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MEVVA源引出离子束流分布均匀性的初步研究被引量：4: 1; 作者吴先映周凤生 +2 位作者张孝吉张荟星罗云《北京师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1995年第3期338-341,共4页; 通过采用加会切磁场、增大离子源阴极与阳极距离并限制源等离子体发射角，从而使源阳极电位高于等离子体电位和采用改变源阳极结构──仅用阳极筒──从而改变弧放电路径这３种方法，对改善ＭＥＶＶＡ源引出离子束流密度分布的均匀性进... 展开更多; 关键词 MEVVA 束流密度分布等离子体参数离子束分布; 在线阅读下载PDF 职称材料

微型法拉第筒阵列束流均匀性测量被引量：3: 2; 作者胡杨杨海亮 +3 位作者孙剑锋孙江张鹏飞李静雅《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期195-199,共5页; 研制了一种用于测量强流脉冲电子束束流均匀性的微型法拉第筒阵列,其直径为22mm,由5个微型法拉第筒组成,最大可测束流密度为38A/mm2。利用该系统测量了二极管阳极靶面的束流密度,得到了阳极靶面束流均匀性的分布情况。结果显示,阳极靶... 展开更多; 关键词微型法拉第筒阵列束流密度分布均匀性; 在线阅读下载PDF 职称材料

用偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束被引量：14: 3; 作者何小平石磊 +1 位作者张嘉生邱爱慈《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期753-755,共3页; 分析了偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束的原理和影响测量准确度的主要因素 ,研制了一种结构简单的偏压离子法拉第筒阵列 ,利用该装置测量了 2 0 0 k V小型强流脉冲离子束源的束流密度分布 ,束流中心密度最大值约为 1 70 A/cm2 。; 关键词脉冲离子束偏压法拉第筒束流密度分布测量原理; 在线阅读下载PDF 职称材料

应用于纳米级聚焦离子束系统的静电透镜设计被引量：2: 4; 作者李文萍顾文琪《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期829-834,共6页; 在不同束流和能量下对离子光柱体进行了优化设计。给出了用阻尼最小二乘法设计的单个透镜和透镜系统,并研究了像平面处的离子束性能。采用先分解再组合的方法确定单个透镜参数,并以大束流、无限大放大倍数下像差系数与焦距的比为优化目... 展开更多; 关键词聚焦离子束静电透镜阻尼最小二乘法工作模式束流密度分布; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名MEVVA源引出离子束流分布均匀性的初步研究被引量：4: 1; 作者吴先映周凤生张孝吉张荟星罗云; 机构北京师范大学低能核物理研究所; 出处《北京师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1995年第3期338-341,共4页; 基金国家自然科学基金; 文摘通过采用加会切磁场、增大离子源阴极与阳极距离并限制源等离子体发射角，从而使源阳极电位高于等离子体电位和采用改变源阳极结构──仅用阳极筒──从而改变弧放电路径这３种方法，对改善ＭＥＶＶＡ源引出离子束流密度分布的均匀性进行了初步的研究。第３种方法从根本上改变了ＭＥＶＶＡ源引出束分布的高斯分布特性，在合适的条件下可能得到更为均匀的束流密度分布。; 关键词 MEVVA 束流密度分布等离子体参数离子束分布; Keywords MEVVA ion source distribution of ion beam density anode tube Gauss distribution; 分类号 TL657 [核科学技术—核技术及应用]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名微型法拉第筒阵列束流均匀性测量被引量：3: 2; 作者胡杨杨海亮孙剑锋孙江张鹏飞李静雅; 机构强脉冲辐射环境模拟与效应国家重点实验室西北核技术研究所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期195-199,共5页; 基金国家自然科学基金项目(11305128); 文摘研制了一种用于测量强流脉冲电子束束流均匀性的微型法拉第筒阵列,其直径为22mm,由5个微型法拉第筒组成,最大可测束流密度为38A/mm2。利用该系统测量了二极管阳极靶面的束流密度,得到了阳极靶面束流均匀性的分布情况。结果显示,阳极靶面中心处束流密度高于靶面其他位置,靶面束流存在弱箍缩,束流局部均匀,大面积不均匀,束流密度呈径向分布。该结果与理论预期和仿真计算符合较好。; 关键词微型法拉第筒阵列束流密度分布均匀性; Keywords small Faraday eup array current density distribution uniformity; 分类号 TL506 [核科学技术—核技术及应用] O462 [理学—电子物理学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束被引量：14: 3; 作者何小平石磊张嘉生邱爱慈; 机构西北核技术研究所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期753-755,共3页; 基金国家自然科学基金资助课题 !(19970 5 0 3 7); 文摘分析了偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束的原理和影响测量准确度的主要因素 ,研制了一种结构简单的偏压离子法拉第筒阵列 ,利用该装置测量了 2 0 0 k V小型强流脉冲离子束源的束流密度分布 ,束流中心密度最大值约为 1 70 A/cm2 。; 关键词脉冲离子束偏压法拉第筒束流密度分布测量原理; Keywords Faraday cup ion beams biased circuit; 分类号 TL506 [核科学技术—核技术及应用]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名应用于纳米级聚焦离子束系统的静电透镜设计被引量：2: 4; 作者李文萍顾文琪; 机构北京航天航空大学中国科学院电工研究所; 出处《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期829-834,共6页; 基金科技部科学仪器设备升级改造专项项目(No.2005JG100050); 文摘在不同束流和能量下对离子光柱体进行了优化设计。给出了用阻尼最小二乘法设计的单个透镜和透镜系统,并研究了像平面处的离子束性能。采用先分解再组合的方法确定单个透镜参数,并以大束流、无限大放大倍数下像差系数与焦距的比为优化目标。选取工作模式时综合考虑了系统的光学性能和可实现性,大束流下采用平行模式,小束流下采用交叉模式,设计的透镜系统在大、小束流下分别选轴上像差和放大倍数为优化目标。计算表明,2 nA束流下像差为16.33 nm,放大倍数为-0.539 095 5,束斑直径为31.52 nm;2.5 pA束流下像差为2.15 nm,放大倍数为0.084 359 9,束斑直径为4.73 nm。此离子光柱体能够获得纳米量级的离子束,并且只需调整第二透镜第二、第三电极之间的距离以及第二电极电位(对源)就能改变样品处的束能,增加了光柱体的应用范围,实现了一套系统内同时具有刻蚀、沉积、注入和离子成像等功能。; 关键词聚焦离子束静电透镜阻尼最小二乘法工作模式束流密度分布; Keywords focusing ion beam electrostatic lens damped least square method working mode current density contours; 分类号 TN16 [电子电信—物理电子学] TH703 [机械工程—精密仪器及机械]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	MEVVA源引出离子束流分布均匀性的初步研究	吴先映周凤生张孝吉张荟星罗云	《北京师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD	1995	4	在线阅读下载PDF 职称材料
2	微型法拉第筒阵列束流均匀性测量	胡杨杨海亮孙剑锋孙江张鹏飞李静雅	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2015	3	在线阅读下载PDF 职称材料
3	用偏压法拉第筒测量强流脉冲离子束	何小平石磊张嘉生邱爱慈	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2000	14	在线阅读下载PDF 职称材料
4	应用于纳米级聚焦离子束系统的静电透镜设计	李文萍顾文琪	《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	2	在线阅读下载PDF 职称材料