期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
碳化硅零件氧化辅助抛光超精密加工的研究现状
被引量：
3
1
作者
沈新民
涂群章
+2 位作者
张晓南
殷勤
王东
《河北科技大学学报》
CAS
2016年第5期431-440,共10页
通过等离子体氧化、热氧化、电化学氧化在碳化硅基材上获得软质氧化层,利用软磨粒抛光实现氧化物的快速去除,有利于提高材料去除效率、提升加工表面质量。研究发现,通过等离子体氧化辅助抛光,表面粗糙度RMS和Ra分别达到0.626nm和0.480nm...
通过等离子体氧化、热氧化、电化学氧化在碳化硅基材上获得软质氧化层,利用软磨粒抛光实现氧化物的快速去除,有利于提高材料去除效率、提升加工表面质量。研究发现,通过等离子体氧化辅助抛光,表面粗糙度RMS和Ra分别达到0.626nm和0.480nm;通过热氧化辅助抛光,表面粗糙度RMS和Ra分别达到0.920nm和0.726nm;在电化学氧化中,基于Deal-Grove模型计算得到的氧化速度为5.3nm/s,电化学氧化辅助抛光后的表面粗糙度RMS和Ra分别是4.428nm和3.453nm。氧化辅助抛光有助于烧结碳化硅加工工艺水平的提升,促进碳化硅零件在光学、陶瓷等领域的应用。
展开更多
关键词
特种加工工艺
烧结碳化硅
氧化辅助抛光
表面粗糙度
材料去除效率
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
碳化硅零件氧化辅助抛光超精密加工的研究现状
被引量：
3
1
作者
沈新民
涂群章
张晓南
殷勤
王东
机构
解放军理工大学野战工程学院
出处
《河北科技大学学报》
CAS
2016年第5期431-440,共10页
基金
国家重点研发计划项目(2016YFC0802903)
国家自然科学基金(51505498)
江苏省自然科学基金(BK20150714)
文摘
通过等离子体氧化、热氧化、电化学氧化在碳化硅基材上获得软质氧化层,利用软磨粒抛光实现氧化物的快速去除,有利于提高材料去除效率、提升加工表面质量。研究发现,通过等离子体氧化辅助抛光,表面粗糙度RMS和Ra分别达到0.626nm和0.480nm;通过热氧化辅助抛光,表面粗糙度RMS和Ra分别达到0.920nm和0.726nm;在电化学氧化中,基于Deal-Grove模型计算得到的氧化速度为5.3nm/s,电化学氧化辅助抛光后的表面粗糙度RMS和Ra分别是4.428nm和3.453nm。氧化辅助抛光有助于烧结碳化硅加工工艺水平的提升,促进碳化硅零件在光学、陶瓷等领域的应用。
关键词
特种加工工艺
烧结碳化硅
氧化辅助抛光
表面粗糙度
材料去除效率
Keywords
non-traditional machining
RS-SiC
oxidation-assisted polishing
surface roughness
material removal rate
分类号
TH164 [机械工程—机械制造及自动化]
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
碳化硅零件氧化辅助抛光超精密加工的研究现状
沈新民
涂群章
张晓南
殷勤
王东
《河北科技大学学报》
CAS
2016
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
