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两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析
被引量：
14
1
作者
周平
黄昱勇
+3 位作者
林宇翔
李海峰
刘旭
顾培夫
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第8期985-988,共4页
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5...
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5 0nm附近的透过率可达 86%以上 ,消光系数约为 0 0 4 ,方电阻最低为 1 0 0Ω/□ .
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关键词
红外特性
ITO
薄膜
光学特性
磁控溅射
电子束加热蒸发
氧化锡铟薄膜
制备方法
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职称材料
题名
两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析
被引量：
14
1
作者
周平
黄昱勇
林宇翔
李海峰
刘旭
顾培夫
机构
浙江大学现代光学国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第8期985-988,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目 (编号 :6 9976 0 2 6 )
文摘
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟 (ITO)薄膜在红外波段的光学特性 实验发现 ,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小 ,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率 在波长 1 5 5 0nm附近的透过率可达 86%以上 ,消光系数约为 0 0 4 ,方电阻最低为 1 0 0Ω/□ .
关键词
红外特性
ITO
薄膜
光学特性
磁控溅射
电子束加热蒸发
氧化锡铟薄膜
制备方法
Keywords
ITO thin film
Optical properties
Magnetron sputtering
E beam evaporation
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
两种方法制备ITO薄膜的红外特性分析
周平
黄昱勇
林宇翔
李海峰
刘旭
顾培夫
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
14
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