期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
3
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态
被引量：
3
1
作者
卢洋藩
王君
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期46-50,共5页
采用X射线光电子能谱结合氩离子溅射对用作锂离子电池负极的Si/C多层膜进行了表面测试及深度剖析,获得了Si/C多层膜结构中不同深度位置的成分及化学状态。分析结果表明,Si/C多层膜中各层Si、C薄膜之间存在界面元素相互扩散,扩散至相邻...
采用X射线光电子能谱结合氩离子溅射对用作锂离子电池负极的Si/C多层膜进行了表面测试及深度剖析,获得了Si/C多层膜结构中不同深度位置的成分及化学状态。分析结果表明,Si/C多层膜中各层Si、C薄膜之间存在界面元素相互扩散,扩散至相邻层薄膜中的Si、C元素主要以化合物SiC形式存在,且处于不同位置的SiC的化学键能受周围环境影响有所差别;氩离子对Si的溅射速率大于对C的溅射速率,存在择优溅射。
展开更多
关键词
X射线光电子能谱
氩离子溅射
深度剖析
锂
离子
电池负极
在线阅读
下载PDF
职称材料
CeO_2乙苯脱氢催化剂的XRD、XPS研究
被引量：
6
2
作者
韩伟
林仁存
+1 位作者
谢兆雄
王水菊
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期701-704,共4页
利用XPS中的Ar+溅射技术,发现CeO2是一种Ce3+和Ce4+共存的混合价态氧化物,其表面Ce3+/Ce4+比是0.1.在乙苯脱氢条件下,CeO2催化剂表面存在如下动态平衡:CeO2■CeO2-x(0<x<0.3),CeO2和CeO2-x存在于同一晶体中,CaF2型晶体结构并没有...
利用XPS中的Ar+溅射技术,发现CeO2是一种Ce3+和Ce4+共存的混合价态氧化物,其表面Ce3+/Ce4+比是0.1.在乙苯脱氢条件下,CeO2催化剂表面存在如下动态平衡:CeO2■CeO2-x(0<x<0.3),CeO2和CeO2-x存在于同一晶体中,CaF2型晶体结构并没有发生改变.实验表明,稳定的苯乙烯收率与表面CeO2-CeO2-x稳定物相密切相关,乙苯催化脱氢的活性相可能是CeO2-CeO2-x.CeO2催化剂表面Ce3+/Ce4+比值下降,其副产物(苯和甲苯)含量随之减少,乙苯脱氢选择性随之提高.
展开更多
关键词
CEO2
乙苯脱氢
XPS
氩离子溅射
XRD
在线阅读
下载PDF
职称材料
Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
被引量：
2
3
作者
齐尚奎
余来贵
+1 位作者
吕晋军
杨生荣
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期47-50,共4页
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面...
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态 ,S/ Mo原子比同实验值之间亦存在差异 ,故应采用有关软件对实验结果进行修正 .
展开更多
关键词
氩离子溅射
择优刻蚀
XPS
AES
二硫化钼润滑膜
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态
被引量：
3
1
作者
卢洋藩
王君
机构
浙江大学材料科学与工程学院
兰州大学物理科学与技术学院
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期46-50,共5页
基金
浙江省基础公益研究计划资助项目(LGC19E020002)
浙江大学实验技术研究资助项目(Zdjg08002)。
文摘
采用X射线光电子能谱结合氩离子溅射对用作锂离子电池负极的Si/C多层膜进行了表面测试及深度剖析,获得了Si/C多层膜结构中不同深度位置的成分及化学状态。分析结果表明,Si/C多层膜中各层Si、C薄膜之间存在界面元素相互扩散,扩散至相邻层薄膜中的Si、C元素主要以化合物SiC形式存在,且处于不同位置的SiC的化学键能受周围环境影响有所差别;氩离子对Si的溅射速率大于对C的溅射速率,存在择优溅射。
关键词
X射线光电子能谱
氩离子溅射
深度剖析
锂
离子
电池负极
Keywords
X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)
Ar ion sputtering
Depth analysis
Lithium ion battery anode
分类号
TH838 [机械工程—精密仪器及机械]
TH842 [机械工程—精密仪器及机械]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
CeO_2乙苯脱氢催化剂的XRD、XPS研究
被引量：
6
2
作者
韩伟
林仁存
谢兆雄
王水菊
机构
厦门大学化学化工学院
固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期701-704,共4页
基金
厦门市创新基金(3502Z20031083)资助
文摘
利用XPS中的Ar+溅射技术,发现CeO2是一种Ce3+和Ce4+共存的混合价态氧化物,其表面Ce3+/Ce4+比是0.1.在乙苯脱氢条件下,CeO2催化剂表面存在如下动态平衡:CeO2■CeO2-x(0<x<0.3),CeO2和CeO2-x存在于同一晶体中,CaF2型晶体结构并没有发生改变.实验表明,稳定的苯乙烯收率与表面CeO2-CeO2-x稳定物相密切相关,乙苯催化脱氢的活性相可能是CeO2-CeO2-x.CeO2催化剂表面Ce3+/Ce4+比值下降,其副产物(苯和甲苯)含量随之减少,乙苯脱氢选择性随之提高.
关键词
CEO2
乙苯脱氢
XPS
氩离子溅射
XRD
Keywords
ceria ethylbenzene dehydrogenation XPS, Ar^＋ ion-beam etching XRD
分类号
O643.3 [理学—物理化学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
被引量：
2
3
作者
齐尚奎
余来贵
吕晋军
杨生荣
机构
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期47-50,共4页
文摘
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态 ,S/ Mo原子比同实验值之间亦存在差异 ,故应采用有关软件对实验结果进行修正 .
关键词
氩离子溅射
择优刻蚀
XPS
AES
二硫化钼润滑膜
Keywords
Argon
Coatings
Crystal structure
Etching
Ion beam lithography
Lubrication
Molybdenum compounds
X ray photoelectron spectroscopy
分类号
TE626.4 [石油与天然气工程—油气加工工程]
O614.612 [理学—无机化学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
XPS结合氩离子溅射剖析Si/C多层膜的化学状态
卢洋藩
王君
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2022
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
CeO_2乙苯脱氢催化剂的XRD、XPS研究
韩伟
林仁存
谢兆雄
王水菊
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2008
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
齐尚奎
余来贵
吕晋军
杨生荣
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
