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微通道板次级电子发射层中各元素随深度的分布
被引量：
2
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作者
韦亚一
陶兆民
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1991年第6期384-387,共4页
本文应用XPS研究微通道板次级电子发射层中各元素浓度随深度的分布,以及不同烧氢还原温度对此分布的影响,并讨论了不同烧氢还原温度对次级电子发射性能的影响,在此基础上提出了改进微通道板性能的几个途径。
关键词
微通道板
XPS(X光
电子
能谱)
烧氢还原
元素深度分布
次级电子发射体
在线阅读
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职称材料
题名
微通道板次级电子发射层中各元素随深度的分布
被引量：
2
1
作者
韦亚一
陶兆民
机构
中国科学院电子学研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1991年第6期384-387,共4页
文摘
本文应用XPS研究微通道板次级电子发射层中各元素浓度随深度的分布,以及不同烧氢还原温度对此分布的影响,并讨论了不同烧氢还原温度对次级电子发射性能的影响,在此基础上提出了改进微通道板性能的几个途径。
关键词
微通道板
XPS(X光
电子
能谱)
烧氢还原
元素深度分布
次级电子发射体
Keywords
Micro-channel Plate(MCP)
XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)
reduced by hydrogen
elemental depth-distribution
secondary electron emitter.
分类号
TB7-55 [一般工业技术—真空技术]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微通道板次级电子发射层中各元素随深度的分布
韦亚一
陶兆民
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
1991
2
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