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激光维持等离子体钛合金表面渗氮研究进展 被引量:1
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作者 郭晋昌 石玗 +1 位作者 耿培彪 朱明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第5期109-114,共6页
钛合金具有强度高、密度小等诸多优点,在航空航天等行业具有广阔的应用前景,但是硬度低和耐磨性差限制了其进一步应用。利用物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等方法可提高钛合金表面硬度和耐磨性,但是这些方法存在效率低等缺点。... 钛合金具有强度高、密度小等诸多优点,在航空航天等行业具有广阔的应用前景,但是硬度低和耐磨性差限制了其进一步应用。利用物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等方法可提高钛合金表面硬度和耐磨性,但是这些方法存在效率低等缺点。钛合金表面激光气体渗氮可快速提高钛合金表面硬度和耐磨性,但是渗氮工艺复杂,需要解决很多科学和技术问题。国内学者开始重视此方面研究,国外学者的研究已经取得了一些成果,目前的研究热点是渗氮过程的机理和等离子体对渗氮过程的影响。最近几年,国外学者采用高速摄像配合不同波长的透镜对等离子体进行系统化拍摄研究,对氮等离子体产生的条件以及等离子体对能量传输、防止渗氮层氧化、增加渗氮层氮含量的作用有了较深入的认识。目前的研究认为氮离子对激光渗氮是有益的,并且等离子体是实现高质量渗氮的核心。在以上研究的基础上,发展了激光维持等离子体渗氮方法,该方法采用激光诱导产生氮等离子体,并在大激光功率、大离焦距离和大扫描速度的工艺参数下渗氮;进一步研究了离焦距离、扫描速度及氮氩比例等工艺参数对激光维持等离子体渗氮过程的影响。激光维持等离子体渗氮层容易开裂,为解决渗氮层开裂问题,发展了两步法激光维持等离子体渗氮方法:第一步激光诱导产生氮等离子体,实现基体大量渗氮;第二步在氩等离子体中用激光重熔渗氮层,消除裂纹。两步渗氮法增强了对渗氮层性能的控制能力,可使得渗氮层性能更优。另外,对渗氮过程进行了定量研究,发现激光扫描速度与钛合金表面熔池存在时间呈线性关系,并且激光扫描速度与渗氮层氮含量呈线性关系,渗氮层硬度和树枝晶含量也呈线性关系;最后研究了两步法激光维持氮等离子体渗氮层的耐磨性,提出渗氮层耐磨性增强的机理。本文综述了激光维持等离子体钛合金表面渗氮的研究进展,分别介绍了等离子体的作用,激光维持等离子体渗氮方法,两步法激光维持等离子体渗氮方法,提出了未来亟需解决的重点问题及有效的研究方法,为未来的研究工作提供参考。 展开更多
关键词 激光维持等离子体 钛合金 激光渗氮 两步法渗氮
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连续CO_(2)激光维持Ar等离子体的研究
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作者 郝子宜 胡艳菲 +1 位作者 左都罗 王新兵 《激光技术》 北大核心 2025年第5期749-754,共6页
为了探究连续CO_(2)激光在不同气压及功率条件下激发Ar等离子体的基本特性,采用连续CO_(2)激光器,在250W~500W的功率范围内、0.3MPa~0.6MPa的氩气环境中维持了Ar等离子体,并通过实验取得了等离子体质心位置、稳定性和形态特性。结果表明... 为了探究连续CO_(2)激光在不同气压及功率条件下激发Ar等离子体的基本特性,采用连续CO_(2)激光器,在250W~500W的功率范围内、0.3MPa~0.6MPa的氩气环境中维持了Ar等离子体,并通过实验取得了等离子体质心位置、稳定性和形态特性。结果表明,当气压从0.3MPa增加到0.6MPa、激光功率由250W增加到500W时,等离子体质心位置向激光人射反方向移动,等离子体质心位置标准差由0.04827mm降低至0.02135mm,质心稳定性提高;对于Ar等离子体的形态特性,随气压升高,离子体体积缩小,随亮度增大,椭球率减小,形貌逐渐趋向球形;而激光功率的提升则主要导致等离子体尺寸扩大,椭球率仍保持稳定;采用阴影法观察到等离子体周围存在的周期性上升气流,验证了热重力对流对等离子体稳定性的关键影响。得到的CO_(2)激光在不同条件下激发Ar等离子体的基本特性,可为优化等离子体光源提供理论基础。 展开更多
