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化学镀Ni-Cu-P合金工艺及性能研究 被引量:3
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作者 徐瑞东 郭忠诚 +1 位作者 王军丽 薛方勤 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期45-47,共3页
 研究了化学镀Ni Cu P合金镀液组成及操作条件对镀层厚度及硬度的影响。筛选出了体系的最佳工艺条件,获得了82.391%Ni 10.298%P 5.297%Cu的合金镀层,其硬度在450~500HV之间。X射线衍射表明:Ni Cu P合金镀层在镀态下为非晶态结构,但镀...  研究了化学镀Ni Cu P合金镀液组成及操作条件对镀层厚度及硬度的影响。筛选出了体系的最佳工艺条件,获得了82.391%Ni 10.298%P 5.297%Cu的合金镀层,其硬度在450~500HV之间。X射线衍射表明:Ni Cu P合金镀层在镀态下为非晶态结构,但镀层经400℃和600℃热处理后,其结晶区域有Ni3P、Cu3P等特征的衍射峰出现,表明镀层为晶态结构。此外,研究表明:镀层厚度随硫酸镍浓度、次亚磷酸钠浓度、镀液温度及pH值的升高而增加,随硫酸铜浓度、络合剂浓度的升高而降低。 展开更多
关键词 化学镀 Ni-Cu-P合金镀层 镀层厚度 硬度 晶态结构 残磁性能
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