期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展
1
作者
王巍
叶甜春
+1 位作者
刘明
陈大鹏
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第12期1-4,共4页
先进过程控制(APC)是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,概述...
先进过程控制(APC)是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模型。最后,讨论了APC技术的发展趋势。
展开更多
关键词
等离子体刻蚀
先进过程
控制
实时
控制
流程与流程控制
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展
1
作者
王巍
叶甜春
刘明
陈大鹏
机构
重庆邮电学院光电工程系
中国科学院微电子研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第12期1-4,共4页
基金
国家自然科学基金项目资助(60236010)
文摘
先进过程控制(APC)是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模型。最后,讨论了APC技术的发展趋势。
关键词
等离子体刻蚀
先进过程
控制
实时
控制
流程与流程控制
Keywords
plasma etching
APC
real-time control
run-to-run control
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展
王巍
叶甜春
刘明
陈大鹏
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
