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椭圆偏振光谱法对固体和液体界面上抗原抗体反应动力学的研究 被引量:3
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作者 叶芝祥 黄宗卿 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第6期18-21,共4页
用气相沉积法将N-β(氨乙基)γ-氨丙基三甲氧基硅烷沉积在单晶硅表面,并用戊二醛将正常兔IgG抗原固定在硅烷化后的单晶硅表面上。然后用椭圆偏振光谱法对固~液界面上的正常兔IgG抗原与羊-抗兔抗体反应动力学特征进行了研... 用气相沉积法将N-β(氨乙基)γ-氨丙基三甲氧基硅烷沉积在单晶硅表面,并用戊二醛将正常兔IgG抗原固定在硅烷化后的单晶硅表面上。然后用椭圆偏振光谱法对固~液界面上的正常兔IgG抗原与羊-抗兔抗体反应动力学特征进行了研究。结果表明该反应最初受扩散控制,扩散系数为4.685×10-5cm2/s,后来由于空间位阻影响,反应不受扩散控制,此时反应速率与抗体浓度成线性关系,反应速度常数为6.19×10-3S-1。 展开更多
关键词 椭圆偏振光谱法 抗原 抗体 反应动力学
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基于椭圆偏振光谱线法研究温度对NiMn_(2)O_(4)薄膜光电性能的影响
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作者 胡轶 李子建 刘磊 《材料科学与工程学报》 北大核心 2025年第3期486-492,共7页
采用磁控溅射法在Si(100)衬底上制备NiMn_(2)O_(4)薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜对薄膜微观结构和表面粗糙度进行表征,采用椭圆偏振光谱法,在300~850 nm波段内研究NiMn_(2)O_(4)薄膜。考察20~220℃温度下薄膜的... 采用磁控溅射法在Si(100)衬底上制备NiMn_(2)O_(4)薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜对薄膜微观结构和表面粗糙度进行表征,采用椭圆偏振光谱法,在300~850 nm波段内研究NiMn_(2)O_(4)薄膜。考察20~220℃温度下薄膜的光学特性,采用Tauc-Lorentz色散函数研究NiMn_(2)O_(4)薄膜的折射率、消光系数以及材料光学特性随温度的变化规律,并通过复介电函数虚部同变温XPS进一步证明,温度引起NiMn_(2)O_(4)薄膜材料光学特性变化的原因是源于材料内部Mn^(3+)/Mn^(4+)浓度比的变化。 展开更多
关键词 椭圆偏振光谱法 NiMn_(2)O_(4)薄膜 Tauc-Lorentz色散函数
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镍基彩色电沉积Cu_2O椭圆偏振光谱研究 被引量:1
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作者 封雪松 雷惊雷 +5 位作者 陈爱祥 阴宛珊 李凌杰 郑莎 赵辉 潘少彦 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期310-314,共5页
应用电化学方法在Ni基底上沉积Cu2O彩色膜层以期提高装饰效果.X光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)测试表明,膜层由Cu2O组成,沉积层光滑平整,且Cu2O层均匀覆盖Ni基底.椭圆偏振光谱表征不同沉积时间的膜层,提出膜层... 应用电化学方法在Ni基底上沉积Cu2O彩色膜层以期提高装饰效果.X光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)测试表明,膜层由Cu2O组成,沉积层光滑平整,且Cu2O层均匀覆盖Ni基底.椭圆偏振光谱表征不同沉积时间的膜层,提出膜层内存在由Ni逐渐变为Cu2O的过渡层,建立"空气—Cu2O层—过渡层—Ni基底"4层膜模型,并借助梯度有效介质近似解析椭圆偏振光谱,得到不同沉积时间的膜层厚度以及厚度随时间线性增长关系. 展开更多
关键词 表面处理 彩色电沉积 CU2O 椭圆偏振光谱法 有效介质近似
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铅在铜上电沉积的原位椭圆偏振法
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作者 王艳茹 李文坡 +1 位作者 吴进芳 张胜涛 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期55-59,共5页
采用循环伏安法(CV)和原位椭圆偏振法(SE)研究铅在铜电极上的电沉积行为。原位椭圆偏振参数Ψ和Δ值的变化率在CV图峰电位处同时出现极值。通过建立单层膜模型描述"电极-溶液"界面的结构并对椭圆偏振光谱数据进行拟合得到铅... 采用循环伏安法(CV)和原位椭圆偏振法(SE)研究铅在铜电极上的电沉积行为。原位椭圆偏振参数Ψ和Δ值的变化率在CV图峰电位处同时出现极值。通过建立单层膜模型描述"电极-溶液"界面的结构并对椭圆偏振光谱数据进行拟合得到铅沉积层厚度随电位的变化规律。拟合结果显示,铅在铜电极上的电沉积有3个不同的沉积速率,-0.20~-0.35V之间沉积速率为0.003nm/mV,-0.35~-0.48V之间沉积速率为0.025nm/mV,-0.48~-0.60V之间沉积速率为0.116nm/mV,由此表明铅的电沉积分为3个不同阶段:欠电位沉积阶段、欠电位沉积向本体沉积的过渡阶段和本体沉积阶段。 展开更多
关键词 原位椭圆偏振光谱法 铅电沉积
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单纯形法计算薄膜常数 被引量:2
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作者 叶芝祥 谢上芬 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第4期15-19,共5页
