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VAD法制备大尺寸芯棒的研究
被引量：
1
1
作者
王兵钦
王樯
+4 位作者
何炳
蒋锡华
尹中南
梁伟
崔德运
《光通信技术》
北大核心
2020年第10期47-52,共6页
为了提高芯棒尺寸并同时保持理想的沉积效率和合格的光学参数,采用气相轴向沉积法对影响芯棒尺寸的主要因素进行研究,优化沉积喷灯数量、包灯SiCl4流量和soot体提升速率。实验结果表明:三喷灯沉积工艺中,增加第一、第二包灯SiCl4原料流...
为了提高芯棒尺寸并同时保持理想的沉积效率和合格的光学参数,采用气相轴向沉积法对影响芯棒尺寸的主要因素进行研究,优化沉积喷灯数量、包灯SiCl4流量和soot体提升速率。实验结果表明:三喷灯沉积工艺中,增加第一、第二包灯SiCl4原料流量至4.0 slm、5.0 slm且降低提升速率至85 mm/h时,沉积速率显著提高至15.8 g/min,soot体密度增大至0.319 g/cm^3,芯棒尺寸增大至99.1 mm,同时兼顾沉积效率至52.2%,并保持良好的G.652D单模光纤折射率剖面。
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关键词
气相轴向沉积法
大尺寸芯棒
喷灯数量
SiCl4流量
提升速率
沉积
效率
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职称材料
基于VAD法制备的低水峰G.657.B3光纤设计与性能研究
被引量：
1
2
作者
吴椿烽
陈京京
+2 位作者
钱宜刚
陈娅丽
沈一春
《光通信技术》
2021年第6期43-47,共5页
为了研究G.657.B3光纤的折射率剖面结构对光学性能的影响,通过设计凹陷沟槽结构的折射率剖面和相应剖面参数(ba值、c、Δnc-和Δn+),并以适宜的气相轴向沉积(VAD)法工艺、熔融技术以及拉丝条件改善光纤的弯曲损耗,满足光纤传输所需的截...
为了研究G.657.B3光纤的折射率剖面结构对光学性能的影响,通过设计凹陷沟槽结构的折射率剖面和相应剖面参数(ba值、c、Δnc-和Δn+),并以适宜的气相轴向沉积(VAD)法工艺、熔融技术以及拉丝条件改善光纤的弯曲损耗,满足光纤传输所需的截止波长、模场直径和低水峰的要求。将工艺优化后所制备的光纤预制棒进行拉丝与测试,结果表明:光纤在1383 nm波长处水峰值降低至0.278 dB/km;在1550 nm、1625 nm波长处,弯曲半径为5 mm绕1圈时的宏弯典型值分别是0.081 dB、0.188 dB,完全满足ITU-T G.657.B3的指标需求。
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关键词
气相轴向沉积法
光纤
折射率剖面
弯曲损耗
截止波长
羟基(OH-)
高斯分布
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职称材料
利用VAD工艺制造G.657.A2光纤的研究
被引量：
1
3
作者
秦钰
沈一春
钱宜刚
《光通信技术》
北大核心
2019年第10期16-21,共6页
近年来,G.657.A2光纤已成为高性能接入网广泛使用的光纤。为了实现其优质、高效的批量制造,介绍了利用气相轴向沉积法(VAD)制造G.657.A2光纤的工艺方法,通过优化波导结构设计和制造工艺参数,改善了VAD光纤制造工艺制造G.657.A2芯棒时出...
