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机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响
1
作者
孔帅
吴敏
+1 位作者
聂凡
曾冬梅
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2022年第11期1878-1883,共6页
采用磁控溅射法在ITO玻璃上制备了CdZnTe薄膜,探究机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响。通过对XRD图谱、Raman光谱、AFM显微照片等实验结果分析阐明了机械磨抛影响CdZnTe薄膜阻变特性的物理机制。研究结果表明,磁控溅射制备的薄膜为闪...
采用磁控溅射法在ITO玻璃上制备了CdZnTe薄膜,探究机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响。通过对XRD图谱、Raman光谱、AFM显微照片等实验结果分析阐明了机械磨抛影响CdZnTe薄膜阻变特性的物理机制。研究结果表明,磁控溅射制备的薄膜为闪锌矿结构,F43m空间群。机械磨抛提高了CdZnTe薄膜的结晶质量;CdZnTe薄膜粗糙度(Ra)由磨抛前的3.42 nm下降至磨抛后的1.73 nm;磨抛后CdZnTe薄膜透过率和162 cm^(-1)处的类CdTe声子峰振动峰增强;CdZnTe薄膜的阻变开关比由磨抛前的1.2增加到磨抛后的4.9。机械磨抛提高CdZnTe薄膜质量及阻变特性的原因可能是CdZnTe薄膜在磨抛过程中发生了再结晶。
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关键词
CDZNTE
磁控溅射
机械磨抛
粗糙度
表面缺陷
阻变特性
再结晶
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职称材料
碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势
被引量：
1
2
作者
罗求发
陈杰铭
+1 位作者
程志豪
陆静
《湖南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期140-152,共13页
碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对...
碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类磨抛技术的特点,指出碳化硅衬底磨抛加工技术面临的挑战和发展趋势,以期为大尺寸碳化硅衬底的高质量、高效率、低成本加工提供新的思路和方法.
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关键词
碳化硅
表面粗糙度
机械磨抛
技术
化学反应
磨
抛
技术
多能场辅助
磨
抛
技术
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职称材料
氢、氘在铌膜中的渗透性研究
3
作者
周燕燕
周鑫
+5 位作者
陈长安
王维
王占雷
饶咏初
梁传辉
周元林
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第15期2596-2600,共5页
难熔金属铌具有机械强度好、选择渗氢速率高、成本低等优点,被认为是可以取代金属钯的渗氢分离材料。有效去除铌表面氧化层是获得快速渗氢性能的关键。采用机械磨抛和高温氢还原方法去除铌膜表面氧化物,并对处理后的铌膜进行了渗氢、渗...
难熔金属铌具有机械强度好、选择渗氢速率高、成本低等优点,被认为是可以取代金属钯的渗氢分离材料。有效去除铌表面氧化层是获得快速渗氢性能的关键。采用机械磨抛和高温氢还原方法去除铌膜表面氧化物,并对处理后的铌膜进行了渗氢、渗氘实验。结果表明:机械磨抛和高温氢还原相结合能有效去除铌膜表面氧化物;600~800℃范围内氢、氘在铌膜中的渗透率(Φ)分别为ΦH=4.98×10-6exp(-6 406.9/T)mol·m-1·s-1·Pa-0.5和ΦD=3.51×10-6exp(-6 418.8/T)mol·m-1·s-1·Pa-0.5,相同温度下,铌中氢同位素渗透率高于CLAM钢,而低于Pd8.5Y0.19Ru合金,这归因于表面残余氧化物对氢同位素的渗透有一定阻滞作用。
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关键词
铌膜
氧化物去除
机械磨抛
高温氢还原
渗透率
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职称材料
题名
机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响
1
作者
孔帅
吴敏
聂凡
曾冬梅
机构
北京石油化工学院新材料与化工学院
出处
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2022年第11期1878-1883,共6页
文摘
采用磁控溅射法在ITO玻璃上制备了CdZnTe薄膜,探究机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响。通过对XRD图谱、Raman光谱、AFM显微照片等实验结果分析阐明了机械磨抛影响CdZnTe薄膜阻变特性的物理机制。研究结果表明,磁控溅射制备的薄膜为闪锌矿结构,F43m空间群。机械磨抛提高了CdZnTe薄膜的结晶质量;CdZnTe薄膜粗糙度(Ra)由磨抛前的3.42 nm下降至磨抛后的1.73 nm;磨抛后CdZnTe薄膜透过率和162 cm^(-1)处的类CdTe声子峰振动峰增强;CdZnTe薄膜的阻变开关比由磨抛前的1.2增加到磨抛后的4.9。机械磨抛提高CdZnTe薄膜质量及阻变特性的原因可能是CdZnTe薄膜在磨抛过程中发生了再结晶。
