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光栅参数测量技术研究进展
被引量：
15
1
作者
刘洪兴
张巍
巩岩
《中国光学》
EI
CAS
2011年第2期103-110,共8页
光栅参数测量技术是衡量光栅制作水平的重要标准。本文从直接测量法和间接测量法两个角度对现阶段较成熟的光栅参数测量技术进行了研究。重点介绍了原子力显微镜(AFM)测量法、扫描电子显微镜(SEM)测量法、激光衍射(LD)测量法以及散射测...
光栅参数测量技术是衡量光栅制作水平的重要标准。本文从直接测量法和间接测量法两个角度对现阶段较成熟的光栅参数测量技术进行了研究。重点介绍了原子力显微镜(AFM)测量法、扫描电子显微镜(SEM)测量法、激光衍射(LD)测量法以及散射测量术的测量原理和研究进展,指出了这些方法各自的优缺点和适用范围。AFM测量法和SEM测量法均可测得光栅的局部形貌信息,可用于检测光栅表面形貌缺陷;LD测量法和散射测量术反映的是激光照射区域的平均结果,其中LD测量法能得到光栅周期参数,而椭偏测量术能得到光栅周期以外的其他形貌参数。这些方法测得的光栅参数结果比较吻合,其中LD测量法不确定度最小,AFM次之,SEM最大。文章最后对未来光栅参数测量技术的发展方向进行了论述。
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关键词
光栅
光栅参数测量
原子力显微镜
扫描电子显微镜
激光衍射仪
椭偏仪
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职称材料
题名
光栅参数测量技术研究进展
被引量：
15
1
作者
刘洪兴
张巍
巩岩
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院研究生院
出处
《中国光学》
EI
CAS
2011年第2期103-110,共8页
基金
国家863高技术研究发展计划资助项目(No.863-2-5-1-13B)
文摘
光栅参数测量技术是衡量光栅制作水平的重要标准。本文从直接测量法和间接测量法两个角度对现阶段较成熟的光栅参数测量技术进行了研究。重点介绍了原子力显微镜(AFM)测量法、扫描电子显微镜(SEM)测量法、激光衍射(LD)测量法以及散射测量术的测量原理和研究进展,指出了这些方法各自的优缺点和适用范围。AFM测量法和SEM测量法均可测得光栅的局部形貌信息,可用于检测光栅表面形貌缺陷;LD测量法和散射测量术反映的是激光照射区域的平均结果,其中LD测量法能得到光栅周期参数,而椭偏测量术能得到光栅周期以外的其他形貌参数。这些方法测得的光栅参数结果比较吻合,其中LD测量法不确定度最小,AFM次之,SEM最大。文章最后对未来光栅参数测量技术的发展方向进行了论述。
关键词
光栅
光栅参数测量
原子力显微镜
扫描电子显微镜
激光衍射仪
椭偏仪
Keywords
grating
grating parameter measurement
Atomic Force Microscopy（AFM）
Scanning Electron Microscopy（SEM）
Laser Diffraction（LD）
ellipsometer
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
光栅参数测量技术研究进展
刘洪兴
张巍
巩岩
《中国光学》
EI
CAS
2011
15
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