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石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
被引量：
5
1
作者
张丽伟
周伶俐
+2 位作者
李瑞
李红菊
卢景霄
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期369-372,共4页
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器...
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5μm.
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关键词
快速光热退火
柱状结晶
多晶硅薄膜
多晶硅薄膜太阳电池
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职称材料
题名
石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
被引量：
5
1
作者
张丽伟
周伶俐
李瑞
李红菊
卢景霄
机构
郑州大学教育部材料物理重点实验室
新乡学院
河南工业大学
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期369-372,共4页
基金
国家重点基础研究973计划(2006CB202601)
文摘
利用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)在已经预沉积有非晶硅薄膜的石英衬底上低温沉积了N/I非晶硅薄膜,对样品进行了两步快速光热(RTP)退火.采用Raman、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等测试仪器对样品退火前后的结晶状况和微观形貌进行了分析.结果表明,该N/I非晶硅薄膜退火后的晶化率达到了94%左右,断面形貌为柱状结构,样品中的平均晶粒尺寸约30nm,晶粒团簇的尺寸最大约1.5μm.
关键词
快速光热退火
柱状结晶
多晶硅薄膜
多晶硅薄膜太阳电池
Keywords
rapid thermal annealing
columnar grain
poly-Si thin film
poly-Si thin film solar cells
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
石英衬底上柱状多晶硅薄膜的制备
张丽伟
周伶俐
李瑞
李红菊
卢景霄
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
5
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