被引量：2

18

作者 薛明 杨伟东 颜永年 《河北工业大学学报》 CAS 2005年第4期15-19,共5页

各种快速成形新技术的涌现,提高了快速成形技术的成形能力,拓展了其应用领域.介绍了基于化学沉积方法的快速成形技术,提出了根据成形材料的不同状态和使能技术的不同方式将其分类的方法,分析了热化学液相沉积成形、激光诱导化学沉积成... 各种快速成形新技术的涌现,提高了快速成形技术的成形能力,拓展了其应用领域.介绍了基于化学沉积方法的快速成形技术,提出了根据成形材料的不同状态和使能技术的不同方式将其分类的方法,分析了热化学液相沉积成形、激光诱导化学沉积成形、电子束诱导化学沉积成形、电化学沉积成形等快速成形新技术的基本原理和工艺特点,并阐述了其应用前景. 展开更多

关键词 快速成形 化学沉积 热化学 激光诱导 电子束诱导 电化学

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激光合成硅粉中的分形结构 被引量：1

19

作者 王卫乡 吉玉泓 +2 位作者 梅宴标 刘颂豪 陈俊芳 《华南理工大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 1996年第S1期25-28,共4页

本文对激光合成硅粉过程中出现的分形现象进行了分析，计算了其分维。

关键词 分形 激光诱导化学气相沉积 硅粉

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纳米粉体的激光制备方法

20

作者 李保家 周明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第F11期20-23,共4页

总结了激光技术制备纳米粉末的特点，介绍了激光诱导化学气相沉积法、激光烧蚀法、激光诱导液-固界面反应法以及激光-感应复合加热法等的基本原理、装置及特点，综述了目前纳米粉体激光制备技术的应用研究现状，指出了其今后的研究方向... 总结了激光技术制备纳米粉末的特点，介绍了激光诱导化学气相沉积法、激光烧蚀法、激光诱导液-固界面反应法以及激光-感应复合加热法等的基本原理、装置及特点，综述了目前纳米粉体激光制备技术的应用研究现状，指出了其今后的研究方向和应用前景。 展开更多

关键词 纳米粉体 激光 制备 激光诱导化学气相沉积法 激光烧蚀法 激光诱导液-固界面反应法 激光-感应复合加热法

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