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气水分界面稳定运动的渗流力学条件研究 被引量:8
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作者 李晓平 杨桦 《钻采工艺》 CAS 2001年第3期39-40,共2页
水驱气藏气水界面的稳定运动及均匀推进 ,对于气井稳定正常生产 ,提高气藏采收率有较大的影响。文中考虑具有一定倾角的均质各向同性的边水气藏 ,在原始气水界面为一水平面的情况下 ,利用气、水地层渗流的基本规律 ,从理论上详细推导了... 水驱气藏气水界面的稳定运动及均匀推进 ,对于气井稳定正常生产 ,提高气藏采收率有较大的影响。文中考虑具有一定倾角的均质各向同性的边水气藏 ,在原始气水界面为一水平面的情况下 ,利用气、水地层渗流的基本规律 ,从理论上详细推导了保持气水分界面稳定运动的气体渗流速度应满足的条件 。 展开更多
关键词 气水分界面 水驱 稳定运动 渗流速度 渗流力学条件
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