关键词 激光技术 激光维持等离子体 CO_(2)激光 等离子体影像 高压氩气
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气体放电与等离子体在芯片制造领域中的应用
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作者 付洋洋 王新新 +11 位作者 邹晓兵 韩星 陈佳毅 张东荷雨 陈健东 林楚彬 杨栋 贾鸿宇 王倩 郑博聪 赵凯 肖舒 《高电压技术》 北大核心 2025年第8期4458-4477,共20页
放电等离子体广泛应用于半导体芯片制造,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、等离子体清洗等,其技术总成占据集成电路产业份额1/3以上,已发展成为芯片制造工艺与装备领域的关键核心技术。该文对气体放电与等离子体在芯片制造领域的典... 放电等离子体广泛应用于半导体芯片制造,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、等离子体清洗等,其技术总成占据集成电路产业份额1/3以上,已发展成为芯片制造工艺与装备领域的关键核心技术。该文对气体放电与等离子体在芯片制造领域的典型应用进行了概述。首先,针对光刻光源系统,介绍了气体放电泵浦准分子激光、激光产生等离子体辐射极紫外光的基本原理,其本质都是利用等离子体产生的光辐射;其次,针对刻蚀用射频等离子体,介绍了低气压射频放电的产生、特性、调控及相关工艺技术;再次,对薄膜工艺、离子注入装备原理及相关放电等离子体技术原理进行了介绍与讨论;随后,在量测与检测方面,分别介绍了光学检测与电子束检测的特点,阐述了激光维持等离子体实现宽谱强辐射光源的基本原理与特性;最后,介绍了基于辉光放电的等离子体清洗技术,以及其在去除刻蚀残留物中的应用。通过总结梳理气体放电与等离子体在半导体制造领域中的应用及相关核心技术,明晰放电等离子体科学基础研究方向,助力解决半导体装备国产化过程中的等离子体技术瓶颈。 展开更多
关键词 气体放电 等离子体 芯片制造 气体激光 等离子体辐射 射频放电 等离子体刻蚀 激光维持等离子体 辉光放电清洗
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高气压激光维持氩等离子体实验与仿真 被引量:1
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作者 王大智 袁博文 +2 位作者 卢琪 乔俊杰 熊青 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第9期2541-2554,共14页
激光维持等离子体(LSP)作为一种先进光源,具有高稳定性、宽光谱和高亮度的特点,应用价值高且广泛,例如基于LSP深紫外辐射的半导体表面高灵敏缺陷检测。LSP源的深紫外辐射产生过程及优化一直备受关注,实际测量较困难且有局限。该文以氩气... 激光维持等离子体(LSP)作为一种先进光源,具有高稳定性、宽光谱和高亮度的特点,应用价值高且广泛,例如基于LSP深紫外辐射的半导体表面高灵敏缺陷检测。LSP源的深紫外辐射产生过程及优化一直备受关注,实际测量较困难且有局限。该文以氩气LSP(气压>10^(6) Pa)为例,结合实验光谱测量及零维全局模型,探究了氩气LSP自持放电过程,获取了准分子Ar_(2)^(*)的主要产生及消失路径,并研究了氩气气压与激光功率对Ar_(2)^(*)的影响机制,基于此预判了气压与激光功率对Ar_(2)^(*)126 nm深紫外辐射的优化趋势,指出提高气体压强是增强126 nm辐射强度的一种经济且有效的方式。 展开更多
关键词 激光维持等离子体 真空紫外辐射 光谱测量 零维模型 Ar_(2)^(*)分子
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