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萘基桥联有机-无机杂化介孔材料的合成及其光学性质(英文) 被引量：2
1
作者 崔小燕 韩书华 +3 位作者 孙元元 王莎莎 邱晓勇 高萌 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第3期639-645,共7页
以短链阳离子三聚表面活性剂[C10H21N+(CH3)2(CH2)2N+(CH3)(C10H21)(CH2)2N+(CH3)2C10H21]·3Br-为结构导向剂,通过2,7-二(3-三乙氧硅基氨丙酯基)萘(NIS)和四乙氧基硅烷(TEOS)共缩聚,制备了有序的萘基桥联的杂化周期性介孔有机硅(PM... 以短链阳离子三聚表面活性剂[C10H21N+(CH3)2(CH2)2N+(CH3)(C10H21)(CH2)2N+(CH3)2C10H21]·3Br-为结构导向剂,通过2,7-二(3-三乙氧硅基氨丙酯基)萘(NIS)和四乙氧基硅烷(TEOS)共缩聚,制备了有序的萘基桥联的杂化周期性介孔有机硅(PMOs).样品通过X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、氮气吸附-脱附、差示扫描量热/热重分析(DSC/TGA)表征.结果表明,当NIS占NIS和TEOS总量40%(摩尔分数)时,可以形成具有结晶态孔壁的有序介孔杂化材料.当NIS含量低于或高于40%时,分别形成无定形孔壁的有序介孔杂化材料和无孔杂化材料.随着孔壁中萘基基团的增加,由于有机基团之间π-π堆积作用增强,杂化介孔材料显示良好的热稳定性.由于在二氧化硅骨架中嵌入荧光萘基基团,杂化有机-无机有序介孔材料显示了激基缔合物的光学行为.随萘基基团含量的增加,杂化材料的紫外吸收峰发生蓝移,形成H聚集体;由于聚集引起的荧光淬灭,杂化材料的荧光量子产率明显降低. 展开更多
关键词 有机-无机杂化材料 2 7-二(3-三乙氧硅基氨丙酯基)萘 三聚阳离子表面活性剂 荧光 桥联有机硅烷前驱体
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