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题名2μm分辨DMD光刻系统镜头设计
被引量：3
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作者
郭华
周金运
刘志涛
雷亮
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机构
广东工业大学物理电子学
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第3期83-88,共6页
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基金
国家自然科学基金(61475037)
国家自然科学基金青年基金(61107029)资助项目
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文摘
针对2μm分辨力的光刻,在以数字空间微反射器(DMD)为空间光调制器(SLM)的光刻系统中,采用一种新的非对称式结构组合,使用较少的透镜组成了一个高分辨力、大孔径的投影光刻镜头。利用ZEMAX光学设计软件对其进行了建模和优化,最终得到其全视场波像差小于λ/10,畸变小于0.02%,像方数值孔径NA=0.158,最小分辨力为2μm,近轴缩小倍率β=-0.217,其结果有效的减少了DMD栅格效应对空间数字掩模图形的影响,满足数字投影光刻光学系统的各项指标要求。最后,对设计结果进行了公差分析,在修改过少数几个默认公差后,采用Monte Carlo方法进行模拟装配,证明了这种新结构镜头加工和校装的可行性。
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关键词
DMD无掩模光刻
栅格效应
投影镜头
光学设计
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Keywords
DMD maskless lithography
grid effect
projection lens
optical design
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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