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全自动荧光粉涂覆工艺研究
被引量：
1
1
作者
刘杰
刘键
+3 位作者
冷兴龙
屈芙蓉
刘俊标
吴茹菲
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期288-291,共4页
自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,通过扫描电子显微镜研究真空搅拌除泡处理时间对涂覆质量的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层中有直径达140μm的气泡,且涂覆层厚度均匀性较差;经过20和40 s真...
自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,通过扫描电子显微镜研究真空搅拌除泡处理时间对涂覆质量的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层中有直径达140μm的气泡,且涂覆层厚度均匀性较差;经过20和40 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中气泡直径和数量都明显减少,涂覆层厚度均匀性也变好;经过60 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中无明显气泡,涂覆层厚度均匀性进一步提高至1μm。分别不通过真空搅拌除泡处理和通过60 s真空搅拌除泡处理实现LED器件涂覆,通过LED器件光学参数综合测试仪测试上述两类器件的发光特性,结果发现60 s真空搅拌除泡处理能明显降低LED器件色坐标的离散性。
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关键词
LED
荧光粉
涂覆
真空搅拌除泡
涂覆层厚度均匀性
LED发光特
性
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职称材料
题名
全自动荧光粉涂覆工艺研究
被引量：
1
1
作者
刘杰
刘键
冷兴龙
屈芙蓉
刘俊标
吴茹菲
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
中国科学院电工研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期288-291,共4页
基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目
广东省科学技术厅项目(00946220118632064)
文摘
自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,通过扫描电子显微镜研究真空搅拌除泡处理时间对涂覆质量的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层中有直径达140μm的气泡,且涂覆层厚度均匀性较差;经过20和40 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中气泡直径和数量都明显减少,涂覆层厚度均匀性也变好;经过60 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中无明显气泡,涂覆层厚度均匀性进一步提高至1μm。分别不通过真空搅拌除泡处理和通过60 s真空搅拌除泡处理实现LED器件涂覆,通过LED器件光学参数综合测试仪测试上述两类器件的发光特性,结果发现60 s真空搅拌除泡处理能明显降低LED器件色坐标的离散性。
关键词
LED
荧光粉
涂覆
真空搅拌除泡
涂覆层厚度均匀性
LED发光特
性
Keywords
LED
phosphor coating
bubble-removing
thickness uniformity of the phosphor coating
LED device luminescent properties
分类号
TN312.8 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
全自动荧光粉涂覆工艺研究
刘杰
刘键
冷兴龙
屈芙蓉
刘俊标
吴茹菲
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013
1
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