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活性屏等离子渗氮工艺中双重辉光放电下氮的输运机理
被引量：
1
1
作者
郑少梅
郝国祥
陈启
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期319-323,共5页
采用大尺寸铜质活性屏进行活性屏等离子渗氮处理,在距离活性屏不同位置处分别放置玻璃片,用来收集主电压和偏压同时存在时,即等离子空间处于双重辉光放电模式下阴极溅射产生的在渗氮过程中起到载体作用的纳米粒子。通过对粒子形貌、化...
采用大尺寸铜质活性屏进行活性屏等离子渗氮处理,在距离活性屏不同位置处分别放置玻璃片,用来收集主电压和偏压同时存在时,即等离子空间处于双重辉光放电模式下阴极溅射产生的在渗氮过程中起到载体作用的纳米粒子。通过对粒子形貌、化学成分进行分析,以此揭示双重辉光放电条件下活性屏离子氮化工艺中氮的输运机理。实验结果表明:主电压和偏压同时存在时,离活性屏距离不同的玻璃片上收集到的粒子形状和尺寸与只加主电压时有所不同;且随着离活性屏距离的改变,粒子的形状、尺寸及化学元素含量都不相同,但粒子中氮元素的含量都很高。分析认为这是因为双重辉光放电条件下,活性屏和工件都会产生阴极溅射,因此收集到的溅射粒子的来源不同,一部分来源于活性屏溅射,而另一部分来源于偏压引起工件表面产生的自溅射,对于距离活性屏较远的工件来说,施加在工作台上上的偏压是活性氮原子从气相输运到工件表面的关键。
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关键词
活性屏等离子
渗氮
双重辉光放电
偏压
输运机理
渗氮载体
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职称材料
题名
活性屏等离子渗氮工艺中双重辉光放电下氮的输运机理
被引量：
1
1
作者
郑少梅
郝国祥
陈启
机构
青岛理工大学机械工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期319-323,共5页
基金
国家自然科学基金项目(51307091)
文摘
采用大尺寸铜质活性屏进行活性屏等离子渗氮处理,在距离活性屏不同位置处分别放置玻璃片,用来收集主电压和偏压同时存在时,即等离子空间处于双重辉光放电模式下阴极溅射产生的在渗氮过程中起到载体作用的纳米粒子。通过对粒子形貌、化学成分进行分析,以此揭示双重辉光放电条件下活性屏离子氮化工艺中氮的输运机理。实验结果表明:主电压和偏压同时存在时,离活性屏距离不同的玻璃片上收集到的粒子形状和尺寸与只加主电压时有所不同;且随着离活性屏距离的改变,粒子的形状、尺寸及化学元素含量都不相同,但粒子中氮元素的含量都很高。分析认为这是因为双重辉光放电条件下,活性屏和工件都会产生阴极溅射,因此收集到的溅射粒子的来源不同,一部分来源于活性屏溅射,而另一部分来源于偏压引起工件表面产生的自溅射,对于距离活性屏较远的工件来说,施加在工作台上上的偏压是活性氮原子从气相输运到工件表面的关键。
关键词
活性屏等离子
渗氮
双重辉光放电
偏压
输运机理
渗氮载体
Keywords
Active screen plasma nitriding（ASPN）
Double glow discharge
Bias
Mass transferring mechanism
Nitriding carrier
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
O539 [理学—等离子体物理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
活性屏等离子渗氮工艺中双重辉光放电下氮的输运机理
郑少梅
郝国祥
陈启
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
1
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