关键词
CDZNTE
磁控溅射
机械磨抛
粗糙度
表面缺陷
阻变特性
再结晶
Keywords
CdZnTe
magnetron sputtering
mechanical grinding and polishing
roughness
surface defect
resistive switching characteristic
recrystallization
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势
被引量：
1
2
作者
罗求发
陈杰铭
程志豪
陆静
机构
华侨大学制造工程研究院
华侨大学脆性材料产品智能制造技术国家地方联合工程研究中心
高性能工具全国重点实验室
出处
《湖南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期140-152,共13页
基金
国家自然科学基金资助项目(52005190)
福建省自然科学基金资助项目(2021J05060)
+1 种基金
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(ZQN-1022)
国家自然科学基金联合基金重点资助项目(U22A20198)。
文摘
碳化硅衬底难加工的材料特性叠加其大尺寸化、超薄化的放大效应,给现有的加工技术带来了巨大的挑战,高效率、高质量的碳化硅衬底加工技术成了当下的研究热点.本文综述了碳化硅衬底机械磨抛加工技术和化学反应磨抛加工技术的研究进展,对比各类磨抛技术的特点,指出碳化硅衬底磨抛加工技术面临的挑战和发展趋势,以期为大尺寸碳化硅衬底的高质量、高效率、低成本加工提供新的思路和方法.
关键词
碳化硅
表面粗糙度
机械磨抛
技术
化学反应
磨
抛
技术
多能场辅助
磨
抛
技术
Keywords
silicon carbide
surface roughness
mechanical grinding and polishing technology
chemical reac-tion grinding and polishing technology
multi-energy field assisted grinding and polishing technology
分类号
TG74 [金属学及工艺—刀具与模具]
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职称材料
题名
氢、氘在铌膜中的渗透性研究
3
作者
周燕燕
周鑫
陈长安
王维
王占雷
饶咏初
梁传辉
周元林
机构
西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室-省部共建国家重点实验室培育基地
表面物理与化学重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第15期2596-2600,共5页
基金
国家磁约束核聚变能发展国内配套专项课题(2015GB109004)
国家自然科学基金(11775194)
文摘
难熔金属铌具有机械强度好、选择渗氢速率高、成本低等优点,被认为是可以取代金属钯的渗氢分离材料。有效去除铌表面氧化层是获得快速渗氢性能的关键。采用机械磨抛和高温氢还原方法去除铌膜表面氧化物,并对处理后的铌膜进行了渗氢、渗氘实验。结果表明:机械磨抛和高温氢还原相结合能有效去除铌膜表面氧化物;600~800℃范围内氢、氘在铌膜中的渗透率(Φ)分别为ΦH=4.98×10-6exp(-6 406.9/T)mol·m-1·s-1·Pa-0.5和ΦD=3.51×10-6exp(-6 418.8/T)mol·m-1·s-1·Pa-0.5,相同温度下,铌中氢同位素渗透率高于CLAM钢,而低于Pd8.5Y0.19Ru合金,这归因于表面残余氧化物对氢同位素的渗透有一定阻滞作用。
关键词
铌膜
氧化物去除
机械磨抛
高温氢还原
渗透率
Keywords
metallic niobium film
oxides removal
mechanical polishing
high temperature hydrogen reduction
permeation
分类号
TG146.416 [金属学及工艺—金属材料]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响
孔帅
吴敏
聂凡
曾冬梅
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2022
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势
罗求发
陈杰铭
程志豪
陆静
《湖南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
氢、氘在铌膜中的渗透性研究
周燕燕
周鑫
陈长安
王维
王占雷
饶咏初
梁传辉
周元林
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
0
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职称材料
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