本文首次报道了用单纯形加速法计算正常兔IgG抗原与羊-抗兔抗体反应的抗体层厚度和光学常数,该方法假定抗体层厚度、光学常数均为时间的函数,避免了以往只假定厚度为时间函数所造成的误差。结果表明该方法计算抗体层薄膜常数是可... 本文首次报道了用单纯形加速法计算正常兔IgG抗原与羊-抗兔抗体反应的抗体层厚度和光学常数,该方法假定抗体层厚度、光学常数均为时间的函数,避免了以往只假定厚度为时间函数所造成的误差。结果表明该方法计算抗体层薄膜常数是可行的。 展开更多
关键词 椭圆偏振光谱法 单纯形 薄膜常数
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缓蚀阻垢机理研究中的新技术 被引量:2
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作者 夏笑虹 李国希 +1 位作者 喻献国 旷亚非 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期25-28,共4页
介绍了微分极化曲线法、椭圆偏振光谱法、表面增强拉曼光谱法以及自旋标记的电子自旋共振技术在研究吸附型缓蚀剂、阻垢剂的作用机理中的应用。
关键词 缓蚀剂 缓蚀阻垢 吸附 微分极化曲线 椭圆偏振光谱法 表面增强拉曼光 自旋标记 电子自旋共振
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掺钕硼酸锂激光玻璃的光学吸收特性 被引量:1
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作者 马跃进 连洁 +1 位作者 于晓红 王公堂 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期522-524,575,共4页
掺杂稀土元素的激光玻璃由于本身的优点广泛应用于核聚变、高功率激光放大器和光纤激光器等领域。利用椭偏仪和TU-1901紫外可见分光光度计分别对掺钕硼酸锂的折射率、透射和反射等光学性质进行了研究,进而得到掺钕硼酸锂玻璃的折射率、... 掺杂稀土元素的激光玻璃由于本身的优点广泛应用于核聚变、高功率激光放大器和光纤激光器等领域。利用椭偏仪和TU-1901紫外可见分光光度计分别对掺钕硼酸锂的折射率、透射和反射等光学性质进行了研究,进而得到掺钕硼酸锂玻璃的折射率、透射光谱、反射光谱、吸收光谱,并对其进行了分析。发现材料在632.8nm波长处折射率为1.684,消光系数为0.056;吸收光谱主要有4个吸收峰,在可见光范围内吸收峰与Nd∶YAG的主要吸收峰大致相同,吸收截面分别为1.45×10-20cm2、1.98×10-20cm2、1.92×10-20cm2、1.94×10-20cm2。 展开更多
关键词 掺钕硼酸锂玻璃 椭圆偏振光谱法 折射率 吸收光
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多层Ge纳米晶镶嵌Si基薄膜制备与光学特性
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作者 刘晓静 高斐 +4 位作者 赵卓斋 孙文超 张君善 宋美周 李宁 《陕西师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期23-26,共4页
采用超晶格方法,利用射频磁控共溅射及在N2气氛中退火技术,制备了多层Ge纳米晶(Ge-ncs)镶嵌Si基复合薄膜(Ge-ncs+SiO2/GeO2).同时采用椭圆偏振光谱法,研究了Ge-ncs的光学性质,并用sp3紧束缚理论模式,解释了Ge-ncs带隙宽化现象.结果表明... 采用超晶格方法,利用射频磁控共溅射及在N2气氛中退火技术,制备了多层Ge纳米晶(Ge-ncs)镶嵌Si基复合薄膜(Ge-ncs+SiO2/GeO2).同时采用椭圆偏振光谱法,研究了Ge-ncs的光学性质,并用sp3紧束缚理论模式,解释了Ge-ncs带隙宽化现象.结果表明:用超晶格方法制备的多层Ge-ncs具有密度高、尺寸和位置分布均匀的优点,纳米晶平均尺寸为9.8nm.复合薄膜(Ge-ncs+SiO2/GeO2)具有正常色散的特性,且在1 340nm处具有较强烈的吸收特性;Ge-ncs的光学带隙为0.82eV,与块体Ge材料相比,Ge-ncs吸收谱显示出0.16eV的带隙宽化.这种现象主要是由Ge-ncs中的量子限制效应导致的,采用sp3紧束缚理论模式可得到很好解释. 展开更多
关键词 多层Ge纳米晶 磁控溅射 椭圆偏振光谱法 光学特性 量子限域效应
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硼掺杂四面体非晶碳薄膜的光学特性研究
9
作者 桂全宏 骆琳 +4 位作者 汪桂根 张化宇 韩杰才 李厚训 严帅 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期109-112,共4页
采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同硼含量的掺杂四面体非晶碳薄膜(ta-C:B)。使用椭偏仪和紫外-可见光分度计测试了薄膜的折射率、消光系数、透过率和反射率。结果表明,硼含量小于2.13%时,硼含量增加,薄膜折射率缓慢增大;消光系数基本... 采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同硼含量的掺杂四面体非晶碳薄膜(ta-C:B)。使用椭偏仪和紫外-可见光分度计测试了薄膜的折射率、消光系数、透过率和反射率。结果表明,硼含量小于2.13%时,硼含量增加,薄膜折射率缓慢增大;消光系数基本保持不变。当硼含量继续增加到3.51%和6.04%时,折射率分别迅速增加至2.65和2.71,相应的消光系数增大至0.092和0.154;而薄膜的光学带隙从2.29eV缓慢减小至1.97eV,后又迅速降至1.27eV。同时ta-C:B膜的透过率逐渐减小,反射率逐渐增大,表明硼的掺入降低了薄膜的透光性能。ta-C:B膜光学性能的变化,除了与sp3杂化碳的含量有关外,还取决于薄膜中sp2杂化碳的空间分布特点。 展开更多
关键词 薄膜 硼掺杂四面体非晶碳膜 椭圆偏振光谱法 光学特性
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