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基于剪敏液晶涂层的光学摩阻测量技术研究 被引量:4
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作者 陈星 毕志献 +2 位作者 宫建 姚大鹏 文帅 《实验流体力学》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期70-74,共5页
剪切敏感液晶涂层具有对剪切应力敏感的光学特性,液晶涂层的显色不但与所受到的应力大小有关,而且与应力方向有关。在白色光垂直照射下,利用相机拍摄液晶涂层所反射的空间光谱图像,结合标定结果可以获得涂层受到的表面剪切应力矢量分布... 剪切敏感液晶涂层具有对剪切应力敏感的光学特性,液晶涂层的显色不但与所受到的应力大小有关,而且与应力方向有关。在白色光垂直照射下,利用相机拍摄液晶涂层所反射的空间光谱图像,结合标定结果可以获得涂层受到的表面剪切应力矢量分布。基于这样的理论,开展了液晶涂层光学摩阻测量技术研究,包括:液晶材料喷涂工艺研究,搭建相应的测量系统,液晶涂层标定方法研究,表面摩阻测量实验研究等。低速喷流实验定量测量了喷流-平板干扰区表面剪切应力矢量分布。Ma=5的高超声速风洞实验获得了尖前缘平板表面摩阻分布定量测量结果,以此判断了平板边界层的转捩。 展开更多
关键词 液晶涂层 剪切应力 表面摩阻 平板 高超声速
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