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Cu-Ni-V-C合金对激光熔敷层性能的影响 被引量:2
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作者 栾景飞 严密 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期945-949,共5页
在不预热情况下 ,通过调整熔敷金属Cu和Ni的含量 ,改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数 ,分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上 ,研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及... 在不预热情况下 ,通过调整熔敷金属Cu和Ni的含量 ,改变铸铁激光熔敷层内奥氏体相与渗碳体相体积分数 ,分析了奥氏体相体积分数对熔敷层抗裂性的影响。在最佳激光熔敷工艺参数基础上 ,研究了Cu和Ni对熔敷层奥氏体体积分数、表面裂纹率及表面耐磨性的影响。获得的未裂临界熔敷层面积为 5 5 .1cm2 ,其对应熔敷材料为Cu Ni C Si Fe。以此熔敷材料为基础 ,改变V含量 ,在熔敷层得到原位自生V2 C。研究了V2 C对熔敷层耐磨性的影响 ,分析了V2 C对熔敷层硬度及磨损质量损失的影响规律 ,最终获得了可显著提高熔敷层抗裂性及耐磨性的Cu Ni V C Si 展开更多
关键词 激光 NI CU 原位自生V2C 抗裂性 耐磨性 Cu-Ni-V-C合金 表面处理 激光表面熔敷工艺 铜基合金
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