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深亚微米器件Monte Carlo模拟的数学模型
被引量:
2
1
作者
赵平
魏同立
吴金
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
1999年第1期8-13,共6页
讨论了深亚微米半导体器件模拟的MonteCarlo方法(MCM),并简要阐述了玻耳兹曼模型(BTM)、漂移扩散模型(DDM)和流体动力学模型(HDM)之间的关系.
关键词
深亚微米器件
半导体
器件
蒙特卡罗模拟
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职称材料
深亚微米器件的诊断与特征分析变得越来越重要
2
作者
Itzik Goldberger
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第7期55-56,共2页
关键词
深亚微米器件
故障诊断
特征分析
芯片设计
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职称材料
深亚微米SOIMOS器件研究与设计
被引量:
2
3
作者
颜志英
张斌
张敏霞
《浙江工业大学学报》
CAS
2002年第4期348-351,共4页
利用自己设计的适合深亚微米SOIMOS器件模型及SPICE电路模拟程序 ,详细分析了小尺寸SOI器件的阈值电压、饱和漏电流、电导、跨导等与工艺参数的关系 ,通过大量的模拟、计算 ,我们提出了小尺寸FDSOIMOSFET的设计方案 ,并根据该方案研制...
利用自己设计的适合深亚微米SOIMOS器件模型及SPICE电路模拟程序 ,详细分析了小尺寸SOI器件的阈值电压、饱和漏电流、电导、跨导等与工艺参数的关系 ,通过大量的模拟、计算 ,我们提出了小尺寸FDSOIMOSFET的设计方案 ,并根据该方案研制出性能优良的沟道长度为 0 2
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关键词
SOIMOS
器件
模拟
设计
深亚微米器件
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职称材料
二维短沟道MOSFET阈值电压分析模型
被引量:
3
4
作者
李海霞
毛凌锋
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第3期254-257,共4页
随着器件尺寸的进一步减小,由量子效应导致的能带分裂对MOSFET中阈值电压特性的影响变得越来越重要。提出了一个包含量子效应(QME)的短沟道金属氧化物场效应晶体管(MOSFET)分析的阈值电压模型,该模型建立在求解包含量子校正的泊松方程...
随着器件尺寸的进一步减小,由量子效应导致的能带分裂对MOSFET中阈值电压特性的影响变得越来越重要。提出了一个包含量子效应(QME)的短沟道金属氧化物场效应晶体管(MOSFET)分析的阈值电压模型,该模型建立在求解包含量子校正的泊松方程的基础上。分析在泊松方程中考虑量子效应后建立的分析的阈值电压模型可知:随着器件尺寸的减小,由量子效应和短沟道效应引起的阈值电压的升高变得越来越严重。本模型的优点是没有引入额外的物理参数。
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关键词
深亚微米
半导体
器件
解析阈值电压模型
量子机制效应
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职称材料
题名
深亚微米器件Monte Carlo模拟的数学模型
被引量:
2
1
作者
赵平
魏同立
吴金
机构
东南大学微电子中心
出处
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
1999年第1期8-13,共6页
文摘
讨论了深亚微米半导体器件模拟的MonteCarlo方法(MCM),并简要阐述了玻耳兹曼模型(BTM)、漂移扩散模型(DDM)和流体动力学模型(HDM)之间的关系.
关键词
深亚微米器件
半导体
器件
蒙特卡罗模拟
Keywords
Monte Carlo method (MCM)
mathematical model
scattering
deep submicrometer device
分类号
TN302 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
深亚微米器件的诊断与特征分析变得越来越重要
2
作者
Itzik Goldberger
机构
科利登系统公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第7期55-56,共2页
关键词
深亚微米器件
故障诊断
特征分析
芯片设计
分类号
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
深亚微米SOIMOS器件研究与设计
被引量:
2
3
作者
颜志英
张斌
张敏霞
机构
浙江工业大学信息学院
出处
《浙江工业大学学报》
CAS
2002年第4期348-351,共4页
文摘
利用自己设计的适合深亚微米SOIMOS器件模型及SPICE电路模拟程序 ,详细分析了小尺寸SOI器件的阈值电压、饱和漏电流、电导、跨导等与工艺参数的关系 ,通过大量的模拟、计算 ,我们提出了小尺寸FDSOIMOSFET的设计方案 ,并根据该方案研制出性能优良的沟道长度为 0 2
关键词
SOIMOS
器件
模拟
设计
深亚微米器件
Keywords
SOIMOSFET
simulate
design
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
二维短沟道MOSFET阈值电压分析模型
被引量:
3
4
作者
李海霞
毛凌锋
机构
苏州大学电子信息学院
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第3期254-257,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(60606016)
文摘
随着器件尺寸的进一步减小,由量子效应导致的能带分裂对MOSFET中阈值电压特性的影响变得越来越重要。提出了一个包含量子效应(QME)的短沟道金属氧化物场效应晶体管(MOSFET)分析的阈值电压模型,该模型建立在求解包含量子校正的泊松方程的基础上。分析在泊松方程中考虑量子效应后建立的分析的阈值电压模型可知:随着器件尺寸的减小,由量子效应和短沟道效应引起的阈值电压的升高变得越来越严重。本模型的优点是没有引入额外的物理参数。
关键词
深亚微米
半导体
器件
解析阈值电压模型
量子机制效应
Keywords
sub-micron MOSFET
analytical threshold model
quantum mechanism effect
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
深亚微米器件Monte Carlo模拟的数学模型
赵平
魏同立
吴金
《东南大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
1999
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
深亚微米器件的诊断与特征分析变得越来越重要
Itzik Goldberger
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
深亚微米SOIMOS器件研究与设计
颜志英
张斌
张敏霞
《浙江工业大学学报》
CAS
2002
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
二维短沟道MOSFET阈值电压分析模型
李海霞
毛凌锋
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2009
3
在线阅读
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职称材料
已选择
0
条
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引证文献
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