近年来,G.657.A2光纤已成为高性能接入网广泛使用的光纤。为了实现其优质、高效的批量制造,介绍了利用气相轴向沉积法(VAD)制造G.657.A2光纤的工艺方法,通过优化波导结构设计和制造工艺参数,改善了VAD光纤制造工艺制造G.657.A2芯棒时出现的波导结构和宏弯损耗性能不够稳定的缺点。通过对光纤的宏弯损耗性能进行理论分析,结合VAD光纤制造工艺的工艺特点,确立了光纤的波导结构设计;再对用VAD工艺制造下凹包层波导结构进行研究,通过实验对比明确了具有优越宏弯损耗性能的光纤包层沉积工艺参数。对所研制的G.657.A2光纤进行了测试,结果表明VAD光纤制造工艺的产品性能好且生产效益高,是一种值得推广的G.657.A2弯曲损耗不敏感光纤的制造方法。
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关键词
气相轴向沉积法
G.657.A2
宏弯损耗
波导结构
掺氟
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职称材料
题名
VAD法制备大尺寸芯棒的研究
被引量：
1
1
作者
王兵钦
王樯
何炳
蒋锡华
尹中南
梁伟
崔德运
机构
江苏通鼎光棒有限公司
出处
《光通信技术》
北大核心
2020年第10期47-52,共6页
基金
江苏省苏州市科技发展计划(重点产业技术创新)项目(SGC201950)资助。
文摘
为了提高芯棒尺寸并同时保持理想的沉积效率和合格的光学参数,采用气相轴向沉积法对影响芯棒尺寸的主要因素进行研究,优化沉积喷灯数量、包灯SiCl4流量和soot体提升速率。实验结果表明:三喷灯沉积工艺中,增加第一、第二包灯SiCl4原料流量至4.0 slm、5.0 slm且降低提升速率至85 mm/h时,沉积速率显著提高至15.8 g/min,soot体密度增大至0.319 g/cm^3,芯棒尺寸增大至99.1 mm,同时兼顾沉积效率至52.2%,并保持良好的G.652D单模光纤折射率剖面。
关键词
气相轴向沉积法
大尺寸芯棒
喷灯数量
SiCl4流量
提升速率
沉积
效率
Keywords
vapor phase axial deposition method
large size core rod
number of deposition blowtorch
SiCl4 flow rate
lifting rate
deposition efficiency
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
基于VAD法制备的低水峰G.657.B3光纤设计与性能研究
被引量：
1
2
作者
吴椿烽
陈京京
钱宜刚
陈娅丽
沈一春
机构
中天科技精密材料有限公司
出处
《光通信技术》
2021年第6期43-47,共5页
文摘
为了研究G.657.B3光纤的折射率剖面结构对光学性能的影响,通过设计凹陷沟槽结构的折射率剖面和相应剖面参数(ba值、c、Δnc-和Δn+),并以适宜的气相轴向沉积(VAD)法工艺、熔融技术以及拉丝条件改善光纤的弯曲损耗,满足光纤传输所需的截止波长、模场直径和低水峰的要求。将工艺优化后所制备的光纤预制棒进行拉丝与测试,结果表明:光纤在1383 nm波长处水峰值降低至0.278 dB/km;在1550 nm、1625 nm波长处,弯曲半径为5 mm绕1圈时的宏弯典型值分别是0.081 dB、0.188 dB,完全满足ITU-T G.657.B3的指标需求。
关键词
气相轴向沉积法
光纤
折射率剖面
弯曲损耗
截止波长
羟基(OH-)
高斯分布
Keywords
vapor phase axial deposition process
optical fiber
refractive index profile
bending loss
cut-off wavelength
hydroxyl group(OH-)
Gaussian distribution
分类号
TN929.11 [电子电信—通信与信息系统]
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职称材料
题名
利用VAD工艺制造G.657.A2光纤的研究
被引量：
1
3
作者
秦钰
沈一春
钱宜刚
机构
中天科技精密材料有限公司
出处
《光通信技术》
北大核心
2019年第10期16-21,共6页
文摘
近年来,G.657.A2光纤已成为高性能接入网广泛使用的光纤。为了实现其优质、高效的批量制造,介绍了利用气相轴向沉积法(VAD)制造G.657.A2光纤的工艺方法,通过优化波导结构设计和制造工艺参数,改善了VAD光纤制造工艺制造G.657.A2芯棒时出现的波导结构和宏弯损耗性能不够稳定的缺点。通过对光纤的宏弯损耗性能进行理论分析,结合VAD光纤制造工艺的工艺特点,确立了光纤的波导结构设计;再对用VAD工艺制造下凹包层波导结构进行研究,通过实验对比明确了具有优越宏弯损耗性能的光纤包层沉积工艺参数。对所研制的G.657.A2光纤进行了测试,结果表明VAD光纤制造工艺的产品性能好且生产效益高,是一种值得推广的G.657.A2弯曲损耗不敏感光纤的制造方法。
关键词
气相轴向沉积法
G.657.A2
宏弯损耗
波导结构
掺氟
Keywords
vapor axial deposition
G.657.A2
macro-bending loss
waveguide structure
fluorine-doping
分类号
TN914 [电子电信—通信与信息系统]
在线阅读
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
VAD法制备大尺寸芯棒的研究
王兵钦
王樯
何炳
蒋锡华
尹中南
梁伟
崔德运
《光通信技术》
北大核心
2020
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
基于VAD法制备的低水峰G.657.B3光纤设计与性能研究
吴椿烽
陈京京
钱宜刚
陈娅丽
沈一春
《光通信技术》
2021
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
利用VAD工艺制造G.657.A2光纤的研究
秦钰
沈一春
钱宜刚
《光通信技术》
北大核心
2019
1
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职称材料
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