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北京正负电子对撞机次级束模拟质子单粒子效应分析 被引量:3
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作者 贺朝会 李国政 刘恩科 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期175-181,共7页
首次从利用高能电子打靶产生的质子进行半导体器件的单粒子效应(SEE)实验研究的角度分析了北京正负电子对撞机(BEPC)次级束中的质子的能量范围和产额,计算了3种途径下高能电子打靶产生的质子的能量范围,估算了反应截面。... 首次从利用高能电子打靶产生的质子进行半导体器件的单粒子效应(SEE)实验研究的角度分析了北京正负电子对撞机(BEPC)次级束中的质子的能量范围和产额,计算了3种途径下高能电子打靶产生的质子的能量范围,估算了反应截面。研究表明:选取重核做靶可以不同程度地提高质子产生截面,质子的微分产额(d2YdEdΩ)可达1.66×10-3s-1·sr-1·eV-1。可以用BEPC次级束中的质子做翻转截面比较大(σ=10-8cm2)的半导体器件的单粒子效应实验研究。 展开更多
关键词 质子 单粒子效应 正负电子对撞机 次级束模拟
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