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紫外光解法在制备低介电常数氧化硅分子筛薄膜中的应用被引量：3: 1; 作者袁昊李庆华 +3 位作者沙菲解丽丽田震王利军《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1219-1223,共5页; 以正硅酸乙酯为硅源,四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂和碱源,采取水热晶化技术,通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜;采用紫外光解法代替传统高温焙烧法脱除分子筛薄膜孔道内的模板剂,制备出具有低介电常数的氧化硅分... 展开更多; 关键词紫外光解法高温焙烧法氧化硅分子筛薄膜低介电常数; 在线阅读下载PDF 职称材料

低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征: 2; 作者袁昊解丽丽 +1 位作者田震王利军《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期110-113,共4页; 介绍了一种制备具有低介电常数氧化硅分子筛薄膜的新方法。以正硅酸乙酯为硅源,四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂和碱源,采取水热晶化技术,通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜;采用紫外光解法脱除分子筛薄膜孔道内的... 展开更多; 关键词紫外光解法有机模板剂氧化硅分子筛薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

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