期刊文献+
共找到5篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
基于58%DKDP晶体的宽带时间低相干光参量放大研究
1
作者 许皓 赵晓晖 +8 位作者 王韬 张天雄 贺瑞敬 刘栋 季来林 冯伟 崔勇 高妍琦 隋展 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第8期12-20,共9页
低相干激光驱动器作为新型激光驱动器可抑制激光等离子体不稳定性,在激光惯性约束聚变领域具有重要研究价值。为实现大带宽高功率低相干脉冲参量放大,详细分析了I类共线匹配方式下不同氘化率的DKDP晶体参量匹配特性,给出了相位匹配角、... 低相干激光驱动器作为新型激光驱动器可抑制激光等离子体不稳定性,在激光惯性约束聚变领域具有重要研究价值。为实现大带宽高功率低相干脉冲参量放大,详细分析了I类共线匹配方式下不同氘化率的DKDP晶体参量匹配特性,给出了相位匹配角、走离角、参量带宽等基本匹配参数,得到掺氘量58%DKDP晶体的理论支持参量带宽约为180 nm。在此基础上,基于掺氘量58%的DKDP晶体进行了宽带时间低相干光参量放大设计,结合三波耦合方程组建立了参量放大的理论模型以及相应的数值分析模型。同时开展了58%DKDP晶体参量放大实验,宽带低相干信号光中心波长为1 053 nm,泵浦光波长为532 nm,在2.1倍的增益倍率前提下光谱宽度为40 nm。结果显示,58%DKDP晶体具有很大的增益带宽,结合共线相位匹配方式,有望实现低相干光大带宽高增益放大。 展开更多
关键词 光参量放大 共线相位匹配 宽带时间低相干光 氘化磷酸二氢钾 非线性光学
在线阅读 下载PDF
KDP\DKDP倍频晶体吸收系数的斜入射测量 被引量:1
2
作者 高波 杨斌 +3 位作者 李强 姜昌录 黎高平 柴立群 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期3041-3047,共7页
考虑惯性约束聚变系统中的磷酸二氢钾/磷酸二氘钾(KDP\DKDP)的吸收系数直接影响系统的转换效率及最终输出能量,本文研究了KDP\DKDP倍频晶体吸收系数的测量方法。提出了新的基于朗伯定律的倍频晶体吸收系数斜入射测量法。建立了斜入射状... 考虑惯性约束聚变系统中的磷酸二氢钾/磷酸二氘钾(KDP\DKDP)的吸收系数直接影响系统的转换效率及最终输出能量,本文研究了KDP\DKDP倍频晶体吸收系数的测量方法。提出了新的基于朗伯定律的倍频晶体吸收系数斜入射测量法。建立了斜入射状态下入射光偏振态与晶体o光和e光的关系模型,推导了小角度入射下晶体e光折射率的迭代计算方法。采用该方法计算了晶体的e光折射率,通过测量得到的数据间接计算出了KDP\DKDP倍频晶体吸收系数。详细分析了该方法在测量过程中的各项误差来源,得出该方法测量误差优于0.000 2cm^(-1)。最后,对一块40mm×40mm×60mm的开关晶体元件进行测试并与分光光度法比对以验证提出方法的可行性,结果显示两种测量方法的偏差小于0.000 2cm^(-1),表明该方法可用于惯性约束聚变系统中倍频晶体吸收系数的测量。 展开更多
关键词 磷酸二氢钾/磷酸二氘钾(KDP/dkdp)倍频晶体 吸收系数测量 斜入射 比尔朗伯原理
在线阅读 下载PDF
激光预处理提升DKDP晶体加工表面的抗损伤能力 被引量:5
3
作者 罗阳 胡国行 +4 位作者 赵元安 杨留江 曹珍 李大伟 刘晓凤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期1987-1994,共8页
针对晶体表面的损伤特性,采用小光斑扫描激光预处理技术预辐照DKDP晶体元件,并采用表面损伤自动探测系统实时分析每个脉冲辐照后晶体表面的损伤情况,比较预处理和未预处理区域的损伤点密度确定表面预处理效果,并进一步模拟分析表面各类... 针对晶体表面的损伤特性,采用小光斑扫描激光预处理技术预辐照DKDP晶体元件,并采用表面损伤自动探测系统实时分析每个脉冲辐照后晶体表面的损伤情况,比较预处理和未预处理区域的损伤点密度确定表面预处理效果,并进一步模拟分析表面各类缺陷在纳秒强激光辐照下的动态过程,解释激光预处理对精抛表面提升作用的微观机制并分析它对粗抛表面提升不明显的原因。实验结果表明,激光预处理技术对粗抛表面的提升作用并不明显,但是可以大幅度抑制精抛表面的损伤点密度。在本文的实验条件下,晶体表面的抗激光损伤能力可以提升约60%。比较体材料和精抛表面的预处理效果发现:当体材料的抗破坏能力通过预处理提升后,精抛表面的抗激光损伤能力也会提升,由此可见精抛表面的激光预处理效果与体材料性能相关。 展开更多
关键词 激光损伤 激光预处理 损伤阈值 预处理效果 氘化磷酸二氢钾(dkdp)
在线阅读 下载PDF
KDP和DKDP溶液扩散率的全息研究
4
作者 于锡玲 岳学锋 《人工晶体学报》 CSCD 1991年第3期286-286,共1页
氘代替KDP中同位素氢之后,不仅改变了该晶体的性质,而且改变了其生长过程。就质量输运的扩散过程而言,氘化程度不同,其扩散率明显不同。本文采用激光全息术,在全息图上引入参考纹系,较准确方便地测定了KDP-H_(2)O和DKDP-D_(2)O体系的扩... 氘代替KDP中同位素氢之后,不仅改变了该晶体的性质,而且改变了其生长过程。就质量输运的扩散过程而言,氘化程度不同,其扩散率明显不同。本文采用激光全息术,在全息图上引入参考纹系,较准确方便地测定了KDP-H_(2)O和DKDP-D_(2)O体系的扩散率D,较详细地研究了体系不同浓度和浓度差、温度以及不同氘化程度对扩散率的影响。 展开更多
关键词 温度 dkdp 浓度 氘化程度 激光全息术 扩散率
在线阅读 下载PDF
激光预处理技术及其应用 被引量:15
5
作者 赵元安 胡国行 +4 位作者 刘晓凤 李大伟 朱美萍 易葵 邵建达 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2938-2947,共10页
回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负... 回顾了国内在激光预处理技术研究方面取得的进展。综述了基于激光预处理技术提升基频介质膜、磷酸二氢钾/高掺氘磷酸二氢钾(KDP/DKDP)晶体等光学元件抗激光损伤性能的机理、效果和关键技术。针对高功率激光驱动器中关键光学元件激光负载能力的提高,建立了大口径光学元件激光预处理平台,实现了基频介质膜元件的激光预处理工程化作业。比较了纳秒和亚纳秒脉冲宽度激光对DKDP晶体损伤性能的影响。基于亚纳秒激光预处理后,纳秒激光辐照至14.4J/cm2(5ns)尚未出现"本征"损伤的实验结果,提出了用于DKDP晶体的亚纳秒激光预处理方案,并指出亚纳秒激光预处理技术将成为高功率激光三倍频晶体抗激光损伤性能达标的关键技术。 展开更多
关键词 激光预处理 激光与物质相互作用 高功率激光 激光损伤阈值 介质膜 磷酸二氢钾(KDP)晶体 高掺氘磷酸二氢钾(dkdp)晶体
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部