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面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述
被引量：
5
1
作者
杨津宇
杨军
+5 位作者
白晓蓉
任政钢
刘成卫
龚轩
胡亮
阮晓东
《液压与气动》
北大核心
2022年第5期1-17,共17页
湿法工艺作为半导体工艺的重要组成部分,通过化学品(酸、碱、溶剂等)与超纯水等液体介质,对晶圆表面进行刻蚀、清洗等处理,其制程需避免颗粒、金属、离子、细菌等污染物带来的工艺缺陷。为此,湿法工艺相关的化学品系统、超纯水系统与制...
湿法工艺作为半导体工艺的重要组成部分,通过化学品(酸、碱、溶剂等)与超纯水等液体介质,对晶圆表面进行刻蚀、清洗等处理,其制程需避免颗粒、金属、离子、细菌等污染物带来的工艺缺陷。为此,湿法工艺相关的化学品系统、超纯水系统与制程装备均需采用超洁净流控部件,但相关产品被国外垄断,我国对该技术领域的研究仍处起步阶段。该研究首先阐述了半导体湿法制程对超洁净流控部件的需求,剖析了该类部件的主要技术特征。进而,重点介绍了磁悬浮泵、波纹管泵、隔膜阀以及超声波流量传感器等超洁净流控部件的工作原理与发展历程,并分析了其关键技术与研究现状。最后,对超洁净流控技术的发展做出了展望。
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关键词
半导体
湿法制程
超洁净流控
磁悬浮泵
波纹管泵
隔膜阀
超声波流量传感器
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职称材料
题名
面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述
被引量：
5
1
作者
杨津宇
杨军
白晓蓉
任政钢
刘成卫
龚轩
胡亮
阮晓东
机构
浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室
浙江启尔机电技术有限公司
出处
《液压与气动》
北大核心
2022年第5期1-17,共17页
文摘
湿法工艺作为半导体工艺的重要组成部分,通过化学品(酸、碱、溶剂等)与超纯水等液体介质,对晶圆表面进行刻蚀、清洗等处理,其制程需避免颗粒、金属、离子、细菌等污染物带来的工艺缺陷。为此,湿法工艺相关的化学品系统、超纯水系统与制程装备均需采用超洁净流控部件,但相关产品被国外垄断,我国对该技术领域的研究仍处起步阶段。该研究首先阐述了半导体湿法制程对超洁净流控部件的需求,剖析了该类部件的主要技术特征。进而,重点介绍了磁悬浮泵、波纹管泵、隔膜阀以及超声波流量传感器等超洁净流控部件的工作原理与发展历程,并分析了其关键技术与研究现状。最后,对超洁净流控技术的发展做出了展望。
关键词
半导体
湿法制程
超洁净流控
磁悬浮泵
波纹管泵
隔膜阀
超声波流量传感器
Keywords
semiconductor
wet process
ultra-clean flow control
magnetic levitation pump
bellows pump
diaphragm valve
ultrasonic flow sensor
分类号
TH137 [机械工程—机械制造及自动化]
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出处
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被引量
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1
面向半导体湿法制程的超洁净流控技术综述
杨津宇
杨军
白晓蓉
任政钢
刘成卫
龚轩
胡亮
阮晓东
《液压与气动》
北大核心
2022
5
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