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多光束无掩模光刻系统
被引量：
3
1
作者
沈易
吴翌旭
+1 位作者
邢燕冰
周成刚
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期537-539,共3页
介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并...
介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并给出了多光束光刻的实验结果。实验表明:利用普通蓝紫光源和聚焦元件阵列可实现分辨率为400 nm的多光束并行光刻。
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关键词
无掩模
光刻
多光束
光刻
波带片阵列光刻
DMD
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职称材料
题名
多光束无掩模光刻系统
被引量：
3
1
作者
沈易
吴翌旭
邢燕冰
周成刚
机构
上海科学院集成电路制造装备研究中心
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期537-539,共3页
文摘
介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜(DMD)对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜阵列聚焦,利用聚焦点阵配合纳米移动平台进行扫描光刻。介绍了该无掩模光刻实验系统结构及工作原理,并给出了多光束光刻的实验结果。实验表明:利用普通蓝紫光源和聚焦元件阵列可实现分辨率为400 nm的多光束并行光刻。
关键词
无掩模
光刻
多光束
光刻
波带片阵列光刻
DMD
Keywords
maskless lithography
multi-beam lithography
zone-plate-array lithography
digital micro-mirror device
分类号
TN202 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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被引量
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1
多光束无掩模光刻系统
沈易
吴翌旭
邢燕冰
周成刚
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2010
3
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